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JP2662033B2 - Radiation curable adhesive tape - Google Patents

Radiation curable adhesive tape

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Publication number
JP2662033B2
JP2662033B2 JP1171242A JP17124289A JP2662033B2 JP 2662033 B2 JP2662033 B2 JP 2662033B2 JP 1171242 A JP1171242 A JP 1171242A JP 17124289 A JP17124289 A JP 17124289A JP 2662033 B2 JP2662033 B2 JP 2662033B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
adhesive tape
sensitive adhesive
film
curable pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1171242A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0337286A (en
Inventor
伸一 石渡
倫生 上山
和繁 岩本
勇 野口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP1171242A priority Critical patent/JP2662033B2/en
Publication of JPH0337286A publication Critical patent/JPH0337286A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2662033B2 publication Critical patent/JP2662033B2/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、各種半導体を製造する工程において使用す
る粘着テープに関し、さらに詳しくいえば、例えばパタ
ーンを形成したウエハを一つ一つのパターン毎に切断し
半導体素子として分割する際に使用する半導体ウエハ固
定用の放射線硬化性粘着テープに関するものである。
The present invention relates to an adhesive tape used in a process of manufacturing various semiconductors, and more specifically, for example, a pattern-formed wafer is formed for each pattern. The present invention relates to a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape for fixing a semiconductor wafer, which is used when cutting and dividing as a semiconductor element.

(従来の技術) 従来、回路パターンの形成された半導体ウエハを素子
小片に切断分離するダイシング加工を行う際は、ダイレ
クトピックアップ方式がとられている。これは半導体ウ
エハを予め粘着テープに貼付けて固定しておき、この半
導体ウエハを回転丸刃により素子形状に沿って切断し、
固定用粘着テープを放射状に延伸することによって素子
と素子の間隔を若干広げ、次いでこの素子小片をニード
ル等により突き上げるとともにエアピンセット等にて粘
着テープ上よりピックアップする方式である。
(Prior Art) Conventionally, a direct pick-up method has been used when performing dicing for cutting and separating a semiconductor wafer on which a circuit pattern is formed into element pieces. In this method, a semiconductor wafer is pasted and fixed on an adhesive tape in advance, and the semiconductor wafer is cut along a device shape by a rotating round blade,
The fixing adhesive tape is radially stretched to slightly widen the space between the elements, and then the element pieces are pushed up with a needle or the like and picked up from the adhesive tape with air tweezers or the like.

この方式では、回転丸刃を用いての半導体ウエハ切断
時に回転丸刃の冷却と切断屑の除去を目的として、2kg/
cm2程度の水圧下洗浄水を回転丸刃と半導体ウエハに放
水する。このため、ダイシング加工時の素子固定粘着力
は回転丸刃による切断衝撃力に耐えると同時に、この洗
浄水の水圧に耐え得るだけの力が必要とされ、この意味
では素子固定粘着力は強ければ強いほど良い。しかし、
この素子固定粘着力が強すぎると、粘着テープから素子
のピックアップが困難となり素子の破損等を生じる。す
なわち、このダイシング加工時とピックアップ時それぞ
れの素子固定粘着力を素子小片の大きさに合わせて制御
しなければならない。粘着テープの粘着力はダイシング
時及びピックアップ時において不変であるため、ダイシ
ング時には素子の飛散が無く、ピックアップ時には素子
にダメージを与えないような粘着力を素子小片の大きさ
に合わせて設定する必要がある。また近年の集積度の増
大したLSI用素子のように25mm2あるいはそれ以上の大き
さのものでは一つ一つの素子固定粘着力が大きくなりす
ぎ、粘着テープからピックアップが困難となり上記のダ
イレクトピックアップ方式が適用できないという問題が
生じていた。
In this method, at the time of cutting the semiconductor wafer using the rotating round blade, 2 kg /
Cleaning water under a water pressure of about 2 cm 2 is discharged onto the rotating round blade and the semiconductor wafer. For this reason, the element fixing adhesive force at the time of dicing processing must be strong enough to withstand the cutting impact force of the rotating round blade and at the same time to withstand the water pressure of the washing water. In this sense, if the element fixing adhesive force is strong, The stronger the better. But,
If the adhesive strength for fixing the element is too strong, it is difficult to pick up the element from the adhesive tape, and the element may be damaged. That is, the element fixing adhesive force at the time of dicing and at the time of pickup must be controlled in accordance with the size of the element piece. Since the adhesive strength of the adhesive tape does not change during dicing and pick-up, it is necessary to set the adhesive force according to the size of the element piece so that the element does not scatter during dicing and does not damage the element during pick-up. is there. In addition, with the size of 25 mm 2 or more, such as LSI elements with increased integration in recent years, the adhesive strength for fixing each element becomes too large, making it difficult to pick up from the adhesive tape, and the above direct pickup method There was a problem that was not applicable.

そこでこの問題を解決するため放射線硬化性粘着テー
プを用いるピックアップ方式が提案されている。これは
放射線、例えば紫外線のような光、または電子線のよう
な電離性放射線を透過する支持体と、この支持体上に塗
工された放射線照射により硬化する性質を有する粘着剤
層とからなる半導体ウエハ固定用粘着テープにより、ダ
イシング加工時の素子固定粘着力を強粘着力とし、半導
体ウエハを素子小片に切断分離後、支持体側より放射線
照射を行い放射線硬化性粘着剤層を硬化させて、素子固
定粘着力を大幅に低下させ素子小片の大きさに関係な
く、例えば25mm2以上の大きな素子であっても容易にピ
ックアップする事が出来るようにした方式である。
In order to solve this problem, a pickup system using a radiation-curable adhesive tape has been proposed. It is composed of a support that transmits radiation, for example, light such as ultraviolet light, or ionizing radiation such as an electron beam, and a pressure-sensitive adhesive layer coated on the support and having a property of being cured by irradiation with radiation. With the adhesive tape for fixing the semiconductor wafer, the element fixing adhesive force at the time of dicing processing is made to be a strong adhesive force, after cutting and separating the semiconductor wafer into element pieces, irradiating radiation from the support side to cure the radiation-curable adhesive layer, This is a method in which the element fixing adhesive force is greatly reduced so that a large element of, for example, 25 mm 2 or more can be easily picked up regardless of the size of the element piece.

この提案された方式は、放射線透過性の支持体上に放
射線硬化性粘着剤を塗工した半導体ウエハ固定用粘着テ
ープの粘着剤中に含まれる放射線硬化性化合物を放射線
照射によって硬化させ粘着剤に三次元網状化構造を与え
て、その流動性を著しく低下させる原理に基づくもので
ある。このような粘着テープ及び粘着剤としては、特開
昭60−196956号、特開昭60−201642号、特開昭61−2857
2号、特開昭62−10180号等に開示されたものがある。
In this proposed method, a radiation-curable compound contained in the adhesive of a semiconductor wafer fixing adhesive tape in which a radiation-curable adhesive is coated on a radiation-transmissive support is cured by irradiation with radiation to form an adhesive. It is based on the principle of providing a three-dimensional network structure and significantly reducing its fluidity. Such pressure-sensitive adhesive tapes and pressure-sensitive adhesives include JP-A-60-196956, JP-A-60-201642, and JP-A-61-2857.
No. 2, JP-A-62-10180 and the like.

(発明が解決しようとする課題) このような従来の放射線硬化性粘着テープは、基材フ
ィルムとしてポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート等に代表される放射線透過性材料を用
い、これらの単独樹脂層からなるフィルム状支持体の一
方の面に、上記に例示されたような放射線硬化性粘着剤
を塗工して得られるものである。
(Problems to be Solved by the Invention) Such a conventional radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape has a base material film which transmits radiation such as polyvinyl chloride, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, and polyethylene terephthalate. It is obtained by applying a radiation-curable pressure-sensitive adhesive as exemplified above to one surface of a film-like support composed of these single resin layers, using a conductive material.

しかしながら近年の生産性の向上、自動化に伴う工程
精度の向上などの要求の増大に対応して粘着テープに対
する要求水準も高まっている。しかし従来の放射線硬化
性粘着テープは、これらの要求を満足しうるものではな
く、次のような点が解決すべき課題としてあげられる。
However, in response to increasing demands such as improvement of productivity in recent years and improvement of process accuracy accompanying automation, the demand level of pressure-sensitive adhesive tapes is also increasing. However, conventional radiation-curable pressure-sensitive adhesive tapes cannot satisfy these requirements, and the following points are to be solved.

(1)放射線硬化性粘着テープを使用し、半導体ウエハ
等のダイシング加工を行う際粘着テープ上に貼り合わせ
た半導体ウエハの回転丸刃による切断加工により受ける
衝撃や、半導体ウエハ自体の重さによって粘着テープに
はかなりの張力がかかる。そしてこのため柔軟な樹脂を
使用した粘着テープではこれらの張力によりフィルム状
支持体に伸びが生じ、粘着テープの中央部から陥没した
ような弛みが発生する。もしこのような弛みの発生した
粘着テープを次の工程に移送するためキャリアーカセッ
ト内に収納すると、上記粘着テープの弛みにより収納が
できない場合やキャリアーカセット内でウエハ同士が接
触するといった不都合が生じる。また粘着テープの弛み
により素子小片間の間隙が狭くなり素子の端部が隣合う
他の素子と接触し損傷を受けるといった問題が発生す
る。
(1) When using a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape to perform dicing on a semiconductor wafer or the like, the semiconductor wafer bonded to the pressure-sensitive adhesive tape may be cut by a rotary round blade, or may adhere due to the weight of the semiconductor wafer itself. The tape is under considerable tension. For this reason, in the case of an adhesive tape using a flexible resin, these tensions cause the film-shaped support to elongate, and the adhesive tape is loosened as if depressed from the center. If the loosened pressure-sensitive adhesive tape is stored in a carrier cassette in order to be transferred to the next step, there is a problem that the pressure-sensitive adhesive tape cannot be stored due to the looseness of the pressure-sensitive adhesive tape or the wafers come into contact with each other in the carrier cassette. In addition, loosening of the adhesive tape narrows the gap between the element pieces, causing a problem that the end of the element comes into contact with another adjacent element and is damaged.

(2)放射線硬化性粘着テープは、素子のピックアップ
の事前処理として素子固定粘着力を低下させるため放射
線照射を行う。この放射線照射の際には、少なからず赤
外領域の光線を照射されるために発生する熱によって粘
着テープは加熱される。このため上記熱等により新たな
粘着テープの伸びや部分的なシワが発生する。これらの
伸びやシワは、放射線硬化性粘着剤の硬化により素子が
ピックアップされる最終工程まで保持されるため、工程
間の移送に使用されるキャリアーカセットに収納出来な
くなるばかりでなく、素子のピックアップ工程において
も素子間隙のばらつきが生じ素子のピックアップ不良を
引き起こす原因にもなる。
(2) The radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape is irradiated with radiation in order to reduce the element-fixing adhesive force as a pre-treatment for element pickup. At the time of this radiation irradiation, the adhesive tape is heated by the heat generated by irradiating a considerable amount of light in the infrared region. For this reason, the heat or the like causes new elongation of the adhesive tape and partial wrinkles. These elongations and wrinkles are held until the final step in which the element is picked up by the curing of the radiation-curable adhesive, so that not only can it not be stored in a carrier cassette used for transfer between steps, but also in the element pick-up process. In this case, variations in the element gap are caused, which also causes a defective pickup of the element.

本発明の目的は上記の問題点を一挙に解決できる放射
性硬化性粘着テープを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape that can solve the above problems at once.

より具体的には、本発明の目的は粘着テープに半導体
ウエハを張り合わせダイシング加工を行った際に粘着テ
ープに伸びや弛みを生ずることがなく、また素子固定粘
着力を低下させるため放射線照射を行っても新たな伸び
や部分的なシワの発生がなく、最終のピックアップ工程
を含む全工程を良好に実施しうるようにした放射線硬化
性粘着テープを提供することである。
More specifically, an object of the present invention is to apply a semiconductor wafer to an adhesive tape so that the adhesive tape does not elongate or loosen when dicing is performed, and that radiation is applied to reduce the element fixing adhesive force. However, an object of the present invention is to provide a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape which is free from new elongation and partial wrinkles, and is capable of satisfactorily performing all steps including a final pickup step.

さらに本発明の目的は何らかの外的要因によって粘着
テープの伸びや弛みが発生したとしても放射線照射工程
における加熱作用及び放射線照射後の冷却により粘着テ
ープの伸びや弛みが急速に解消される放射線硬化性粘着
テープを提供することである。
Further, the object of the present invention is to provide a radiation curing property in which even if elongation or loosening of the adhesive tape occurs due to some external factor, the elongation or loosening of the adhesive tape is rapidly eliminated by the heating action in the irradiation step and cooling after irradiation. The purpose is to provide an adhesive tape.

(課題を解決するための手段) 本発明者らは当初、粘着テープのフィルム状支持体と
して二軸延伸により形成された加熱により収縮しうる放
射線透過性のプラスチックフィルムに注目した。しか
し、このようなフィルムを使用した場合、放射線照射工
程において発生する熱により収縮するので、粘着テープ
の伸びや弛み等は解消されるがフィルム状支持体の持つ
収縮率が大きすぎることにより、素子間隙の部分的な広
がりが生じる。またダイシング時の切込み深さが深い場
合には上記素子間にて粘着テープの破断が生じた。さら
に上記二軸延伸フィルムや架橋フィルムではフィルム状
支持体自体の剛性が高く素子のピックアップの際にフィ
ルムの変形が起こりにくいため、素子固定粘着力が十分
に低下している場合には一つの素子をピックアップする
際の衝撃が他の素子に伝わり、他の素子において位置ず
れを生じるなどの問題点のあることが確認された。
(Means for Solving the Problems) The present inventors initially focused on a radiation-transparent plastic film formed by biaxial stretching and capable of contracting by heating, as a film-like support for an adhesive tape. However, when such a film is used, since the film shrinks due to heat generated in the radiation irradiation step, elongation or loosening of the adhesive tape is eliminated, but the shrinkage rate of the film-like support is too large, so that the device A partial widening of the gap occurs. Further, when the cutting depth during dicing was large, the adhesive tape was broken between the elements. Furthermore, in the case of the above biaxially stretched film or crosslinked film, the rigidity of the film-like support itself is high and the film is hardly deformed at the time of picking up the element. Therefore, when the element fixing adhesive force is sufficiently reduced, one element is used. It was confirmed that there was a problem that the shock when picking up the laser was transmitted to other elements, causing a displacement in other elements.

このような欠点を克服するため種々検討を重ねた結
果、放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体とし
て、少なくとも二種類以上の樹脂にて構成され、その一
種類の樹脂にビカット軟化点が少なくとも120℃で成形
収縮率が0.5〜3%である樹脂を使用することにより無
延伸フィルムにおいても放射線照射により良好な収縮を
示し、粘着テープにかかる張力等により生じた伸びや弛
みを十分に解消できることを見い出した。さらにフィル
ム状支持体の一方の面に塗工される放射線硬化性粘着剤
層として、アクリル系粘着剤100重量部と、炭素−炭素
二重結合を有するシアヌレート化合物およびイソシアヌ
レート化合物の群から選ばれた少なくとも一種の化合物
5〜500重量部とを含有することにより、放射線照射に
よって硬化し、三次元網状化構造を生成し素子小片の貼
合面の表面粗度及び表面処理状態に関係なく素子固定粘
着力の安定した硬化を示すことを見い出し、これらの知
見に基づき本発明を完成するに至った。
As a result of repeated investigations to overcome such disadvantages, the film-shaped support of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape is composed of at least two or more resins, and one of the resins has a Vicat softening point of at least 120. By using a resin having a molding shrinkage of 0.5 to 3% at ℃, even a non-stretched film shows good shrinkage by radiation irradiation, and can sufficiently eliminate elongation and loosening caused by tension applied to the adhesive tape. I found it. Further, as a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer applied to one surface of the film-like support, 100 parts by weight of an acrylic pressure-sensitive adhesive, and a group selected from a cyanurate compound having a carbon-carbon double bond and an isocyanurate compound. By containing at least one compound of 5 to 500 parts by weight, it is cured by irradiation, generates a three-dimensional network structure, and fixes the element regardless of the surface roughness and the surface treatment state of the bonding surface of the element piece. The present inventors have found that the composition shows stable curing of the adhesive strength, and have completed the present invention based on these findings.

すなわち本発明は、少なくとも二層の異種樹脂層から
なり、該樹脂層の少なくとも一層として、ビカット軟化
点が少なくとも120℃で、成形収縮率が0.5〜3%、好ま
しくは0.5〜2%である樹脂層(以下樹脂層Aという)
を有する放射線透過性のフイルム状支持体を用い、その
一方の面に放射線硬化性粘着剤層を設けてなることを特
徴とする放射線硬化性粘着テープを提供するものであ
る。
That is, the present invention comprises at least two different resin layers, and at least one of the resin layers has a Vicat softening point of at least 120 ° C. and a molding shrinkage of 0.5 to 3%, preferably 0.5 to 2%. Layer (hereinafter referred to as resin layer A)
The present invention provides a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape characterized by using a radiation-transmissive film-like support having the following formula, and having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface thereof.

ここにおいて、ビカット軟化点は、JIS−K7206により
測定されるものである。また成形収縮率とは樹脂が金型
等により成形された後、固化する際に体積収縮をおこす
がこの際の成形寸法よりの寸法変化率をいい、測定法は
ASTM−D655に規定されている。
Here, the Vicat softening point is measured according to JIS-K7206. In addition, the molding shrinkage ratio causes volume shrinkage when the resin is solidified after being molded by a mold or the like, but it refers to the dimensional change rate from the molding size at this time, and the measuring method is
Specified in ASTM-D655.

なお、ここで放射線とは紫外線のような光線、または
電子線などの電離性放射線を言う。
Here, the radiation refers to a light beam such as an ultraviolet ray or an ionizing radiation such as an electron beam.

本発明の放射線硬化性粘着テープにおけるフィルム状
支持体を構成するビカット軟化点が少なくとも120℃で
成形収縮率が0.5〜3%である樹脂としては、好ましく
は高密度ポリエチレンもしくはポリプロピレンを使用す
ることができる。
As the resin constituting the film-like support in the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape of the present invention and having a Vicat softening point of at least 120 ° C. and a molding shrinkage of 0.5 to 3%, preferably high-density polyethylene or polypropylene is used. it can.

このような高密度ポリエチレンは、例えば従来公知の
ポリエチレン重合法によって得られるものであり、これ
は密度が少なくとも0.94g/ccで結晶化度75%以上の中、
低圧法ポリエチレンに代表されるものである。またポリ
プロピレンは、例えば結晶性を有するアイソタクチック
ポリプロピレンであり、単独重合あるいは共重合体が使
用できる。
Such high-density polyethylene is obtained, for example, by a conventionally known polyethylene polymerization method, and has a density of at least 0.94 g / cc and a crystallinity of 75% or more.
This is represented by low pressure polyethylene. The polypropylene is, for example, an isotactic polypropylene having crystallinity, and a homopolymer or a copolymer can be used.

本発明において樹脂層Aと積層する異種の樹脂層(以
下単に樹脂層Bという)は半導体ウエハイシング時、及
びダイシングされた素子小片のピックアップ時に、各々
の被着物にかかる外的な衝撃力を緩和吸収し、ダイシン
グ時のチップ飛び防止、素子小片のピックアップ時、所
定チップ以外のチップが脱落するのを防ぐためテープ自
体にクッション性を付与する機能を有する。この樹脂層
Bの樹脂は、通常ショアD形硬度の60より低いもの、好
ましくは50以下のもの、より好ましくは40以下のもので
ある。
In the present invention, a different resin layer (hereinafter simply referred to as a resin layer B) laminated with the resin layer A absorbs and externally absorbs an external impact force applied to each adherend at the time of semiconductor wafer ing and at the time of picking up a diced element piece. In addition, the tape has a function of providing cushioning to the tape itself in order to prevent chip flying during dicing and to prevent chips other than the predetermined chip from falling off when picking up element pieces. The resin of the resin layer B generally has a Shore D hardness lower than 60, preferably 50 or less, more preferably 40 or less.

このような樹脂層Bの樹脂としては、例えばエチレン
−酢酸ビニル共重合体、ポリブテン、ポリメチルペンテ
ン、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、アイオノマー、低密度ポリエチレン、直鎖低密度
ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、などの
αオレフィン単独重合体又は共重合体あるいはこれらの
混合物質があげられ、フィルム状支持体の各要求特性に
応じて任意に選ぶことができる。
Examples of the resin of the resin layer B include ethylene-vinyl acetate copolymer, polybutene, polymethylpentene, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-
Α-olefin homopolymer or copolymer such as methyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ionomer, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, ethylene-propylene copolymer, or a mixture thereof Can be arbitrarily selected according to each required characteristic of the film-form support.

本発明においては、異種の樹脂を蓄積し、このように
して得られた支持体に、放射線硬化性粘着剤を塗工し
て、放射線硬化性粘着テープとする。
In the present invention, a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape is prepared by accumulating different kinds of resins and applying a radiation-curable pressure-sensitive adhesive to the support thus obtained.

この支持体において、少なくとも一層の樹脂層Aと少
なくとも一層の樹脂層Bを有するが、好ましくは樹脂層
Aが中間層となり、両外層が樹脂層B(樹脂層Bは互い
に同じでも異なっていてもよい)からなるものである。
この場合放射線硬化性粘着剤層の塗布側は特に制限はな
いが、エチレン系共重合体であって、エチレン成分に対
する共重合成分の含量が5%以上(重量%という。以下
同様)のものを使用するのが好ましい。
This support has at least one resin layer A and at least one resin layer B. Preferably, the resin layer A is an intermediate layer and both outer layers are resin layers B (even if the resin layers B are the same or different from each other). Good).
In this case, the application side of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but an ethylene copolymer having a content of the copolymer component to the ethylene component of 5% or more (hereinafter referred to as “% by weight”) is used. It is preferred to use.

支持体の背面には、接着面とのブロッキング等を防止
するため、低密度ポリエチレン直鎖低密度ポリエチレン
等の単独重合体又はエチレン系共重合体の共重合樹脂含
量が接着面のそれと同じかあるいは少ないものを使用す
るのがよい。
On the back side of the support, the copolymer resin content of a homopolymer such as low-density polyethylene linear low-density polyethylene or an ethylene-based copolymer is the same as that of the bonding surface to prevent blocking with the bonding surface or the like. It is better to use less.

また、フィルム状支持体の背面側に、微細な凹凸を施
したマット面とすることも有効である。
It is also effective to form a mat surface having fine irregularities on the back side of the film-shaped support.

このようなフィルム状支持体の厚みは、強、伸度特
性、放射線透過性の観点から通常30〜300μmが適当で
ある。樹脂層Aの厚さは、フィルム状支持体の要求特性
に応じて任意に設定されるがこの際に放射線放射による
硬化後にシワあるいは弛みが発生しないように、フィル
ム状支持体における樹脂層Aの比率を適宜設定するのが
よい。樹脂層Aの厚さは通常、フィルム状支持体の総厚
に対し、3〜90%の範囲とする。
The thickness of such a film-like support is usually preferably from 30 to 300 μm from the viewpoints of strength, elongation characteristics and radiation transparency. The thickness of the resin layer A is arbitrarily set according to the required characteristics of the film-like support. In this case, the resin layer A in the film-like support is not so wrinkled or loosened after curing by radiation irradiation. It is better to set the ratio appropriately. The thickness of the resin layer A is usually in the range of 3 to 90% with respect to the total thickness of the film support.

このフィルム状支持体の製法としては、従来公知の共
押出し法、ラミネート法などが用いられ、この際通常の
ラミネートフィルムの製造において普通に行われている
ように、樹脂層Aと樹脂層Bとの間に接着剤を塗布して
もよい。このような接着剤としてはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体又はこれをマレイン酸変性したもの等、通常
の接着剤を使用することができる。
As a method for producing this film-shaped support, a conventionally known co-extrusion method, a laminating method, or the like is used. In this case, the resin layer A and the resin layer B An adhesive may be applied during the process. As such an adhesive, an ordinary adhesive such as an ethylene-vinyl acetate copolymer or a maleic acid-modified ethylene-vinyl acetate copolymer can be used.

フィルム状支持体に設けられる、放射線硬化性粘着剤
層としては、例えば、アクリル系粘着剤100重量部と、
炭素−炭素二重結合を有するシアヌレート化合物及びイ
ソシアヌレート化合物の群から選ばれた少なくとも一種
の化合物5〜500重量部とを含有し、光開始剤及び重合
促進剤、そのほか公知の粘着付与剤、軟化剤、酸化防止
剤、顔料等を配合してなる組成物をあけることができ
る。
The radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer provided on the film-shaped support, for example, 100 parts by weight of an acrylic pressure-sensitive adhesive,
It contains 5 to 500 parts by weight of at least one compound selected from the group consisting of a cyanurate compound having a carbon-carbon double bond and an isocyanurate compound, and contains a photoinitiator and a polymerization accelerator, other known tackifiers, and softening agents. A composition comprising an agent, an antioxidant, a pigment and the like can be opened.

アクリル系粘着剤は、アクリル酸またはメタクリル酸
のエステルを主な構成単位とする単独重合体または、ア
クリル酸またはメタクリル酸あるいはそのエステルある
いはその酸アミド等及びそのほかの共重合体性コモノマ
ーとの共重合体またはこれらの重合体の混合物である。
そのモノマー及びコモノマーとして例えばアクリル酸も
しくはメタクリル酸のアルキルエステル、例えばメチル
エステル、エチルエステル、ブチルエステル、2−エチ
ルヘキシルエステル、オクチルエステル、グリシジルエ
ステル、ヒドロキシメチルエステル、2−ヒドロキシエ
チルエステル、ヒドロキシプロピルエステル、及びアク
リル酸またはメタクリル酸のアミド及びN−置換アミ
ド、例えばN−ヒドロキシメチルアクリル酸アミドもし
くはメタクリル酸アミドなどがあげられる。これに必要
に応じてポリイソシアネート化合物またはアルキルエー
テル化メラミン化合物のような架橋剤が配合されたもの
を使用できる。
The acrylic pressure-sensitive adhesive is a homopolymer having an acrylic acid or methacrylic acid ester as a main structural unit, or a copolymer with acrylic acid or methacrylic acid or an ester or an acid amide thereof and other copolymerizable comonomers. It is a coalescence or a mixture of these polymers.
As its monomers and comonomers, for example, acrylic acid or methacrylic acid alkyl esters such as methyl ester, ethyl ester, butyl ester, 2-ethylhexyl ester, octyl ester, glycidyl ester, hydroxymethyl ester, 2-hydroxyethyl ester, hydroxypropyl ester, And amides and N-substituted amides of acrylic acid or methacrylic acid, such as N-hydroxymethylacrylamide or methacrylamide. If necessary, a compound containing a crosslinking agent such as a polyisocyanate compound or an alkyl etherified melamine compound can be used.

また、シアヌレートまたはイソシアヌレート化合物
は、分子内にトリアジン環またはイソトリアジン環を有
し、さらに放射線重合性の炭素−炭素二重結合を少なく
とも二個以上有する化合物であり、モノマー、オリゴマ
ーまたはこれらの混合物であっても差し支えない。トリ
アジン環またはイソトリアジン環を有する化合物は一般
にハロシアン化合物、ジアニリン化合物、ジイソシアネ
ート化合物等を原料として常法の環化反応によって合成
することができる。さらにこのようにして合成された化
合物に放射線重合性炭素−炭素二重結合含有基、例えば
ビニル基、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基な
どを含む官能基を導入して本発明に使用される化合物が
得られる。
Further, a cyanurate or isocyanurate compound is a compound having a triazine ring or an isotriazine ring in a molecule and further having at least two or more radiation-polymerizable carbon-carbon double bonds, and a monomer, an oligomer or a mixture thereof. It does not matter. A compound having a triazine ring or an isotriazine ring can be generally synthesized by a conventional cyclization reaction using a halocyan compound, a dianiline compound, a diisocyanate compound, or the like as a raw material. Furthermore, a compound used in the present invention can be obtained by introducing a functional group containing a radiation-polymerizable carbon-carbon double bond-containing group, such as a vinyl group, an acryloxy group or a methacryloxy group, into the compound synthesized in this manner. .

シアヌレートまたはイソシアヌレート化合物について
は特に制限は無いが、トリアジン環またはイソトリアジ
ン環に導入された炭素−炭素二重結合含有基がいわゆる
剛直な分子構造、例えば芳香環異節環基等を含まないも
のが好ましい。その理由はこれらによって放射線重合性
化合物に過度の剛直性を与えては、この発明の粘着剤が
放射線硬化により過度に脆化するからである。したがっ
て炭素−炭素二重結合とトリアジン環またはイソトリア
ジン環との間の結合基は原子の自由回転性に富む基を含
むことが好ましい。これらの基を例示すると、アルキレ
ン基、アルキリデン基等の脂肪族基であり、これらには
−O−、−OCO−、−COO−、−NHCO−、−NHCOO−結合
等を有していてもよい。なおこの結合基が−O−を介し
てトリアジン環に結合する場合には、この−O−に結合
する3つのアルキレン基、アルキリデン基等のうち少な
くとも一つはその炭素数は2以上がよい。
There is no particular limitation on the cyanurate or isocyanurate compound, but those in which the carbon-carbon double bond-containing group introduced into the triazine ring or the isotriazine ring does not include a so-called rigid molecular structure, such as an aromatic heterocyclic group or the like. Is preferred. The reason for this is that if these compounds impart excessive rigidity to the radiation-polymerizable compound, the pressure-sensitive adhesive of the present invention is excessively embrittled by radiation curing. Therefore, the bonding group between the carbon-carbon double bond and the triazine ring or isotriazine ring preferably contains a group having a high atomic free rotation. Examples of these groups include aliphatic groups such as an alkylene group and an alkylidene group, which may have an -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -NHCOO- bond, or the like. Good. When this bonding group is bonded to the triazine ring via -O-, at least one of the three alkylene groups, alkylidene groups and the like bonded to -O- preferably has 2 or more carbon atoms.

これらのシアヌレートまたはイソシアヌレート化合物
の具体例としては、2−プロペニル ジ−3−プテニル
シアヌレート、2−ヒドロキシエチル ビス(2−アク
リロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(アクリロ
キシエチル)イソシアヌレート、トリス(メタクリロキ
シエチル)イソシアヌレート、ビス(2−アクリロキシ
エチル)2−{(5)アクリロキシヘキシル)−オキ
シ}エチルイソシアヌレート、トリス(1,3−ジアクリ
ロキシイソプロピル−オキシカルボニル−n−ヘキシ
ル)イソシアヌレート、トリス(1−アクリロキシ−3
−メタクリロキシイソプロピル−オキシカルボルニルア
ミノ−n−ヘキシル)イソシアヌレート等があげられ
る。
Specific examples of these cyanurate or isocyanurate compounds include 2-propenyl di-3-butenyl cyanurate, 2-hydroxyethyl bis (2-acryloxyethyl) isocyanurate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, and tris (Methacryloxyethyl) isocyanurate, bis (2-acryloxyethyl) 2-{(5) acryloxyhexyl) -oxy} ethyl isocyanurate, tris (1,3-diacryloxyisopropyl-oxycarbonyl-n-hexyl) ) Isocyanurate, tris (1-acryloxy-3)
-Methacryloxyisopropyl-oxycarbonylamino-n-hexyl) isocyanurate and the like.

上記イソシアヌレート化合物またはイソシアヌレート
化合物のモノマーまたはオリゴマーの繰り返し単位当り
の放射線重合性炭素−炭素二重結合の数は通常少なくと
も2個有するのがよく、より好ましくは、2〜6個がよ
い。この二重結合の数が2個未満では放射線照射により
粘着強度を低下させるのに十分な架橋度が得られず、ま
た6個を越えては放射線硬化後の粘着剤の脆化を過度に
することがある。
The number of radiation-polymerizable carbon-carbon double bonds per repeating unit of the isocyanurate compound or the monomer or oligomer of the isocyanurate compound is usually preferably at least two, more preferably 2 to 6. If the number of these double bonds is less than 2, a sufficient degree of crosslinking to lower the adhesive strength by irradiation is not obtained, and if it exceeds 6, the embrittlement of the adhesive after radiation curing is excessive. Sometimes.

シアヌレート化合物またはイソシアヌレート化合物の
配合量は通常上記アクリル系粘着剤100重量部に対して
5〜500重量部であり、より好ましくは10〜300重量部で
ある。この配合量が少なすぎると放射線硬化性粘着剤の
放射線照射による三次元網状化が不十分となり、アクリ
ル系粘着剤の流動性阻止を制御することができず、容易
に素子をピックアップすることができる程度に素子固定
粘着力が低下せず好ましくない。また逆にこの配合量が
多すぎるとアクリル系粘着剤に対する可塑化効果が大き
く、ダイシング時の回転丸刃による切断衝撃力または洗
浄水の水圧に耐え得るだけの十分な素子固定粘着が得ら
れなくなる。
The compounding amount of the cyanurate compound or the isocyanurate compound is usually from 5 to 500 parts by weight, more preferably from 10 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acrylic pressure-sensitive adhesive. When the compounding amount is too small, three-dimensional network formation by irradiation of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive becomes insufficient, and it is not possible to control the flow inhibition of the acrylic pressure-sensitive adhesive, so that the element can be easily picked up. This is not preferable because the adhesive strength for fixing the element does not decrease to a certain extent. Conversely, if the amount is too large, the plasticizing effect on the acrylic pressure-sensitive adhesive is large, and it is not possible to obtain sufficient element fixing adhesion enough to withstand the cutting impact force of the rotating round blade during dicing or the water pressure of the washing water. .

なお本発明の放射線硬化性粘着剤には放射線硬化性化
合物として上記の化合物に、放射線硬化性の他の化合
物、例えば脂肪族ポリオールのポリアクリレートまたは
ポリメタクリレートなどの一種以上を併用することがで
きる。これらの化合物を例示すれば、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトール、ポリエチレ
ングリコール(炭素数=3〜14)などのアクリル酸また
はメタクリル酸エステルなどまたはこれらのオリゴマー
などである。
In the radiation-curable pressure-sensitive adhesive of the present invention, the radiation-curable compound described above can be used in combination with other radiation-curable compounds, for example, one or more aliphatic polyol polyacrylates or polymethacrylates. Examples of these compounds include ethylene glycol, diethylene glycol, trimethylolpropane,
Examples include acrylic acid or methacrylic acid esters such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, pentaerythritol, dipentaerythritol, polyethylene glycol (carbon number = 3 to 14), and oligomers thereof.

なお本発明の放射線硬化性粘着テープを紫外線照射に
よって硬化させる場合には、光重合開始剤、例えばイソ
プロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエ
ーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチ
オキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオ
キサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチ
ルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を併用
することができるれらの内1種あるいは2種以上を粘着
剤層に添加することによって、硬化反応時間または紫外
線照射量が少なくても効率よく硬化反応を進行させ、素
子固定粘着力を低下させることができる。
When the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape of the present invention is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator such as isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, diethylthioxanthone, and benzyl By adding one or more of dimethyl ketal, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxymethyl phenylpropane and the like to the pressure-sensitive adhesive layer, the curing reaction time or the amount of ultraviolet irradiation can be increased. Even if the amount is small, the curing reaction can efficiently proceed, and the adhesive strength for fixing the element can be reduced.

このフィルム状支持体上の放射線硬化性粘着剤層の厚
さは特に制限はないが通常2〜50μmとする。
The thickness of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer on the film-like support is not particularly limited, but is usually 2 to 50 μm.

(実施例) 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。(Examples) Next, the present invention will be described in more detail based on examples.

実施例1 アクリル系粘着剤(2−エチルヘキシルアクリレート
とn−ブチルアクリレートとの共重合体)100重量部に
ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン(株)
製、商品名コロネートL)3重量部、イソシアヌレート
化合物としてトリス−2−アクリロキシエチルイソシア
ヌレート100重量部及び光重合開始剤としてα−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン1重量部を添加混合
して放射線硬化性粘着剤を調整した。
Example 1 A polyisocyanate compound (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) was added to 100 parts by weight of an acrylic pressure-sensitive adhesive (copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and n-butyl acrylate).
3 parts by weight, trade name: Coronate L), 100 parts by weight of tris-2-acryloxyethyl isocyanurate as an isocyanurate compound, and 1 part by weight of α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photopolymerization initiator. The adhesive was adjusted.

この放射線硬化性粘着剤をエチレン−酢酸ビニル共重
合体と高密度ポリエチレン(東ソー(株)製、商品名ニ
ポロンハード,4010、ビカット軟化点126℃、成形収縮率
1.0〜2.0%)の二種類の樹脂層からなり高密度ポリエチ
レンからなる主層(厚さ30μm)を中間層とし、粘着剤
の接着面に、酢酸ビニル含量15%のエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体(厚さ30μm)、また支持体の背面層を酢酸
ビニル含量3%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(厚さ
30μm)とし、さらに中間層と両外層の接着剤層として
酢酸ビニル含量25%のエチレン−酢酸ビニル共重合体を
使用し、共押出加工することによって得られた厚さ100
μmのフィルム状支持体の酢酸ビニル含量15%のエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体側にコロナ処理を施し、この表
面に乾燥後厚さが20μmとなるように塗工して放射線硬
化性粘着テープを得た。
This radiation-curable pressure-sensitive adhesive was mixed with an ethylene-vinyl acetate copolymer and high-density polyethylene (manufactured by Tosoh Corporation, trade name Nipolon Hard, 4010, Vicat softening point 126 ° C, molding shrinkage)
The main layer (thickness: 30 μm) consisting of two types of resin layers (thickness: 1.0-2.0%) and high-density polyethylene is used as an intermediate layer, and an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of 15% is provided on the adhesive surface of the adhesive. (Thickness: 30 μm), and the back layer of the support was an ethylene-vinyl acetate copolymer (thickness: 3%) having a vinyl acetate content of 3%.
30 μm), and a thickness of 100 obtained by co-extrusion using an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of 25% as an adhesive layer between the intermediate layer and both outer layers.
A corona treatment is applied to the side of the ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of 15% of a μm film-like support, and the surface is dried to a thickness of 20 μm to obtain a radiation-curable adhesive tape. Was.

上記放射線硬化性粘着テープに直径5インチの大きな
シリコンウエハを被着体として貼り合わせ、JIS−Z0237
に基づき紫外線照射前後の粘着力を測定した(90゜剥
離、剥離速度50mm/min、以下の実施例、比較例はこの方
法による)。この際、粘着テープに貼合するウエハの表
面状態は鏡面、及びラッピング#600仕上げ面(表面状
態がUSメッシュ#600)相当の微細な凹凸を有する)の
2つの面状態とした。この結果を第1表に示した。
A large silicon wafer having a diameter of 5 inches was adhered to the radiation-curable adhesive tape as an adherend, according to JIS-Z0237.
The adhesive strength before and after ultraviolet irradiation was measured based on the above (90 ° peeling, peeling speed 50 mm / min, the following Examples and Comparative Examples were by this method). At this time, the surface state of the wafer to be bonded to the adhesive tape was a mirror surface and a lapping # 600 finished surface (having fine irregularities equivalent to the surface state of US mesh # 600). The results are shown in Table 1.

さらに上記放射線硬化性粘着テープに直径5インチの
大きさのシリコンウエハを貼付け、素子小片の面積を1m
m2としてダイシングを行った。ダイシング後テープの状
態を目視により確認したところ、半導体ウエハ自体の重
さまたは粘着テープの伸びによる弛みやそれに類したも
のは認められなかった。また次の紫外線照射工程へ移送
するためキャリアーカセットへの収納を行ったが粘着テ
ープの弛みや伸びによる阻害はなかった。
Furthermore, a 5 inch diameter silicon wafer was attached to the radiation-curable adhesive tape, and the area of the element piece was reduced to 1 m.
It was dicing as m 2. When the state of the tape was visually checked after dicing, looseness due to the weight of the semiconductor wafer itself or elongation of the adhesive tape and the like were not observed. Further, the carrier was stored in a carrier cassette for transfer to the next ultraviolet irradiation step, but there was no hindrance due to looseness or elongation of the adhesive tape.

次に素子固定粘着力を低下させるため紫外線照射を行
った際にも、新たな粘着テープの弛みや伸びの発生は全
くなく、素子間隙の部分的なばらつきなども発生してい
ない。むしろダイシング処理以前の粘着テープをテープ
カット用フレーム等に貼り合わせた際に発生した僅かな
弛み等を吸収し、弛みの全く無い状態になっていた。
Next, when ultraviolet irradiation is performed to reduce the adhesive strength for fixing the element, no new loosening or elongation of the adhesive tape occurs, and no partial variation of the element gap occurs. Rather, the adhesive tape absorbs a slight slack or the like generated when the adhesive tape before the dicing treatment is bonded to a tape cutting frame or the like, so that there is no slack at all.

このためキャリアーカセット内での粘着テープ同士の
接触による素子の損傷や紫外線照射後の素子のピックア
ップ工程においてもピックアップ不良等の発生はなく良
好に処理が行われた。
For this reason, no damage was caused to the element due to the contact between the adhesive tapes in the carrier cassette, and even in the step of picking up the element after irradiating the ultraviolet rays, the pick-up was not satisfactorily performed, and the processing was performed satisfactorily.

上記ダイシング後のテープ状態及び紫外線照射後のテ
ープ状態、紫外線照射後のピックアップ状態を測定し、
下記第2表に示した。
Measure the tape state after dicing and the tape state after ultraviolet irradiation, the pickup state after ultraviolet irradiation,
The results are shown in Table 2 below.

実施例2 放射線硬化粘着性テープのフィルム状支持体として、
高密度ポリエチレン(実施例1と同じもの)からなる主
層(厚さ60μm)を中間層とし、その両側に副層とし
て、酢酸ビニル含量10%のエチレン−酢酸ビニル共重合
体を20μmずつ形成してなる厚さ100μmmの3層フィル
ムを共押出法によって作製した。
Example 2 As a film-like support of a radiation-curable adhesive tape,
A main layer (thickness: 60 μm) made of high-density polyethylene (same as in Example 1) was used as an intermediate layer, and an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of 10% was formed on both sides of the main layer as sublayers, each having a thickness of 20 μm. A three-layer film having a thickness of 100 μm was prepared by a co-extrusion method.

さらにフィルムの保管におけるブロッキング防止する
ため、フィルム状支持体の作製時、支持体の背面となる
エチレン−酢酸ビニル共重合体側の成形ロールに微細な
凹凸を有するものを使用してフィルム表面にこの凹凸を
転写させたマット面とした。
Furthermore, in order to prevent blocking during storage of the film, when producing a film-like support, use a roller having fine irregularities on a forming roll on the side of the ethylene-vinyl acetate copolymer, which is a back surface of the support, to use the irregularities on the film surface. Was transferred to the mat surface.

この3層フィルムのマット処理を施していないエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体側にコロナ処理を施し、この上
に実施例1と同様に同じ粘着剤を乾燥後の厚さ20μmと
なるように塗工し、放射線硬化性粘着テープを得た。
Corona treatment is applied to the unmatted ethylene-vinyl acetate copolymer side of the three-layer film, and the same adhesive is applied thereon in the same manner as in Example 1 so as to have a dry thickness of 20 μm. Thus, a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape was obtained.

実施例3 放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体として、
高密度ポリエチレン(実施例1と同じもの)からなる主
層(厚さ40μm)を中間層とし、粘着剤の接着面に酢酸
ビニル含量10%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(厚さ
50μm)、また支持体の背面層に低密度ポリエチレン
(東ソー(株)製、ペトロセン170R)(厚さ30μm)を
使用し、共押出加工することによって作製した。
Example 3 As a film-like support of a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape,
A main layer (thickness: 40 μm) made of high-density polyethylene (same as in Example 1) was used as an intermediate layer, and an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of 10% (thickness:
It was prepared by co-extrusion using low-density polyethylene (Petrocene 170R, manufactured by Tosoh Corporation) (thickness: 30 μm) for the back layer of the support.

このフィルム状支持体のエチレン−酢酸ビニル共重合
体側にコロナ処理を施し、この表面に乾燥後の厚さが20
μmとなるように塗工して放射線硬化性粘着テープを得
た。
A corona treatment is applied to the ethylene-vinyl acetate copolymer side of the film-like support, and the surface after drying has a thickness of 20%.
The composition was coated to a thickness of μm to obtain a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape.

実施例4 放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体として、
高密度ポリエチレン(実施例1と同じもの)からなる主
層(厚さ30μm)を中間層とし、その両側に副層として
アイオノマー樹脂(三井・デュポンポリケミカル(株)
製、ハイミラン1652)を20μmずつ形成してなる厚さ70
μmの3層フィルムを共押出法によって作製した。
Example 4 As a film-like support of a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape,
A main layer (thickness: 30 μm) made of high-density polyethylene (the same as in Example 1) was used as an intermediate layer, and an ionomer resin (Mitsui-Dupont Polychemical Co., Ltd.) was used as a sublayer on both sides.
Made of Himilan 1652) in a thickness of 20 μm
μm three-layer films were made by coextrusion.

このフィルムを基材フィルムとして、この上に実施例
1と同様に同じ接着剤を乾燥後の厚さが20μmとなるよ
うに塗工し、放射線硬化性粘着テープを得た。
This film was used as a base film, and the same adhesive was applied thereon in the same manner as in Example 1 so that the thickness after drying was 20 μm to obtain a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape.

実施例5 放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体としてポ
リプロピレン(日本石油化学(株)製、商品名;日石ポ
リプロF150J、ビカット軟化点151℃、成形収縮率1.5〜
2.0%)からなる主層(厚さ60μm)を中間層とした以
外は実施例1と同様にして厚さ100μmのフィルムを共
押出法によって作製した。
Example 5 Polypropylene (trade name, manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., trade name: Nisseki Polypro F150J, Vicat softening point 151 ° C., molding shrinkage 1.5 to 1.5 mm) as a film-shaped support of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape
A 100-μm-thick film was produced by a co-extrusion method in the same manner as in Example 1, except that the main layer (thickness: 2.0%) (thickness: 60 μm) was used as the intermediate layer.

このフィルムを基材フィルムとしてこの上に実施例1
と同様に同じ粘着剤を乾燥後の厚さ20μmとなるように
塗工し、放射線硬化性粘着テープを得た。
This film was used as a base film, and Example 1 was formed thereon.
The same pressure-sensitive adhesive was applied in the same manner as in the above to a thickness of 20 μm after drying to obtain a radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape.

比較例1 放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体として厚
さ100μmの酢酸ビニル含量10%のエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体(ビカット軟化点78℃、成形収縮率1.25〜1.
5%)の単独樹脂層を使用した以外は、実施例1と同様
にして放射線硬化性粘着テープを作製した。
Comparative Example 1 An ethylene-vinyl acetate copolymer having a thickness of 100 μm and a vinyl acetate content of 10% (Vicat softening point 78 ° C., molding shrinkage 1.25 to 1.
A radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a single resin layer (5%) was used.

比較例2 放射線硬化性粘着テープのフィルム状支持体として厚
さ100μmの高密度ポリエチレン(実施例1と同じも
の)の単独樹脂層を使用した以外は、実施例1と同様に
放射線硬化性粘着テープを作製した。
Comparative Example 2 A radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape was used in the same manner as in Example 1, except that a single resin layer of high-density polyethylene (same as in Example 1) having a thickness of 100 μm was used as a film-like support of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape. Was prepared.

上記の実施例2〜5、及び比較例1、2によて作製し
た放射線硬化性粘着テープについても実施例1と同様に
試験を行った。その結果を併せて下記第1表及び第2表
に示した。
The same test as in Example 1 was conducted on the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tapes produced in Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 and 2. The results are shown in Tables 1 and 2 below.

なお上記試験の追加試験として、実施例3の放射線硬
化性粘着テープについて、ダイシング加工後力を加えて
強制的に弛みを作りフィルムを中央部から最大約3mm程
度陥没させたが実施例1と同様にして行った粘着剤を硬
化させる紫外線照射後はフィルムの弛みが吸収され、完
全に消滅していた。
As an additional test to the above test, the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape of Example 3 was forcibly slackened by applying a force after dicing to make the film sink up to about 3 mm from the center, but the same as in Example 1. After the irradiation with ultraviolet light for curing the adhesive, the slack of the film was absorbed and completely disappeared.

(発明の効果) 本発明の放射線硬化性粘着テープを半導体ウエハ等の
切断加工に用いた場合、回転丸刃による素子切断加工に
より受ける衝撃や、半導体ウエハ自体の重さによる粘着
テープの伸びや弛みの発生することが無い。また素子固
定粘着力を低下させるため放射線照射を行っても新たに
粘着テープに伸びや弛みを発生することの無く、むしろ
ダイシング処理以前の粘着テープをテープカット用レー
ム等に貼り合わせた際に発生した僅か弛み等を吸収して
しまう。また、本発明の粘着テープでは、仮に伸びや弛
みが大きくなっても放射腺照射における加熱時間を長く
取ることによりその問題を解消することができる。こう
して本発明の放射線硬化性粘着テープは工程間の移送に
使用されるキャリアーカセット内での粘着テープ同士の
接触や素子間隙のばらつき等の発生せず良好にピックア
ップすることができるという優れた効果を奏する。さら
にこの粘着テープは巻状態での耐ブロッキング性の優れ
たものとすることもできる。
(Effects of the Invention) When the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape of the present invention is used for cutting a semiconductor wafer or the like, the impact received by the element cutting process using a rotating round blade, or the extension or loosening of the pressure-sensitive adhesive tape due to the weight of the semiconductor wafer itself Does not occur. In addition, even if irradiation is performed to reduce the element fixing adhesive force, the adhesive tape does not newly elongate or loosen, but rather occurs when the adhesive tape before dicing treatment is bonded to a tape cutting frame etc. It absorbs the slight slack that has occurred. Further, in the pressure-sensitive adhesive tape of the present invention, even if the elongation or loosening increases, the problem can be solved by increasing the heating time in irradiation with the radiation glands. Thus, the radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape of the present invention has an excellent effect that it can be picked up favorably without occurrence of contact between the pressure-sensitive adhesive tapes and variations in element gaps in a carrier cassette used for transfer between processes. Play. Further, the pressure-sensitive adhesive tape can have excellent blocking resistance in a wound state.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JKK C09J 7/02 JKK JLE JLE H01L 21/301 H01L 21/78 M ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication location C09J 7/02 JKK C09J 7/02 JKK JLE JLE H01L 21/301 H01L 21/78 M

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくとも二層の異種樹脂層からなり、該
樹脂層の少なくとも一層としてビカット軟化点が少なく
とも120℃で成形収縮率が0.5〜3%である樹脂層を有す
る放射線透過性のフイルム状支持体を用い、その一方の
面に放射線硬化性粘着剤層を設けてなることを特徴とす
る放射線硬化性粘着テープ。
1. A radiation-transmissive film comprising at least two different resin layers, wherein at least one resin layer has a Vicat softening point of at least 120 ° C. and a molding shrinkage of 0.5 to 3%. A radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape comprising a support and a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface thereof.
【請求項2】ビカット軟化点が少なくとも120℃で、成
形収縮率が0.5〜3%である樹脂層が高密度ポリエチレ
ンもしくはポリプロピレンである請求項1記載の放射線
硬化性粘着テープ。
2. The radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape according to claim 1, wherein the resin layer having a Vicat softening point of at least 120 ° C. and a molding shrinkage of 0.5 to 3% is high-density polyethylene or polypropylene.
【請求項3】放射線硬化性粘着剤層がアクリル系粘着剤
100重量部と炭素−炭素二重結合を有するシアヌレート
化合物及びイソシアヌレート化合物の群から選ばれた少
なくとも一種の化合物5〜500重量部とを含有する請求
項1記載の放射線硬化性粘着テープ。
3. The radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive.
The radiation-curable pressure-sensitive adhesive tape according to claim 1, comprising 100 parts by weight and 5 to 500 parts by weight of at least one compound selected from the group consisting of a cyanurate compound having a carbon-carbon double bond and an isocyanurate compound.
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