JP5058520B2 - Substrate gripping structure, substrate gripping jig, and substrate gripping method - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 518
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 45
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 27
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920006169 Perfluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
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Description
この発明は、基板把持構造、基板把持用治具及び基板把持方法に係り、シリコン基板等の半導体基板や、ガラス基板等の基板を搬送したり、基板に対して成膜処理や現像処理、洗浄処理等の所定の処理を施す場合に、基板を載置して真空吸着によって把持するために適用され、特に、不定形の基板や、比較的小形の基板を把持するための基板把持構造、基板把持用治具及び基板把持方法に関する。 The present invention relates to a substrate gripping structure, a substrate gripping jig, and a substrate gripping method, and transports a semiconductor substrate such as a silicon substrate or a substrate such as a glass substrate, or forms a film on a substrate, develops it, or cleans it. It is applied to place a substrate and hold it by vacuum suction when performing predetermined processing such as processing, and in particular, a substrate holding structure for holding an amorphous substrate, a relatively small substrate, and a substrate The present invention relates to a gripping jig and a substrate gripping method.
従来より、シリコン基板等の処理対象の基板を、スピナ等の基板処理装置へ供給する場合には、例えば、搬送ロボットが、棚段上に基板が多数枚収納されたカセットから、基板を取り出して、基板処理装置へ引き渡すようにしている。
搬送ロボットは、先端部に真空吸着によって基板を把持するための把持機構が設けられた搬送用治具としてのフィンガを有し(例えば、特許文献1参照。)、このフィンガの先端部が、カセットに収納された基板の下方に差し入られた後、例えば、基板の裏面の中央部を吸着して、フィンガを後退させて基板を取り出す。
Conventionally, when a substrate to be processed such as a silicon substrate is supplied to a substrate processing apparatus such as a spinner, for example, a transfer robot takes out the substrate from a cassette in which a large number of substrates are stored on a shelf. Then, it is handed over to the substrate processing apparatus.
The transfer robot has a finger as a transfer jig provided with a holding mechanism for holding the substrate by vacuum suction at the tip (see, for example, Patent Document 1), and the tip of the finger is a cassette. Then, for example, the center part of the back surface of the substrate is sucked and the finger is retracted to take out the substrate.
搬送ロボットは、基板を把持したフィンガを、回動軸の周りに回動させて、かつ、昇降させて、基板を基板処理装置の基板チャックの吸着面へ移送する。
基板処理装置では、基板を吸着面に吸着・把持し、基板に薬液を供給して、薬液による基板の洗浄や、基板への薬液の塗布等を行う。
すなわち、基板チャックにおいては、上面に平面状の上記吸着面が形成され、吸着用孔を経由してエジェクタに到る吸気経路に沿って吸気が行われることによって基板の吸着が行われ、かつ、基板チャックは、所定の回転数で回転駆動され、この状態で、基板にはノズルから薬液が供給されて、基板の洗浄や、基板への薬液の塗布等が行われる(例えば、特許文献2参照。)。
In the substrate processing apparatus, the substrate is adsorbed and held on the adsorption surface, the chemical solution is supplied to the substrate, and the substrate is cleaned with the chemical solution, or the chemical solution is applied to the substrate.
That is, in the substrate chuck, the flat suction surface is formed on the upper surface, and suction is performed along the suction path to the ejector through the suction hole, and the substrate is sucked, and The substrate chuck is driven to rotate at a predetermined number of revolutions, and in this state, a chemical solution is supplied to the substrate from a nozzle to perform cleaning of the substrate, application of the chemical solution to the substrate, and the like (for example, see Patent Document 2). .)
解決しようとする第1の問題点は、上記従来技術では、所定範囲のサイズの基板しか扱うことができず、特に、破損した不定形の基板や、比較的小形の基板を把持することができないという点である。
例えば、III−V属化合物半導体(ガリウム砒素等)や、シリコン、サファイヤ等の基板は、取扱い時に割れ易く、割れた小破片は、たとえ、利用可能としても(例えば、集積回路の形成が可能としても)、廃棄処分するしかなかった。
また、第2の問題点は、上記従来技術では、基板のサイズに応じて、少なくとも、基板を収納するカセットは、複数種類用意しなければならないという点である。このため、作業が煩雑となる上に処理工程におけるコストが嵩んでしまっていた。
The first problem to be solved is that the above prior art can only handle a substrate having a size within a predetermined range, and in particular, cannot hold a damaged irregularly shaped substrate or a relatively small substrate. That is the point.
For example, substrates such as III-V compound semiconductors (gallium arsenide, etc.), silicon, sapphire, and the like are easily cracked during handling, and even if a small broken piece can be used (for example, an integrated circuit can be formed) Also, it had to be disposed of.
The second problem is that in the above-described prior art, it is necessary to prepare at least a plurality of types of cassettes for storing substrates according to the size of the substrates. For this reason, the work is complicated and the cost in the processing process is increased.
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、特に、不定形の基板や、比較的小形の基板も把持することができ、例えば、破損等に関わらず基板の利用率を高めることができる基板把持構造、基板把持用治具及び基板把持方法を提供することを第1の目的としている。
また、例えば、カセット等の汎用性を高め、処理工程におけるコストを低減することができる基板把持構造、基板把持用治具及び基板把持方法を提供することを第2の目的としている。
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and in particular, can hold an irregularly shaped substrate or a relatively small substrate, for example, to increase the utilization rate of the substrate regardless of damage or the like. A first object is to provide a substrate holding structure, a substrate holding jig, and a substrate holding method.
A second object is to provide a substrate gripping structure, a substrate gripping jig, and a substrate gripping method capable of improving versatility of a cassette or the like and reducing the cost in the processing process.
上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、基板を、吸気経路に沿って空気の吸引を行うことによって吸着して、把持するための基板把持構造に係り、所定の形状及び面積を有し、任意の形状及び寸法の前記基板を吸着するための第1の吸引口が設けられた第1の吸着面が形成されていると共に、内部に、前記第1の吸引口へ至る第1の吸気経路が形成された基板把持用治具を介して、前記基板及び前記基板把持用治具を吸着・把持するための第2の吸引口が設けられた第2の吸着面がそれぞれ形成されていると共に、内部に、前記第2の吸引口へ至る第2の吸気経路がそれぞれ形成された二股フィンガの各分岐部によって、前記基板が吸着・把持され、前記第1の吸着面に前記基板が載置され、前記各第2の吸着面に前記基板把持用治具が載置された状態で、前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とが連通され、前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とに沿って、空気の吸引が行われると、前記基板把持用治具の第1の吸着面に前記基板が吸着され、かつ、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面に前記基板把持用治具の裏面の被吸着面が吸着されることで、前記基板が前記二股フィンガの各分岐部によって把持されると共に、前記基板が前記基板把持用治具を介して載置される載置棚には、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面を前記基板把持用治具の裏面の前記被吸着面にまで差し入れると共に、前記基板を吸着・把持したまま、前記二股フィンガの各分岐部を当該載置棚から抜き出すことを可能とするための第1及び第2の凹部が設けられていることを特徴としている。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 relates to a substrate gripping structure for sucking and gripping a substrate by sucking air along an intake path, and has a predetermined shape and area. has, together with the first suction surface of the first suction port for sucking the substrate having any shape and size are provided is formed in the interior, the leading to the first suction port via one of the substrate gripping jig intake path is formed, the second suction surface of the second suction port for sucking-gripping the substrate and the substrate gripping jig is provided is formed respectively together are, inside, by each branch of the second bifurcated fingers second intake paths are formed respectively extending to the suction port, the substrate is adsorbed and grasped, the said first suction surface substrate is placed, the substrate gripping said each second suction surface In a state in which the jig is mounted, said first intake path and said each second intake passage is communicated, along with the first intake passage said each second intake passage, the air When suction is performed, the substrate is attracted to the first suction surface of the substrate gripping jig, and the back surface of the substrate gripping jig is attached to the second suction surface of each branching portion of the bifurcated finger. By adsorbing the attracted surface, the substrate is gripped by each branching portion of the bifurcated finger , and the mounting shelf on which the substrate is placed via the substrate gripping jig has the bifurcated portion. The second suction surface of each branch portion of the finger is inserted into the suction surface on the back surface of the substrate gripping jig , and each branch portion of the bifurcated finger is mounted on the substrate while the substrate is suctioned and gripped. first and second recesses are provided for enabling be withdrawn from the shelf It is characterized in that there.
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の基板把持構造に係り、前記基板把持用治具が、円板状の剛性部材からなり、裏面が前記被吸着面として前記第2の吸着面に当接される基体と、前記基体の上に形成され、円板状の弾性部材からなり、表面が前記第1の吸着面として用いられる基板載置部とを有してなり、前記基体の裏面から前記基板載置部の表面へ至る吸引孔が前記第1の吸気経路として内部に形成されていることを特徴としている。 Further, the invention according to claim 2 relates to the substrate gripping structure according to claim 1, wherein the substrate gripping jig is made of a disc-shaped rigid member, and the back surface is the suction surface. A base that is in contact with a surface; and a substrate mounting portion that is formed on the base and is made of a disk-like elastic member, and whose surface is used as the first suction surface. A suction hole extending from the back surface of the substrate to the surface of the substrate mounting portion is formed inside as the first intake path.
また、請求項3記載の発明は、請求項2記載の基板把持構造に係り、前記基板載置部の前記第1の吸着面としての表面には、複数の前記基板の吸着が可能な複数の前記第1の吸引口が形成されていることを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate gripping structure according to the second aspect, wherein a plurality of the substrates can be adsorbed on the surface of the substrate platform as the first adsorption surface. The first suction port is formed.
また、請求項4記載の発明は、基板を、吸気経路に沿って空気の吸引を行うことによって吸着して、把持するために用いられる基板把持用治具に係り、請求項1、2又は3記載の基板把持構造を構成する基板把持用治具からなることを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate holding jig used for adsorbing and holding a substrate by suctioning air along an intake path. It is characterized by comprising a substrate gripping jig constituting the described substrate gripping structure.
また、請求項5記載の発明は、基板を、吸気経路に沿って空気の吸引を行うことによって吸着して、把持するための基板把持方法に係り、所定の形状及び面積を有し、任意の形状及び寸法の前記基板を吸着するための第1の吸引口が設けられた第1の吸着面が形成されていると共に、内部に、前記第1の吸引口へ至る第1の吸気経路が形成された基板把持用治具を介して、前記基板及び前記基板把持用治具を吸着・把持するための第2の吸引口が設けられた第2の吸着面がそれぞれ形成されていると共に、内部に、前記第2の吸引口へ至る第2の吸気経路がそれぞれ形成された二股フィンガの各分岐部によって、前記基板を吸着・把持し、前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とが連通されるように、前記第1の吸着面に前記基板を載置し、前記各第2の吸着面に前記基板把持用治具を載置し、前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とに沿って、空気の吸引を行って、前記基板を前記基板把持用治具の第1の吸着面に吸着させ、かつ、前記基板把持用治具の裏面の被吸着面を前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面に吸着させることで、前記基板を前記二股フィンガの各分岐部によって把持すると共に、前記基板が前記基板把持用治具を介して載置される載置棚に、あらかじめ、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面を前記基板把持用治具の裏面の前記被吸着面にまで差し入れると共に、前記基板を吸着・把持したまま、前記二股フィンガの各分岐部を当該載置棚から抜き出すことを可能とするための第1及び第2の凹部を設けておくことを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate gripping method for sucking and gripping a substrate by sucking air along an intake path, and has a predetermined shape and area, and has an arbitrary shape. A first suction surface provided with a first suction port for sucking the substrate having the shape and size is formed, and a first intake path leading to the first suction port is formed therein . through the substrates grasping jig, the second suction surface of the second suction port for sucking-gripping the substrate and the substrate gripping jig is provided are formed, the internal in the by each branch of the second bifurcated fingers second intake paths are formed respectively extending to the suction port, the substrate and the adsorbent-grasping, wherein the first intake passage each second intake passage The substrate is placed on the first suction surface so as to communicate with each other. And, wherein the placing the substrate gripping jig to each second adsorption surface, along with the first intake passage said each second intake passage, by performing the suction of air, the substrate By adsorbing to the first adsorption surface of the substrate holding jig and adsorbing the adsorption surface of the back surface of the substrate holding jig to the second adsorption surface of each branch portion of the bifurcated finger, said substrate while held by the branch portion of the bifurcated fingers, to placing shelf which the substrate is placed through the substrate gripping jig, preliminarily, the second adsorption of each branch portion of the bifurcated fingers In order to insert the surface up to the attracted surface on the back surface of the substrate gripping jig and to extract each branching portion of the bifurcated finger from the mounting shelf while attracting and gripping the substrate It is characterized in that preferably provided with first and second recesses
この発明の構成によれば、載置棚の基板を、基板把持用治具を介して、把持機構によって吸着・把持するので、特に、不定形の基板や、比較的小形の基板も把持することができ、例えば、破損等に関わらず基板の利用率を高めることができる。
また、例えば、比較的大面積の基板把持用治具を用い、この基板把持用治具のサイズに合わせた基板収納用のカセットを用いることによって、同一種のカセットに異なるサイズの基板を混在させて収納し、同一サイズの基板のように扱うことができるので、例えば、カセット等の汎用性を高め、処理工程におけるコストを低減することができる。
According to the configuration of the present invention, the substrate on the mounting shelf is attracted and gripped by the gripping mechanism via the substrate gripping jig, and therefore, in particular, it can grip an irregularly shaped substrate or a relatively small substrate. For example, the utilization factor of the substrate can be increased regardless of damage or the like.
Further, for example, by using a substrate holding jig having a relatively large area and using a cassette for storing a substrate that matches the size of the substrate holding jig, substrates of different sizes can be mixed in the same type of cassette. Can be handled like a substrate of the same size, for example, the versatility of a cassette or the like can be improved and the cost in the processing step can be reduced.
基板を、基板把持用治具を介して、把持機構によって吸着・把持することによって、特に、不定形の基板や、比較的小形の基板も把持可能として、例えば、破損等に関わらず基板の利用率を高めるという第1の目的を実現した。
また、例えば、比較的大面積の基板把持用治具を用い、この基板把持用治具のサイズに合わせた基板収納用のカセットを用いることによって、同一種のカセットに異なるサイズの基板を混在させて収納し、同一サイズの基板のように扱うことができ、例えば、カセット等の汎用性を高め、処理工程におけるコストを低減するという第2の目的を実現した。
By attracting and gripping a substrate with a gripping mechanism via a substrate gripping jig, it is possible to grip an indeterminately shaped substrate or a relatively small substrate. The first purpose of increasing the rate was realized.
Further, for example, by using a substrate holding jig having a relatively large area and using a cassette for storing a substrate that matches the size of the substrate holding jig, substrates of different sizes can be mixed in the same type of cassette. The second purpose of, for example, enhancing the versatility of cassettes and the like and reducing the cost in the processing steps has been realized.
図1は、この発明の第1の実施例である基板把持用治具の構成を示す平面図、図2は、同基板把持用治具の構成を示す断面図、図3は、基板搬送時に同基板把持用治具を介して基板が把持された状態を示す断面図、図4は、基板処理時に同基板把持用治具を介して基板が把持された状態を示す断面図、図5は、同基板を、搬送ロボットによって、収納カセットから基板処理装置へ搬送する方法を説明するための説明図、図6は、同搬送ロボット及び同基板処理装置の構成を説明するためのブロック図、図7は、同収納カセットの載置棚の構成を示す断面図、図8は、同基板処理装置の構成を示す断面図、また、図9は、同基板処理装置の基板受渡用治具の構成を示す平面図である。 FIG. 1 is a plan view showing the configuration of a substrate holding jig according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the substrate holding jig, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where the substrate is held via the substrate holding jig, FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where the substrate is held via the substrate holding jig during substrate processing, and FIG. FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a method of transporting the substrate from the storage cassette to the substrate processing apparatus by the transport robot, and FIG. 6 is a block diagram for explaining the configuration of the transport robot and the substrate processing apparatus. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of the mounting shelf of the storage cassette, FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of the substrate processing apparatus, and FIG. 9 is the configuration of the substrate delivery jig of the substrate processing apparatus FIG.
この例の基板把持用治具1は、図5に示すように、例えば、任意の形状及び寸法のシリコン基板等の基板Sを、搬送ロボット2が、基板Sが収納された収納カセット3から取り出してスピナ等の基板処理装置4へ搬送したり、基板処理装置4によって、基板Sに対して所定の処理を施す場合に、基板Sを把持するために用いられ、図1乃至図4に示すように、円板状部材からなる基部6の上に、基板Sが載置される円板状部材からなる基板載置部7が形成されて(例えば、ライニング加工されて)概略構成されている。
基部6及び基板載置部7は、共に中央部に、吸引孔6a,7aが形成され、両吸引孔6a,7aが連通するように基部6と基板載置部7とが重ね合わされて接合されている。
In the substrate gripping jig 1 of this example, as shown in FIG. 5, for example, a substrate S such as a silicon substrate having an arbitrary shape and size is taken out from a storage cassette 3 in which the transfer robot 2 stores the substrate S. Used to hold the substrate S when the substrate S is transported to the substrate processing apparatus 4 such as a spinner or when the substrate processing apparatus 4 performs a predetermined process on the substrate S, as shown in FIGS. In addition, a
The
この例の基板搬送時の基板把持構造9は、図3に示すように、表面側の吸着面7bに基板Sが載置される基板把持用治具1が、搬送ロボット2のフィンガ16の先端部に形成された吸着面16aに載置された状態で、フィンガ16に吸着・把持されて概略構成され、吸着面7bに基板Sが載置されて吸引孔7aが塞がれ、裏面側の被吸着面6bがフィンガ16の吸着面16aに載置されて、吸引孔6aと吸引孔16bとが連通され、真空吸着によって、吸引孔6a,7a及び吸引路28に沿って吸気されて、フィンガ16に基板把持用治具1が吸着されると共に、基板Sは基板把持用治具1に押し付けられることによって、基板S及び基板把持用治具1がフィンガ16に吸着・把持される。
As shown in FIG. 3, the
また、この例の基板処理時の基板把持構造11は、図4に示すように、表面側の吸着面7bに基板Sが載置される基板把持用治具1が、基板処理装置4の基板チャック36の吸着面36aに載置された状態で、基板チャック36に吸着・把持されて概略構成され、吸着面7bに基板Sが載置されて吸引孔7aが塞がれ、裏面側の被吸着面6bが基板チャック36の吸着面36aに載置されて、吸引孔6aと吸引孔36bとが連通され、真空吸着によって、吸引孔6a,7a及び吸引路47に沿って吸気されて、基板チャック36に基板把持用治具1が吸着されると共に、基板Sは基板把持用治具1に押し付けられることによって、基板S及び基板把持用治具1が基板チャック36に吸着・把持される。
In addition, as shown in FIG. 4, the
基板把持用治具1の基部6は、例えば、剛性部材としてのステンレス製の円板状部材からなり、比較的大面積(この例では、直径略50mm)とされ、厚さは基板S(この例では、厚さ略300μm)と同程度(この例では、略0.5mm)とされる。また、基部6としては、反りや、周端面にばりが発生していないか又は除去された基板が用いられる。なお、この例では、基部6の表面は、弗素樹脂(PFA(テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)等)コーティング処理がなされている。
The
基板載置部7は、基板Sを構成する材料としての例えばシリコン基板に対して、傷を付けない程度の硬度を有すると共に、例えばシリコン基板に対して、摩擦係数が比較的高く、かつ、溶剤(基板処理装置4で用いられる薬剤)に対する耐性が高く、熱伝導係数も比較的高い弾性材料が選択され、例えば、パーフルオロエラストマ等が用いられる。
また、基板載置部7は、基部6上に、ライニング加工等によって形成され、この例では、直径略16mmとされ、厚さは基板Sと同程度(この例では、略0.5mm)とされる。
また、この例では、吸引孔6a,7aの径は、フィンガ16の先端部に形成された吸引孔16bや、基板チャック36の上面に形成された吸引孔36bの径よりも若干小さく(例えば略3mm)設定される。
The
The
Further, in this example, the diameters of the suction holes 6a and 7a are slightly smaller than the diameters of the
搬送ロボット2は、図5に示すように、鉛直方向(z軸方向)に沿って変位可能な胴部13と、胴部13の先端部に取り付けられ、鉛直方向に平行な回動軸の周りに回動可能な第1アーム14と、第1アーム14の先端部に取り付けられ、鉛直方向に平行な回動軸の周りに回動可能な第2アーム15と、第2アーム15の先端部に取り付けられ、鉛直方向に平行な回動軸の周りに回動可能で、先端部に真空吸着によって基板把持用治具1及び基板Sを吸着・把持するための吸着面16aが形成された平板状のフィンガ16と、胴部駆動部17と、第1アーム駆動部18と、第2アーム駆動部19と、フィンガ駆動部21と、ロボットコントローラ22とを有している。ここで、フィンガ16の厚さは、収納カセット3の載置棚32間の間隙よりも小さく設定される。
As shown in FIG. 5, the transport robot 2 is attached to a
なお、この例では、胴部駆動部17と、第1アーム駆動部18と、第2アーム駆動部19と、フィンガ駆動部21とは、サーボモータ等を有してなっている。
ロボットコントローラ22は、図6に示すように、CPU(中央処理装置)等を有してなる主制御部23と、主制御部23が実行する処理プログラムや各種データ等を記憶するための記憶部24と、操作部25と、胴部駆動部17、第1アーム駆動部18、第2アーム駆動部19、及びフィンガ駆動部21を構成するサーボモータ等を制御駆動するためのモータ駆動部26とを備えたコンピュータ等の情報処理装置によって構成されている。
In this example, the
As shown in FIG. 6, the
搬送ロボット2においては、第1アーム14、第2アーム15及びフィンガ16が、それぞれの回動軸の周りに同時に回転することによって、フィンガ16の先端部は、水平面上の所定の直線又は曲線に沿って変位する。
搬送ロボット2を構成する胴部13、第1アーム14、第2アーム15及びフィンガ16の内部には、それぞれ、空気を吸引するための吸引路28が形成されている。この例の搬送ロボット2では、フィンガ16の先端部の吸着面16aを基部6の被吸着面6bに近接させた状態で、図示せぬ減圧装置(エジェクタ等)を作動させることにより、上記吸引路28に沿って空気が吸引されて、基板把持用治具1及び基板Sが、フィンガ16の吸着面16aに吸着・把持されることとなる。
なお、吸引路28の先端の吸引孔16bの径が、吸引孔6a,7aの径より若干大きく設定されていることによって、吸引孔6aの裏面側縁部が吸着される。
In the transfer robot 2, the
A
The diameter of the
搬送ロボット2は、フィンガ16を、収納カセット3に収納され、基板Sが載置された基板把持用治具1の下方に差し入れた後、例えば、基板Sの裏面側の中央部及び基板把持用治具1の吸引孔6aの裏面側縁部を吸着して、基板Sが基板把持用治具1に押し付けられることによって、かつ、基板把持用治具1の吸引孔6aの裏面側縁部を吸着することによって、基板S及び基板把持用治具1を、フィンガ16によって吸着・把持し、基板S及び基板把持用治具1を取り出す。
この後、基板処理装置4の基板受渡部41の基板受渡用治具51の載置部51aに、基板Sを載置して基板Sの引渡しを行う。
The transfer robot 2 stores the
Thereafter, the substrate S is placed on the
収納カセット3は、図5及び図7に示すように、処理対象の基板Sを、鉛直方向に沿って配置されるように多数枚収納するための多数の棚状の収納部31,31,…を有し、各収納部31は、基板Sを載置した基板把持用治具1の裏面側の被吸着面6bの周縁部を載置する載置棚32を有し、各載置棚32は、フィンガ16の先端部が差し入れされ、基板把持用治具1の被吸着面6bの中央部にフィンガ16の先端部を導いて接触させるための略U字形の凹部33を有している。
各載置棚32は、例えば、PFA(テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)等の基板把持用治具1を構成するステンレス等に対して摩擦係数が比較的小さい(摺動性が比較的高い)材料からなっている。
ここで、搬送ロボット2のフィンガ16が、収納部31間に形成された間隙に差し入れられて、基板Sが載置された基板把持用治具1が収納部31から取り出される。
As shown in FIGS. 5 and 7, the storage cassette 3 has a large number of shelf-shaped
Each mounting
Here, the
基板処理装置4は、シリコン基板等の処理対象の基板Sに薬液を供給して、薬液による基板Sの洗浄や、基板Sへの薬液の塗布等を行うための回転式の基板処理装置(スピナ)であって、図5、図6及び図8に示すように、容器35内に収容され、基板Sを真空吸着によって把持する基板チャック36と、基板チャック36を回転駆動する基板チャック駆動部37と、基板Sに薬液を供給するためのノズル38を含む薬液供給部39と、基板Sを搬送ロボット2のフィンガ16から受け取って基板チャック36へ引き渡す基板受渡部41と、構成各部を制御するスピナコントローラ42とを備えてなっている。
The substrate processing apparatus 4 supplies a chemical solution to a substrate S to be processed such as a silicon substrate, and cleans the substrate S with a chemical solution, applies a chemical solution to the substrate S, and the like. 5, 6, and 8, the
また、容器35の外壁部43は、薬液の飛散を防止するために、基板Sを支持している基板チャック36を取り囲むようにカップ状に形成されている。また、容器35の底部には廃液貯留部44が形成され、廃液貯留部44の底部の所定の部位には、薬液を排出するための排出管45が接続されている。なお、図8は、基板処理装置1の基板Sを除いた状態を示している。
廃液貯留部44は、基板チャック36の回転軸と回転対称軸が共通の断面円環状の略円筒形状を呈している。
Further, the
The waste
ここで、廃液貯留部44の内壁部44aの上部には、基板チャック36の回転軸を囲むように、逆漏斗形状(漏斗を伏せた形状)の薬液受け部材46が連接されている。
なお、薬液受け部材46の上部には、水平面に対して外周側へ向けて下方に所定の傾斜角で傾斜したフランジ部46aが形成され、このフランジ部46aの上面に薬液が吹き付けられても薬液を外周側へ向けて流下させて、薬液の基板チャック36の回転軸側への侵入が防止されるように構成されている。
また、廃液貯留部44の底面44bは、排出管45の入口へ向けて薬液が流下するように水平面に対して傾斜するように形成されている。
Here, a chemical
Note that a
Further, the
基板チャック36は、上面に平面状の吸着面36aが形成され、先端部の吸引孔36bからエジェクタに到る吸引路47に沿って吸気が行われることによって基板Sの吸着が行われる。なお、吸引孔36bの径が、吸引孔6a,7aの径より若干大きく設定されていることによって、吸引孔6aの裏面側縁部が吸着される。
基板チャック駆動部37は、ACサーボモータを有し、基板チャック36を所定の回転数(例えば、数十rpm〜数千rpm)で回転させる。
The
The substrate
薬液供給部39は、薬液が基板Sへ向けて滴下されるディスペンサを構成するノズル38と、ノズル38へ薬液を送る薬液供給ポンプ(不図示)と、ノズル38を変位させるノズル駆動部49とを有している。
ノズル駆動部49は、両先端部にノズル38が所定の離隔を保って取り付けている例えばU字状のアーム(不図示)と、このアームの根元部を通る鉛直方向に沿った回動軸の周りに所定の角度範囲でアームを回動させる例えばステッピングモータとを有している。
The chemical
The
基板受渡部41は、図8に示すように、基板Sを載置した基板把持用治具1が載置される基板受渡用治具51と、基板受渡用治具51をシャフト52によって垂下状態で支持する支持部53と、支持部53を鉛直方向に沿って変位させるための昇降用アクチュエータ54と、支持部53を昇降用アクチュエータ54と共に水平面に沿って変位させるための水平移動用アクチュエータ55とを有している。
基板受渡用治具51は、図9に示すように、基板Sを載置した基板把持用治具1の裏面側の被吸着面6bの周縁部を載置する載置部51aを有し、載置部51aは、基板把持用治具1を把持したフィンガ16の先端部が差し入れられると共に、基板チャック36の吸着面36aとの干渉を回避するための略U字形の凹部51bを有している。
As shown in FIG. 8, the
As shown in FIG. 9, the
ここで、基板受渡用治具51に対して上方からフィンガ16が下降して、フィンガ16の先端部が凹部51bを通過すると同時に、基板Sを載置した基板把持用治具1が載置部51aに載置され、基板Sを載置した基板把持用治具1を載置した基板受渡用治具51が、基板チャック36の吸着面36aに対して上方から下降して、凹部51bが吸着面36aの周りを通過すると同時に、基板Sを載置した基板把持用治具1が吸着面36aに載置される。
Here, the
スピナコントローラ42は、図6に示すように、CPU(中央処理装置)等を有してなる主制御部57と、主制御部57が実行する処理プログラムや各種データ等を記憶するための記憶部58と、操作部59と、基板チャック駆動部37及びノズル駆動部49を構成するモータを制御駆動するためのモータ駆動部61と、昇降用シリンダアクチュエータ54及び水平移動用シリンダアクチュエータ55を構成する電磁弁を制御する電磁弁制御部62とを備えたコンピュータ等の情報処理装置によって構成されている。
As shown in FIG. 6, the
次に、図3、図5、図7及び図9を参照して、この例の基板把持用治具1を用いた基板搬送方法について説明する。
搬送ロボット2の主制御部23は、モータ駆動部26を制御して、フィンガ駆動部21等を駆動させて、図5及び図7に示すように、フィンガ16を、収納部31間に形成された間隙に差し入れ、収納カセット3に収納され、基板Sが載置された基板把持用治具1の下方に配置した後、例えば、基板Sの裏面側の中央部及び基板把持用治具1の吸引孔6aの裏面側縁部を吸着する。
ここで、図3に示すように、フィンガ16の先端部の吸着面16aを基部6の被吸着面6bに接触又は近接させた状態で、吸引路28に沿って空気が吸引されて、基板把持用治具1及び基板Sが、フィンガ16の吸着面16aに吸着・把持される。
Next, a substrate transport method using the substrate gripping jig 1 of this example will be described with reference to FIG. 3, FIG. 5, FIG. 7, and FIG.
The
Here, as shown in FIG. 3, air is sucked along the
すなわち、表面側の吸着面7bに基板Sが載置されて吸引孔7aが塞がれ、裏面側の被吸着面6bが搬送ロボット2のフィンガ16の先端部に形成された吸着面16aに載置されて、吸引孔6aと、フィンガ16の先端部に形成された吸引孔16bとが連通され、真空吸着によって、吸引孔6a,7a及び吸引路28に沿って吸気されて、フィンガ16に基板把持用治具1が吸着されると共に、基板Sは基板把持用治具1に押し付けつけられて、基板S及び基板把持用治具1がフィンガ16に吸着・把持される。
こうして、基板Sが基板把持用治具1に押し付けられることによって、かつ、基板把持用治具1の吸引孔6aの裏面側縁部を吸着することによって、基板S及び基板把持用治具1を、フィンガ16によって吸着・把持した状態で、主制御部23は、モータ駆動部26を制御して、フィンガ駆動部21等を駆動させ、基板S及び基板把持用治具1を取り出す。
In other words, the substrate S is placed on the
In this way, when the substrate S is pressed against the substrate gripping jig 1 and by adsorbing the back side edge of the
この後、主制御部23は、モータ駆動部26を制御して、フィンガ駆動部21等を駆動させ、基板処理装置4の基板受渡部41の基板受渡用治具51の載置部51aの直上に、基板Sを移動させる。
次に、主制御部23は、モータ駆動部26を制御して、胴部駆動部17等を駆動させ、基板受渡用治具51に対して上方からフィンガ16を下降させる。こうして、図9に示すように、フィンガ16の先端部が凹部51bを通過すると同時に、基板Sを載置した基板把持用治具1が載置部51aに載置され、基板Sの引渡しが行われる。
Thereafter, the
Next, the
次に、基板処理装置4の主制御部57は、電磁弁制御部62を制御して、基板受渡部41の水平移動用アクチュエータ55を駆動させて、基板受渡用治具51を基板チャック36の吸着面36aの直上に移動させた後、昇降用アクチュエータ54を駆動させ、基板Sを載置した基板把持用治具1を載置した基板受渡用治具51を、吸着面36aに対して上方から下降させる。こうして、凹部51bが吸着面36aの周りを通過すると同時に、基板Sを載置した基板把持用治具1が吸着面36aに載置される。
主制御部57は、電磁弁制御部62を制御して、水平移動用アクチュエータ55を駆動させて、基板受渡用治具51を基板チャック36から離反させた後、昇降用アクチュエータ54を駆動させて、基板受渡用治具51を引き上げる。
Next, the
The
次に、図4を参照して、この例の基板把持用治具1を用いた基板処理方法について説明する。
基板チャック36の吸着面36aに、図4に示すように、基板Sを載置した基板把持用治具1が載置された状態で、先端部の吸引孔36bからエジェクタに到る吸引路47に沿って吸気が行われることによって基板Sの吸着・把持されると、基板処理装置4の主制御部57は、モータ駆動部61を制御して、基板チャック36を所定の回転数で回転させながら、ノズル38から所定の薬液を所定時間滴下させる。
Next, a substrate processing method using the substrate gripping jig 1 of this example will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4, a
ここで、表面側の吸着面7bに基板Sが載置されて吸引孔7aが塞がれ、裏面側の被吸着面6bが基板チャック36の吸着面36aに載置されて、吸引孔6aと、吸引孔36bとが連通され、真空吸着によって、吸引孔6a,7a及び吸引路47に沿って吸気されて、基板チャック36に基板把持用治具1が吸着されると共に、基板Sは基板把持用治具1に押し付けられて、基板S及び基板把持用治具1が基板チャック36に吸着・把持される。なお、吸引孔36bの径が、吸引孔6a,7aの径より若干大きく設定されていることによって、吸引孔6aの裏面側縁部が吸着される。
Here, the substrate S is placed on the
このように、この例の構成によれば、基板Sを基板把持用治具1を介してフィンガ16や、基板チャック36によって吸着・把持するので、その形状及び寸法に関わらず、特に、基板破片等の不定形の基板Sや、比較的小形(直径40mm以下の小口径)の基板Sでも把持することができ、破損等に関わらず基板の利用率を高めることができる。
また、例えば、比較的大面積の基板把持用治具1を用い、この基板把持用治具1のサイズに合わせた収納カセット3を用いることによって、同一種の収納カセット3に異なるサイズの基板を混在させて収納し、同一サイズの基板のように扱うことができるので、収納カセットの汎用性を高め、処理工程におけるコストを低減することができる。
また、基板載置部7の材料としては、例えばシリコンに対して、摩擦係数が比較的高い材料が用いられるので、基板Sがずれたり、脱落したりすることを防止することができる。また、基板載置部7が緩衝機能を有していることによって、基板Sを衝撃から保護することができる。
As described above, according to the configuration of this example, the substrate S is attracted and held by the
Further, for example, by using the substrate holding jig 1 having a relatively large area and using the storage cassette 3 matched to the size of the substrate holding jig 1, substrates of different sizes can be placed in the same type of storage cassette 3. Since they can be stored together and handled like substrates of the same size, the versatility of the storage cassette can be improved and the cost in the processing steps can be reduced.
Moreover, as a material of the
図10は、この発明の第2の実施例である基板把持用治具の構成を説明するための平面図、また、図11は、基板搬送時に同基板把持用治具を介して基板が把持された状態を示す断面図である。
この例が上述した第1の実施例と大きく異なるところは、基板把持用治具の基板載置部に、複数の吸気孔を設けた点である。
これ以外の構成は、上述した第1の実施例の構成と略同一であるので、第1の実施例と同一の構成要素については、例えば、図10及び図11において、図1及び図2で用いた符号と同一の符号を用いて、その説明を簡略にする。
FIG. 10 is a plan view for explaining the configuration of the substrate gripping jig according to the second embodiment of the present invention. FIG. 11 shows the substrate gripped through the substrate gripping jig during substrate transport. It is sectional drawing which shows the state made.
This example is greatly different from the first embodiment described above in that a plurality of intake holes are provided in the substrate mounting portion of the substrate gripping jig.
Since the configuration other than this is substantially the same as the configuration of the first embodiment described above, the same constituent elements as those of the first embodiment will be described with reference to FIGS. The description is simplified by using the same reference numerals as those used.
この例の基板把持用治具1Aは、図10及び図11に示すように、円板状部材からなる基部6の上に、基板片Sa,Sb,Scが載置される円板状部材からなる基板載置部61が形成されて概略構成されている。
基部6の中央部には、吸引孔6aが形成されている。また、基板載置部61には、中央部と周縁部とに、複数の吸引孔61a1,61a2,…が形成されている。基部6と基板載置部61とは、吸引孔6a,吸引孔61aが連通するように重ね合わされて接合され、この状態で、61a2,61a3,…と、吸引孔61a1,吸引孔6aとは、ずい道部61cによって、連通されている。
As shown in FIGS. 10 and 11, the substrate gripping jig 1 </ b> A of this example is formed from a disk-shaped member on which substrate pieces Sa, Sb, Sc are placed on a
A
この例では、表面側の吸着面61bに基板片Sa,Sb,Scが載置されて61a1,61a2,…が塞がれ、裏面側の被吸着面6bが搬送ロボット2のフィンガ16の先端部に形成された吸着面16aに載置されて、吸引孔6aと、フィンガ16の先端部に形成された吸引孔16bとが連通され、真空吸着によって、吸引孔6a,吸引孔61a1(61a2,61a3,…)及び吸引路28に沿って吸気されて、フィンガ16に基板把持用治具1が吸着されると共に、基板Sa,Sb,Scは基板把持用治具1Aに押し付けつけられて、基板Sa,Sb,Sc及び基板把持用治具1Aがフィンガ16に吸着・把持される。
In this example, substrate pieces Sa, Sb, Sc are placed on the
この例の構成によれば、上述した第1の実施例と略同様の効果を得ることができる。
加えて、複数の基板片を載置して、同時に搬送及び処理を行うことができる。
According to the configuration of this example, substantially the same effect as that of the first embodiment described above can be obtained.
In addition, a plurality of substrate pieces can be placed and simultaneously transported and processed.
図12は、この発明の第3の実施例である基板把持用治具を介して、搬送時に基板が把持された状態を示す断面図、また、図13は、同基板が収納される収納カセットの載置棚の構成を示す断面図である。
この例が上述した第1の実施例と大きく異なるところは、基板載置部の吸気孔を中央部に設け、基体の吸気孔を周縁部に設けた点である。
これ以外の構成は、上述した第1の実施例の構成と略同一であるので、第1の実施例と同一の構成要素については、図12及び図13において、図3及び図7で用いた符号と同一の符号を用いて、その説明を簡略にする。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state in which the substrate is gripped during transport via the substrate gripping jig according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a storage cassette in which the substrate is stored. It is sectional drawing which shows the structure of this mounting shelf.
This example is greatly different from the first embodiment described above in that the suction hole of the substrate mounting portion is provided in the central portion and the suction hole of the base is provided in the peripheral portion.
Since the other configuration is substantially the same as the configuration of the first embodiment described above, the same components as those of the first embodiment are used in FIGS. 3 and 7 in FIGS. 12 and 13. The same reference numerals are used to simplify the description.
この例の基板把持用治具1Bは、図12及び図13に示すように、円板状部材からなる基部63の上に、基板Sが載置される円板状部材からなる基板載置部7が形成されて概略構成されている。
基部63には、表面側の中央部に吸気孔63aが、裏面側の周縁部に吸気孔63b,63bが形成され、吸気孔63aと、両吸気孔63b,63bとは、ずい道部63cによって連通されている。
基板載置部7には、中央部に、吸引孔7aが形成され、両吸引孔63a,7aが連通するように基部63と基板載置部7とが重ね合わされて接合されている。
As shown in FIGS. 12 and 13, the substrate gripping jig 1 </ b> B of this example is a substrate mounting portion made of a disk-like member on which a substrate S is placed on a
The
A
この例の搬送ロボットのフィンガ16Aは、先端側が二股状に分岐したY字形状に成形され、各分岐部64の先端部には、基板把持用治具1Bの裏面側の被吸着面の周縁部が載置される吸着面64aが形成されている。ここで、基板把持用治具1Bは、吸着面64a上に吸気孔63bと吸引孔64bとが重なるように載置される。
また、この例の収納カセットの収納部31Aの載置棚32Aは、フィンガ16Aの分岐部64,64が差し入れられ、基板把持用治具1Bの被吸着面の周縁部にフィンガ16Aの分岐部64,64を導いて接触させるための略U字形の凹部65,65を有している。
The finger 16A of the transfer robot in this example is formed in a Y-shape with the front end branching into a bifurcated shape, and the peripheral portion of the attracted surface on the back side of the substrate gripping jig 1B is formed at the front end of each
In addition, the mounting
この例の構成によれば、上述した第1の実施例と略同様の効果を得ることができる。
加えて、例えば、基板処理装置において、基板受渡部を廃して構成を簡略化し、基板Sの搬送(受渡し)を迅速化させることができる。
According to the configuration of this example, substantially the same effect as that of the first embodiment described above can be obtained.
In addition, for example, in the substrate processing apparatus, the configuration can be simplified by eliminating the substrate delivery section, and the transport (delivery) of the substrate S can be speeded up.
図14は、この発明の第4の実施例である基板把持用治具の構成を示す断面図である。
この例が上述した第1の実施例と大きく異なるところは、基板把持用治具の基部の周縁部に、その全周に亘って、壁部を形成した点である。
これ以外の構成は、上述した第1の実施例の構成と略同一であるので、第1の実施例と同一の構成要素については、図14において、図2で用いた符号と同一の符号を用いて、その説明を簡略にする。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing the structure of a substrate holding jig according to a fourth embodiment of the present invention.
This example is greatly different from the first embodiment described above in that a wall portion is formed around the entire periphery of the base portion of the substrate gripping jig.
Since the other configuration is substantially the same as the configuration of the first embodiment described above, the same reference numerals as those used in FIG. 2 are used in FIG. 14 for the same components as those of the first embodiment. The explanation will be simplified.
この例の基板把持用治具1Cは、図14に示すように、円板状部材からなる基部67の上に、基板Sが載置される円板状部材からなる基板載置部7が形成されて概略構成されている。
基部67及び基板載置部7は、共に中央部に、吸引孔67a,7aが形成され、両吸引孔67a,7aが連通するように基部67と基板載置部7とが重ね合わされて接合されている。
この例の基部67には、周縁部に全周に亘って、基板Sの取出し時や、受渡し時に、基板Sの脱落を防止するための壁部67bが形成されている。壁部67bには、所定の箇所に、例えば、基板処理時に、薬液を排出するための排出孔67pが形成されている。
In the substrate gripping jig 1C of this example, as shown in FIG. 14, a
The
In the
この例の構成によれば、上述した第1の実施例と略同様の効果を得ることができる。
加えて、基部67の周縁部には、壁部67bが形成されているので、例えば、基板Sの取出し時や、受渡し時に、基板Sの脱落を確実に防止することができる。
According to the configuration of this example, substantially the same effect as that of the first embodiment described above can be obtained.
In addition, since the
図15は、この発明の第5の実施例である基板把持用治具を介して、搬送時に基板が把持される様子を示す断面図である。
この例が上述した第1の実施例と大きく異なるところは、基板搬送時に、フィンガによって基板把持用治具を上方から吸引可能なように構成した点である。
これ以外の構成は、上述した第1の実施例の構成と略同一であるので、第1の実施例と同一の構成要素については、図15において、図3で用いた符号と同一の符号を用いて、その説明を簡略にする。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where a substrate is gripped during transport via a substrate gripping jig according to a fifth embodiment of the present invention.
This example is greatly different from the first embodiment described above in that the substrate holding jig can be sucked from above by a finger during substrate transfer.
Since the other configuration is substantially the same as the configuration of the first embodiment described above, the same reference numerals as those used in FIG. 3 are used in FIG. 15 for the same components as those of the first embodiment. The explanation will be simplified.
この例の基板把持用治具1Dは、図15に示すように、円板状部材からなる基部69の上に、基板Sが載置される円板状部材からなる基板載置部7が形成されて概略構成されている。
基部69には、表面側の中央部に吸気孔69aが、表面側の周縁部に円環状の吸気溝69bが形成され、吸気孔69aと吸気溝69bとは、複数のずい道部69cによって連通されている。
In the substrate gripping jig 1D of this example, as shown in FIG. 15, a
The
基板載置部7には、中央部に、吸引孔7aが形成され、両吸引孔69a,7aが連通するように基部69と基板載置部7とが重ね合わされて接合されている。
この例の搬送ロボットのフィンガ16Bは、先端部の下面側に、基部69の表面の周縁部を吸着するための円環状の吸着面71aが形成され、円環状の吸気溝71bが吸気溝69bとが重なるように配置された状態で、基板把持用治具1Dを吸着・把持して、後退させるか又は引き上げる。
A
In the finger 16B of the transfer robot of this example, an
この例の構成によれば、上述した第1の実施例と略同様の効果を得ることができる。
加えて、基板が、例えばトレイ上に平面的に配置されている場合でも、基板を容易に取り出すことができる。
According to the configuration of this example, substantially the same effect as that of the first embodiment described above can be obtained.
In addition, the substrate can be easily taken out even when the substrate is disposed on a tray in a planar manner, for example.
以上、この発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
例えば、上述した実施例では、基板処理装置としてスピナに適用する場合について述べたが、被処理体としての基板を必ずしも回転させない場合にも適用できる。この場合、基板をステージに載置するのみとして、必ずしも吸着させなくても良い。
The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and there are design changes and the like without departing from the gist of the present invention. Are also included in the present invention.
For example, in the above-described embodiments, the case where the substrate processing apparatus is applied to a spinner has been described. However, the present invention can also be applied to a case where the substrate as the object to be processed is not necessarily rotated. In this case, it is not always necessary to adsorb the substrate only on the stage.
また、基板把持用治具の基部の材料としては、ステンレスに限らず、アルミニウムや、他の金属、合金を用いても良いし、合成樹脂やセラミックスを用いても良い。
また、基板載置部の材料として、ビニリデンフルオライド(VDF)系弗素ゴムを含む弗素ゴムや、ブチルゴム、エチレン−プロピレンゴム、クロロプレンゴム、ヒドリンゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム等を用いるようにしても良い。また、合成ゴムのほか、天然ゴムを用いても良い。
Further, the material of the base of the substrate gripping jig is not limited to stainless steel, and aluminum, other metals, alloys may be used, and synthetic resin or ceramics may be used.
In addition, as a material for the substrate mounting part, fluorine rubber including vinylidene fluoride (VDF) fluorine rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, chloroprene rubber, hydrin rubber, nitrile rubber, acrylic rubber, silicone rubber, urethane rubber, etc. It may be used. In addition to synthetic rubber, natural rubber may be used.
また、基板把持用治具の基部と基板載置部とは、一体化されていても良い。すなわち、同一の材料から製造されたものであっても良い。また、基板載置部を廃し、基部上に基板を直接載置するようにしても良い。ここで、基部の表面を所定の表面粗さとなるように処理しておいても良い。
また、基板把持用治具を構成する基部と基板載置部は、平板状部材とは限らず、例えば、基部の裏面は、曲面を含んでいても良い。
Further, the base portion of the substrate gripping jig and the substrate mounting portion may be integrated. That is, it may be manufactured from the same material. Alternatively, the substrate placement unit may be eliminated and the substrate may be placed directly on the base. Here, the surface of the base may be processed to have a predetermined surface roughness.
Moreover, the base part and the substrate mounting part that constitute the substrate gripping jig are not limited to flat members, and the back surface of the base part may include a curved surface, for example.
また、基板把持用治具は、半導体デバイスの製造のため以外に、基板として、例えば、光ディスク基板を処理して、光ディスクを製造する場合に適用できる。
また、搬送ロボットにおいて、2組のアーム(第1アーム及び第2アーム)を設ける場合について述べたが、一方を廃しても良い。また、搬送ロボットは、単一組の胴体部、第1アーム、第2アーム及びフィンガを備える場合について述べたが、第1アーム、第2アーム及びフィンガを2組(一対)設けるようにしても良いし、3組以上設けるようにしても良い。また、動力源として、少なくとも一部で、エアを用いるようにしても良い。
なお、第1アーム又は第2アームを省略する場合には、収納カセットの載置棚の凹部の入口部を拡大するようにしても良い。
Further, the substrate holding jig can be applied not only for manufacturing a semiconductor device but also for manufacturing an optical disc by processing, for example, an optical disc substrate as a substrate.
Moreover, although the case where two pairs of arms (first arm and second arm) are provided in the transfer robot has been described, one of them may be eliminated. In addition, the case where the transfer robot includes a single body unit, the first arm, the second arm, and the finger has been described. However, two sets (a pair) of the first arm, the second arm, and the finger may be provided. It is also possible to provide three or more sets. Further, air may be used as at least a part of the power source.
When the first arm or the second arm is omitted, the entrance portion of the concave portion of the storage shelf of the storage cassette may be enlarged.
また、基板処理装置において、容器を昇降させる場合に、シリンダアクチュエータは、容器昇降用と、基板受渡し治具昇降用とで、兼用するようにしても良い。また、容器等の昇降をモータを用いて行うようにしても良い。
また、基板処理装置において、基板チャック上に、複数の基板把持用治具及び基板が把持可能なように構成しても良い。
In the substrate processing apparatus, when the container is moved up and down, the cylinder actuator may be used both for lifting the container and for lifting the substrate delivery jig. Moreover, you may make it raise / lower a container etc. using a motor.
In the substrate processing apparatus, a plurality of substrate gripping jigs and substrates may be gripped on the substrate chuck.
また、基板受渡治具昇降用及び水平移動用のシリンダアクチュエータに代えて、例えば、パルスモータ(ステッピングモータ)とボールねじとを用いて、基板受渡し治具を変位させるようにしても良い。また、基板受渡治具の水平方向の移動(例えば、退避時の変位)を、手動により変位させるようにしても良い。
また、基板受渡用治具を用いる方法に代えて、第5の実施例で述べた上方から吸着する方法を用いても良い。また、基板受渡用治具を一対の互いに拡開可能な部材から構成するようにしても良い。
Further, instead of the cylinder actuators for raising and lowering the substrate delivery jig and for horizontal movement, for example, a pulse delivery motor (stepping motor) and a ball screw may be used to displace the substrate delivery jig. Further, the horizontal movement (for example, displacement at the time of retraction) of the substrate delivery jig may be manually displaced.
Further, instead of using the substrate delivery jig, the method of adsorbing from above described in the fifth embodiment may be used. Further, the substrate delivery jig may be composed of a pair of mutually expandable members.
また、薬液の滴下は、スタティックディスペンス法によってもダイナミックディスペンス法によっても良い。また、薬液を滴下する場合に限らず、スプレーする場合にも適用できる。
また、容器の外壁部を鉛直方向に沿って可動として、高さ調節可能なように構成しても良い。また、容器には、蓋部を設けて、薬剤飛散防止機能を強化するようにしても良い。
また、容器の形状は、円筒状に限らず、角筒状であっても良い。また、廃液貯留部の断面も円環状に限らず、角環状であっても良いし、排出管も円管であっても角管であっても良い。
また、基板処理装置は、洗浄工程のほか、レスト等の塗布工程や、現像工程で用いるようにしても良い。
Further, the chemical solution may be dropped by a static dispensing method or a dynamic dispensing method. Moreover, it is applicable not only when dripping a chemical | medical solution but also when spraying.
Further, the outer wall portion of the container may be movable along the vertical direction so that the height can be adjusted. Further, the container may be provided with a lid portion to enhance the medicine scattering prevention function.
Further, the shape of the container is not limited to a cylindrical shape, and may be a rectangular tube shape. Further, the cross section of the waste liquid storage part is not limited to an annular shape, but may be an annular shape, and the discharge pipe may be a circular tube or a rectangular tube.
In addition to the cleaning process, the substrate processing apparatus may be used in a coating process such as a rest or a development process.
また、第1の実施例で、基板受渡用治具によって、基板及び基板把持用治具を、搬送ロボットから受け取って、基板チャックへ引き渡すまでの間に、吸着・把持するようにしても良い。
また、基板把持用治具の裏面の吸引孔の縁部を吸引するだけでなく、基板把持用治具のみを吸引する(基板把持用治具の吸引孔に連通しない)吸引孔をフィンガや基板チャックの内部に分岐させて設けても良い。また、基板把持用治具1の裏面の吸引孔の縁部を吸引せずに、吸着面に基板が吸着されて基板把持用治具に押し付けられるのみで、基板及び基板把持用治具が吸着・把持されるように構成しても良い。
Further, in the first embodiment, the substrate and the substrate holding jig may be sucked and held by the substrate delivery jig until they are received from the transfer robot and delivered to the substrate chuck.
In addition to sucking the edge of the suction hole on the back side of the substrate gripping jig, it sucks only the substrate gripping jig (not communicating with the suction hole of the substrate gripping jig). You may branch and provide in the inside of a chuck. Further, without sucking the edge of the suction hole on the back surface of the substrate gripping jig 1, the substrate and the substrate gripping jig are sucked only by being sucked onto the suction surface and pressed against the substrate gripping jig. -You may comprise so that it may be hold | gripped.
また、第2の実施例で、例えば、吸引孔61a1と、吸引孔61a2,61a3,…とを連通するずい道部は、基部及び基板載置部に溝部を形成することによって形成しても良いし、溝部を一方のみに形成するようにしても良い。
また、第3の実施例では、基板を、基板処理装置の基板チャックの吸着面に載置する際に、容器の外壁部を鉛直方向に沿って、下方へ変位させても良いし、基板チャックを鉛直方向に沿って上方へ変位させても良い。
In the second embodiment, for example, the path portion that communicates the suction hole 61a1 and the suction holes 61a2, 61a3,... May be formed by forming a groove in the base portion and the substrate mounting portion. However, the groove may be formed only on one side.
In the third embodiment, when placing the substrate on the suction surface of the substrate chuck of the substrate processing apparatus, the outer wall of the container may be displaced downward along the vertical direction. May be displaced upward along the vertical direction.
また、第4の実施例では、基部の周縁部に、その全周に亘って、連続的に壁部を形成し、かつ、排出孔を設けた場合について述べたが、排出孔に代えて切欠き部を設けても良いし、壁部を断続的に設けても良い。また、孔部や切欠き部を設けずに連続的に壁部を形成しても良い。
また、第5の実施例では、基板把持用治具の裏面側にも、吸引孔を設けて、基板チャックへ引き渡して、このまま吸着させるようにしても良い。この場合、基板処理時に基板把持用治具の表面側の吸引孔に蓋材を載置して吸着させると共にこの吸引孔を塞ぐようにしても良い。また、基板把持用治具の基部とフィンガとに、円環状の吸気溝を設ける場合について述べたが、所定の箇所で吸着するようにしても良い。
Further, in the fourth embodiment, a case has been described in which a wall portion is continuously formed around the entire periphery of the base portion and a discharge hole is provided. A notch part may be provided and a wall part may be provided intermittently. Moreover, you may form a wall part continuously, without providing a hole part and a notch part.
Further, in the fifth embodiment, a suction hole may be provided on the back side of the substrate gripping jig so as to be delivered to the substrate chuck and sucked as it is. In this case, at the time of substrate processing, a lid member may be placed on the suction hole on the surface side of the substrate gripping jig and adsorbed, and the suction hole may be closed. In addition, although the case where the annular intake groove is provided in the base and finger of the substrate gripping jig has been described, it may be adsorbed at a predetermined location.
また、第5の実施例では、基板を収納カセットに鉛直方向に沿って配置されるように収納する場合に限らず、基板を、例えば、格子状に仕切られたトレイ上に平面的に載置して収納して、上方からアクセスして取り上げて、移送するようにしても良い。
ここで、トレイをxyテーブル上に載置して、x軸方向及びy方向に沿って変位可能とし、基板の取出し時にフィンガをz軸方向に沿って変位させるのみとして、搬送の迅速化を図るようにしても良い。
Further, in the fifth embodiment, the substrate is not limited to the case where the substrate is stored in the storage cassette so as to be arranged along the vertical direction, but the substrate is placed in a plane on, for example, a tray partitioned in a lattice shape. Then, it may be stored, accessed from above, taken up, and transferred.
Here, the tray is placed on the xy table so as to be displaceable along the x-axis direction and the y-direction, and only the finger is displaced along the z-axis direction when taking out the substrate, thereby speeding up the conveyance. You may do it.
処理対象の半導体基板として、シリコン基板のほか、III−V属化合物半導体(例えば、ガリウム砒素)基板等を搬送又は処理する場合に適用できる。また、基板として、半導体基板のほか、例えば、透明なガラス基板や、サファイヤ基板等を搬送又は処理する場合に適用できる。 As a semiconductor substrate to be processed, the present invention can be applied to a case where a III-V compound semiconductor (for example, gallium arsenide) substrate or the like is transferred or processed in addition to a silicon substrate. In addition to a semiconductor substrate, for example, a transparent glass substrate, a sapphire substrate, or the like can be used as the substrate.
1,1A,1B,1C,1D 基板把持用治具
2 搬送ロボット
3 収納カセット
4 基板処理装置
6 基部(基体)
6a 吸引孔(第1の吸気経路の一部)
7 基板載置部
7a 吸引孔(第1の吸引口、第1の吸気経路の一部)
7b 吸着面(第1の吸着面)
9,11 基板把持構造
16,16A,16B フィンガ(把持機構)
16a,64a,71a 吸着面(第2の吸着面)
16b,64b,71b 吸引孔(第2の吸引口)
28 吸引路(第2の吸気経路)
36 基板チャック(把持機構)
36a 吸着面(第2の吸着面)
36b 吸引孔(第2の吸引口)
47 吸引路(第2の吸気経路)
61 基板載置部
61a1,61a2,… 吸引孔(第1の吸引口、第1の吸気経路の一部)
61b 吸着面(第1の吸着面)
61c ずい道部(第1の吸気経路の一部)
63 基部(基体)
63a,63b 吸引孔(第1の吸気経路の一部)
63c ずい道部(第1の吸気経路の一部)
67 基部(基体)
67 吸引孔(第1の吸気経路の一部)
69 基部(基体)
69a,69b 吸引孔(第1の吸気経路の一部)
69c ずい道部(第1の吸気経路の一部)
S 基板
Sa,Sb,Sc 基板片(基板)
1, 1A, 1B, 1C, 1D Substrate gripping jig 2 Transfer robot 3 Storage cassette 4
6a Suction hole (part of the first intake path)
7
7b Suction surface (first suction surface)
9, 11
16a, 64a, 71a adsorption surface (second adsorption surface)
16b, 64b, 71b Suction hole (second suction port)
28 Suction path (second intake path)
36 Substrate chuck (gripping mechanism)
36a Suction surface (second suction surface)
36b Suction hole (second suction port)
47 Suction path (second intake path)
61 Substrate placing portion 61a1, 61a2, ... Suction hole (first suction port, part of first suction path)
61b Suction surface (first suction surface)
61c Sway (part of the first intake path)
63 Base (base)
63a, 63b Suction hole (part of the first intake path)
63c Sway (part of the first intake path)
67 Base (base)
67 Suction hole (part of the first intake path)
69 Base (base)
69a, 69b Suction hole (part of the first intake path)
69c Sway (part of the first intake path)
S substrate Sa, Sb, Sc substrate piece (substrate)
Claims (5)
所定の形状及び面積を有し、任意の形状及び寸法の前記基板を吸着するための第1の吸引口が設けられた第1の吸着面が形成されていると共に、内部に、前記第1の吸引口へ至る第1の吸気経路が形成された基板把持用治具を介して、
前記基板及び前記基板把持用治具を吸着・把持するための第2の吸引口が設けられた第2の吸着面がそれぞれ形成されていると共に、内部に、前記第2の吸引口へ至る第2の吸気経路がそれぞれ形成された二股フィンガの各分岐部によって、前記基板が吸着・把持され、
前記第1の吸着面に前記基板が載置され、前記各第2の吸着面に前記基板把持用治具が載置された状態で、前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とが連通され、
前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とに沿って、空気の吸引が行われると、前記基板把持用治具の第1の吸着面に前記基板が吸着され、かつ、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面に前記基板把持用治具の裏面の被吸着面が吸着されることで、前記基板が前記二股フィンガの各分岐部によって把持されると共に、
前記基板が前記基板把持用治具を介して載置される載置棚には、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面を前記基板把持用治具の裏面の前記被吸着面にまで差し入れると共に、前記基板を吸着・把持したまま、前記二股フィンガの各分岐部を当該載置棚から抜き出すことを可能とするための第1及び第2の凹部が設けられていることを特徴とする基板把持構造。 A substrate gripping structure for sucking and gripping a substrate by sucking air along an intake path,
A first suction surface having a predetermined shape and area and provided with a first suction port for sucking the substrate having an arbitrary shape and size is formed, and the first suction surface is formed inside the first suction surface. Through the substrate gripping jig in which the first intake path leading to the suction port is formed,
With the second suction surface on which the substrate and the second suction port for sucking-gripping the substrate gripping jig is provided are formed in the interior, the leading to the second suction port by each branch of the 2 bifurcated fingers intake path is formed respectively, the substrate is adsorbed and grasped,
In a state where the substrate is placed on the first suction surface and the substrate gripping jig is placed on each second suction surface, the first suction path and each second suction path Communicated with
When air is sucked along the first intake path and each of the second intake paths, the substrate is adsorbed on the first adsorption surface of the substrate gripping jig, and the bifurcated by the attracted surface of the back surface of the substrate gripping jig to the second suction surface of each branch portion of the finger is adsorbed, together with the substrate is gripped by each branch of the bifurcated fingers,
On the mounting shelf on which the substrate is placed via the substrate gripping jig , the second suction surface of each branch portion of the bifurcated finger is set to the suctioned surface on the back surface of the substrate gripping jig. In addition, first and second recesses are provided to enable each branching portion of the bifurcated finger to be extracted from the mounting shelf while adsorbing and holding the substrate. A substrate gripping structure.
請求項1、2又は3記載の基板把持構造を構成する基板把持用治具からなることを特徴とする基板把持用治具。 A substrate holding jig used for adsorbing and holding a substrate by sucking air along an intake path,
A substrate gripping jig comprising the substrate gripping jig constituting the substrate gripping structure according to claim 1, 2 or 3.
所定の形状及び面積を有し、任意の形状及び寸法の前記基板を吸着するための第1の吸引口が設けられた第1の吸着面が形成されていると共に、内部に、前記第1の吸引口へ至る第1の吸気経路が形成された基板把持用治具を介して、
前記基板及び前記基板把持用治具を吸着・把持するための第2の吸引口が設けられた第2の吸着面がそれぞれ形成されていると共に、内部に、前記第2の吸引口へ至る第2の吸気経路がそれぞれ形成された二股フィンガの各分岐部によって、前記基板を吸着・把持し、
前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とが連通されるように、前記第1の吸着面に前記基板を載置し、前記各第2の吸着面に前記基板把持用治具を載置し、
前記第1の吸気経路と前記各第2の吸気経路とに沿って、空気の吸引を行って、前記基板を前記基板把持用治具の第1の吸着面に吸着させ、かつ、前記基板把持用治具の裏面の被吸着面を前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面に吸着させることで、前記基板を前記二股フィンガの各分岐部によって把持すると共に、
前記基板が前記基板把持用治具を介して載置される載置棚に、あらかじめ、前記二股フィンガの各分岐部の第2の吸着面を前記基板把持用治具の裏面の前記被吸着面にまで差し入れると共に、前記基板を吸着・把持したまま、前記二股フィンガの各分岐部を当該載置棚から抜き出すことを可能とするための第1及び第2の凹部を設けておくことを特徴とする基板把持方法。 A substrate gripping method for adsorbing and gripping a substrate by sucking air along an intake path,
A first suction surface having a predetermined shape and area and provided with a first suction port for sucking the substrate having an arbitrary shape and size is formed, and the first suction surface is formed inside the first suction surface. Through the substrate gripping jig in which the first intake path leading to the suction port is formed,
With the second suction surface on which the substrate and the second suction port for sucking-gripping the substrate gripping jig is provided are formed in the interior, the leading to the second suction port by each branch of the 2 bifurcated fingers intake path is formed respectively, the substrate was adsorbed and grasped,
The substrate is placed on the first suction surface so that the first suction path and each second suction path communicate with each other, and the substrate holding jig is placed on each second suction surface. Placed
Air is sucked along the first air intake path and each second air intake path to adsorb the substrate to the first adsorption surface of the substrate holding jig, and the substrate holding the attaching object face of the back surface of the use jig that is adsorbed in the second adsorption surface of each branch portion of the bifurcated fingers, said substrate while held by the branch portion of the bifurcated fingers,
The second suction surface of each branching portion of the bifurcated finger is previously placed on the suction surface on the back surface of the substrate gripping jig on the mounting shelf on which the substrate is placed via the substrate gripping jig. And a first recess and a second recess for allowing each branching portion of the bifurcated finger to be extracted from the mounting shelf while adsorbing and holding the substrate. A substrate gripping method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006166755A JP5058520B2 (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Substrate gripping structure, substrate gripping jig, and substrate gripping method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006166755A JP5058520B2 (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Substrate gripping structure, substrate gripping jig, and substrate gripping method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007335687A JP2007335687A (en) | 2007-12-27 |
JP5058520B2 true JP5058520B2 (en) | 2012-10-24 |
Family
ID=38934854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006166755A Expired - Fee Related JP5058520B2 (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Substrate gripping structure, substrate gripping jig, and substrate gripping method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5058520B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6122790B2 (en) * | 2014-01-24 | 2017-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | Peeling device and peeling system |
CN111564403A (en) * | 2020-05-11 | 2020-08-21 | Tcl华星光电技术有限公司 | Substrate bearing table and substrate processing method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59169784A (en) * | 1983-03-17 | 1984-09-25 | 富士通株式会社 | Robotic hand equipped with an adapter for picking up dissimilar parts |
JP2005109057A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | Substrate carrying instrument |
JP4573763B2 (en) * | 2005-12-01 | 2010-11-04 | 信越ポリマー株式会社 | Adsorption device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110131 |
|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110921 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111102 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20111209 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120709 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
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R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |