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JP2017045813A - Wiring board - Google Patents

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JP2017045813A
JP2017045813A JP2015166303A JP2015166303A JP2017045813A JP 2017045813 A JP2017045813 A JP 2017045813A JP 2015166303 A JP2015166303 A JP 2015166303A JP 2015166303 A JP2015166303 A JP 2015166303A JP 2017045813 A JP2017045813 A JP 2017045813A
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Japan
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wiring board
semiconductor element
wiring
dummy pattern
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JP2015166303A
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Japanese (ja)
Inventor
広樹 松若
Hiroki Matsuwaka
広樹 松若
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Kyocera Corp
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Kyocera Corp
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Abstract

【課題】ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁層1a〜1dが積層されて成る絶縁基板1と、絶縁基板1の表面および絶縁層1a〜1d間に被着された配線導体2と、絶縁基板1の絶縁層1a〜1d間に被着されており、配線導体2と電気的に非接続のダミーパターン7と、絶縁基板1の表面に被着されており、ダミーパターン7と電気的に接続された導体パターン6とを具備する配線基板10である。
【選択図】図1
To provide a wiring board capable of easily detecting the presence or absence of an electrical short circuit between a dummy pattern and a wiring conductor.
An insulating substrate in which a plurality of insulating layers 1a to 1d are stacked, a wiring conductor 2 deposited between the surface of the insulating substrate 1 and the insulating layers 1a to 1d, and an insulating layer 1a of the insulating substrate 1. ˜1d, a dummy pattern 7 that is not electrically connected to the wiring conductor 2, and a conductor pattern 6 that is attached to the surface of the insulating substrate 1 and is electrically connected to the dummy pattern 7. A wiring board 10 comprising:
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、半導体素子を搭載するため等に用いられる配線基板に関するものである。   The present invention relates to a wiring board used for mounting a semiconductor element.

半導体素子を搭載するために用いられる従来の配線基板の例を図4に示す。従来の配線基板20は、主として絶縁基板11と配線導体12とから成る。   An example of a conventional wiring substrate used for mounting a semiconductor element is shown in FIG. The conventional wiring board 20 mainly includes an insulating substrate 11 and a wiring conductor 12.

絶縁基板11は、この例では4層の絶縁層11a〜11dにより形成されている。絶縁層11a〜11dは、互いに上下に積層一体化されている。各絶縁層11a〜11dには、複数のビアホール13が形成されている。   In this example, the insulating substrate 11 is formed of four insulating layers 11a to 11d. The insulating layers 11a to 11d are stacked and integrated one above the other. A plurality of via holes 13 are formed in each of the insulating layers 11a to 11d.

配線導体12は、例えば5層の導体層12a〜12eにより形成されている。導体層12a〜12eは、絶縁層11a〜11dの表面およびビアホール13内に被着されている。   The wiring conductor 12 is formed by, for example, five conductor layers 12a to 12e. The conductor layers 12 a to 12 e are attached to the surfaces of the insulating layers 11 a to 11 d and the via holes 13.

配線基板20の上面中央部は、半導体素子Sが搭載される搭載部20Aになっている。搭載部20Aには、複数の半導体素子接続パッド14が形成されている。半導体素子接続パッド14は、導体層12aにより形成されている。半導体素子接続パッド14には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。   A central portion of the upper surface of the wiring board 20 is a mounting portion 20A on which the semiconductor element S is mounted. A plurality of semiconductor element connection pads 14 are formed on the mounting portion 20A. The semiconductor element connection pad 14 is formed of a conductor layer 12a. The electrode terminal T of the semiconductor element S is connected to the semiconductor element connection pad 14.

配線基板20の下面は、外部との接続面となっている。配線基板20の下面には、複数の外部接続パッド15が形成されている。外部接続パッド15は、導体層12eにより形成されている。外部接続パッド15は、図示しない電気回路基板に接続される。   The lower surface of the wiring board 20 is a connection surface with the outside. A plurality of external connection pads 15 are formed on the lower surface of the wiring board 20. The external connection pad 15 is formed by the conductor layer 12e. The external connection pad 15 is connected to an electric circuit board (not shown).

半導体素子接続パッド14と外部接続パッド15とは、所定のもの同士が導体層12a〜12eを介して電気的に接続されている。そして、この配線基板20は、半導体素子接続パッド14に半導体素子Sの電極端子Tを接続するとともに、外部接続パッド15を電気回路基板に接続することにより、電気回路基板上に実装されることとなる。   The semiconductor element connection pads 14 and the external connection pads 15 are electrically connected to each other through conductor layers 12a to 12e. The wiring board 20 is mounted on the electric circuit board by connecting the electrode terminal T of the semiconductor element S to the semiconductor element connection pad 14 and connecting the external connection pad 15 to the electric circuit board. Become.

この配線基板20おいては、半導体素子接続パッド14に半導体素子Sの電極端子Tを接続する際には、画像認識装置を備えた自動機により半導体素子接続パッド14と半導体素子Sの電極端子Tとの位置合わせが行われる。そのため、搭載部20Aの近傍に複数の認識マーク16が形成されている。この認識マーク16を画像認識装置により認識し、その認識データを基に位置合わせが行われる。   In this wiring board 20, when the electrode terminal T of the semiconductor element S is connected to the semiconductor element connection pad 14, an automatic machine equipped with an image recognition device is used to connect the semiconductor element connection pad 14 and the electrode terminal T of the semiconductor element S. Is aligned. Therefore, a plurality of recognition marks 16 are formed in the vicinity of the mounting portion 20A. The recognition mark 16 is recognized by the image recognition device, and alignment is performed based on the recognition data.

また、この配線基板20においては、反りの低減や厚みばらつきの低減等の目的で、例えば導体層12bにおいて、ダミーパターン17を設ける場合がある。ダミーパターン17は、例えば信号用の配線導体12に隣接して配置されており、電気的には配線導体12のパターンに接続されていない。   Further, in this wiring board 20, for example, a dummy pattern 17 may be provided in the conductor layer 12b for the purpose of reducing warpage or thickness variation. The dummy pattern 17 is disposed, for example, adjacent to the signal wiring conductor 12 and is not electrically connected to the pattern of the wiring conductor 12.

ところで、この配線基板20においては、半導体素子接続パッド14と外部接続パッド15との所定のもの同士が電気的に正常に接続されているかどうかを確認する電気テストが行われる。電気テストは、電気検査装置のテストブローブを各半導体素子接続パッド14と各外部接続パッド15とに接続し、各パッド間の電気抵抗を測定することにより行われる。互いに電気的に接続されているべきパッド同士であれば、その間の電気抵抗は、数十Ω以下であり、互いに電気的に絶縁されているべきパッド同士であれば、その間の電気抵抗は数百MΩ以上である。   By the way, in this wiring board 20, an electrical test is performed to check whether or not predetermined ones of the semiconductor element connection pads 14 and the external connection pads 15 are electrically connected normally. The electrical test is performed by connecting the test probe of the electrical inspection apparatus to each semiconductor element connection pad 14 and each external connection pad 15 and measuring the electrical resistance between the pads. If the pads are to be electrically connected to each other, the electrical resistance between them is several tens of ohms or less. If the pads are to be electrically insulated from each other, the electrical resistance between them is several hundreds. MΩ or more.

しかしながら、従来の配線基板20においては、ダミーパターン17は電気的には配線導体12に接続されていない。そのため、例えばダミーパターン17とこれに隣接する信号用の配線導体12との間で電気的な短絡が発生していたとしても、その短絡を検出することができない。信号用の配線導体12とダミーパターン17とが電気的に短絡していた場合、その信号用の配線導体12に信号を良好に伝送させることができないことがある。   However, in the conventional wiring board 20, the dummy pattern 17 is not electrically connected to the wiring conductor 12. Therefore, for example, even if an electrical short circuit occurs between the dummy pattern 17 and the signal wiring conductor 12 adjacent thereto, the short circuit cannot be detected. If the signal wiring conductor 12 and the dummy pattern 17 are electrically short-circuited, the signal may not be transmitted satisfactorily to the signal wiring conductor 12.

特開2004−31828号公報JP 2004-31828 A

本発明が解決しようとする課題は、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a wiring board that can easily detect the presence or absence of an electrical short circuit between a dummy pattern and a wiring conductor.

本発明の配線基板は、複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の表面および前記絶縁層間に被着された配線導体と、前記絶縁基板の前記絶縁層間に被着されており、前記配線導体と電気的に非接続のダミーパターンと、前記絶縁基板の表面に被着されており、前記ダミーパターンと電気的に接続された導体パターンとを具備することを特徴とするものである。   The wiring board of the present invention is an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, a wiring conductor applied between the surface of the insulating substrate and the insulating layer, and an insulating substrate attached to the insulating layer of the insulating substrate. And a dummy pattern electrically unconnected to the wiring conductor and a conductor pattern that is attached to the surface of the insulating substrate and electrically connected to the dummy pattern. It is.

本発明の配線基板によれば、絶縁基板の表面に、ダミーパターンと電気的に接続された導体パターンを有することから、この導体パターンと絶縁基板表面の配線導体との間の電気抵抗を測定することにより、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能となる。   According to the wiring board of the present invention, since the conductive pattern electrically connected to the dummy pattern is provided on the surface of the insulating substrate, the electrical resistance between the conductive pattern and the wiring conductor on the surface of the insulating substrate is measured. Thus, it is possible to easily detect the presence or absence of an electrical short circuit between the dummy pattern and the wiring conductor.

図1は、本発明の配線基板の実施形態の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention. 図2は、本発明の配線基板の実施形態の一例を示す概略上面図である。FIG. 2 is a schematic top view showing an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention. 図3は、本発明の配線基板の実施形態の一例におけるダミーパターンを含む導体層の概略上面図である。FIG. 3 is a schematic top view of a conductor layer including a dummy pattern in an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention. 図4は、従来の配線基板を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a conventional wiring board.

次に本発明の配線基板の実施形態の一例を図1〜図3を基に説明する。図1に示すように、本例の配線基板10は、主として絶縁基板1と配線導体2とから成る。   Next, an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the wiring board 10 of this example mainly includes an insulating substrate 1 and a wiring conductor 2.

絶縁基板1は、この例では4層の絶縁層1a〜1dにより形成されている。絶縁層1a〜1dは、互いに上下に積層一体化されている。各絶縁層1a〜1dの厚みは20〜200μm程度である。各絶縁層1a〜1dには、複数のビアホール3が形成されている。ビアホール3の直径は、20〜200μm程度である。絶縁層1a〜1dは、例えばガラスクロスから成る耐熱性基材に熱硬化性樹脂を含浸させた電気絶縁材料から成る。あるいは、耐熱性基材なしの熱硬化性樹脂シートから成る。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂、アリル変性ポリフェニレンエーテル樹脂等が用いられる。   In this example, the insulating substrate 1 is formed by four insulating layers 1a to 1d. The insulating layers 1a to 1d are stacked and integrated one above the other. The thickness of each insulating layer 1a-1d is about 20-200 micrometers. A plurality of via holes 3 are formed in each of the insulating layers 1a to 1d. The diameter of the via hole 3 is about 20 to 200 μm. The insulating layers 1a to 1d are made of an electrically insulating material obtained by impregnating a heat-resistant substrate made of, for example, glass cloth with a thermosetting resin. Or it consists of a thermosetting resin sheet without a heat resistant base material. As the thermosetting resin, epoxy resin, bismaleimide triazine resin, allyl-modified polyphenylene ether resin, or the like is used.

配線導体2は、例えば5層の導体層2a〜2eにより形成されている。導体層2a〜2eは、絶縁層1a〜1dの表面およびビアホール3内に被着されている。導体層2a〜2eの厚みは、絶縁層1a〜1dの表面において5〜25μm程度である。導体層2a〜2bは、例えば銅めっき層や銅箔から成る。   The wiring conductor 2 is formed of, for example, five conductor layers 2a to 2e. The conductor layers 2 a to 2 e are attached to the surfaces of the insulating layers 1 a to 1 d and the via holes 3. The thickness of the conductor layers 2a-2e is about 5-25 micrometers in the surface of the insulating layers 1a-1d. The conductor layers 2a to 2b are made of, for example, a copper plating layer or a copper foil.

配線基板10の上面中央部は、半導体素子Sが搭載される搭載部10Aになっている。搭載部10Aには、複数の半導体素子接続パッド4が形成されている。半導体素子接続パッド4は、導体層2aにより形成されている。半導体素子接続パッド4は、直径が50〜150μm程度の円形である。半導体素子接続パッド4には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。   A central portion of the upper surface of the wiring board 10 is a mounting portion 10A on which the semiconductor element S is mounted. A plurality of semiconductor element connection pads 4 are formed on the mounting portion 10A. The semiconductor element connection pad 4 is formed by the conductor layer 2a. The semiconductor element connection pad 4 has a circular shape with a diameter of about 50 to 150 μm. The electrode terminal T of the semiconductor element S is connected to the semiconductor element connection pad 4.

配線基板10の下面は、外部との接続面となっている。配線基板10の下面には、複数の外部接続パッド5が形成されている。外部接続パッド5は、導体層2eにより形成されている。外部接続パッド5は、直径が200〜600μm程度の円形である。外部接続パッド5は、図示しない電気回路基板に接続される。   The lower surface of the wiring board 10 is a connection surface with the outside. A plurality of external connection pads 5 are formed on the lower surface of the wiring board 10. The external connection pad 5 is formed by the conductor layer 2e. The external connection pad 5 has a circular shape with a diameter of about 200 to 600 μm. The external connection pad 5 is connected to an electric circuit board (not shown).

半導体素子接続パッド4と外部接続パッド5とは、所定のもの同士が導体層2a〜2eを介して電気的に接続されている。そして、この配線基板10は、半導体素子接続パッド4に半導体素子Sの電極端子Tを接続するとともに、外部接続パッド5を電気回路基板に接続することにより、電気回路基板上に実装されることとなる。   The semiconductor element connection pads 4 and the external connection pads 5 are electrically connected to each other through conductor layers 2a to 2e. The wiring board 10 is mounted on the electric circuit board by connecting the electrode terminal T of the semiconductor element S to the semiconductor element connection pad 4 and connecting the external connection pad 5 to the electric circuit board. Become.

この配線基板10おいては、半導体素子接続パッド4に半導体素子Sの電極端子Tを接続する際には、画像認識装置を備えた自動機により半導体素子接続パッド4と半導体素子Sの電極端子Tとの位置合わせが行われる。そのため、搭載部10Aの近傍に複数の認識マーク6が形成されている。ここで、配線基板10の上面図を図2に示す。認識マーク6は、例えば搭載部10Aの外周各辺の中央に対応する位置に4個が形成されている。認識マーク6は、配線導体2から電気的に独立した導体パターンにより形成されている。認識マーク6は、例えば円形や四角形をしている。この認識マーク6を画像認識装置により認識し、その認識データを基に位置合わせが行われる。認識マーク6の大きさは、縦横がそれぞれ100〜1000μm程度である。なお、認識マーク6は、搭載部10Aの外周各角部に対応した位置に形成されていてもよい。また、認識マーク6は、三角形状や十字形状等他の形状であってもよい。さらに、認識マーク6は、2個や3個、あるいは5個以上設けられていてもよい。   In this wiring board 10, when the electrode terminal T of the semiconductor element S is connected to the semiconductor element connection pad 4, the automatic connection device equipped with the image recognition device is used to connect the semiconductor element connection pad 4 and the electrode terminal T of the semiconductor element S. Is aligned. Therefore, a plurality of recognition marks 6 are formed in the vicinity of the mounting portion 10A. Here, a top view of the wiring board 10 is shown in FIG. For example, four recognition marks 6 are formed at positions corresponding to the centers of the outer peripheral sides of the mounting portion 10A. The recognition mark 6 is formed by a conductor pattern that is electrically independent from the wiring conductor 2. The recognition mark 6 has a circular shape or a rectangular shape, for example. The recognition mark 6 is recognized by the image recognition device, and alignment is performed based on the recognition data. The size of the recognition mark 6 is about 100 to 1000 μm in length and width. Note that the recognition mark 6 may be formed at a position corresponding to each outer corner of the mounting portion 10A. The recognition mark 6 may have another shape such as a triangular shape or a cross shape. Further, two, three, or five or more recognition marks 6 may be provided.

また、図1に示すように、この配線基板10においては、反りの低減や厚みばらつきの低減等の目的で、例えば導体層2bにおいて、ダミーパターン7が設けられている。ここで、ダミーパターン7が設けられている導体層2bの上面図を図3に示す。ダミーパターン7は、配線導体2のパターンが形成されていない部分に設けられている。これにより、導体層2bにおける導体パターンの分布の片寄りが低減される。それにより、配線基板10の反りや厚みばらつきを低減することができる。   Further, as shown in FIG. 1, in this wiring board 10, for example, a dummy pattern 7 is provided in the conductor layer 2b for the purpose of reducing warpage and thickness variation. Here, the top view of the conductor layer 2b provided with the dummy pattern 7 is shown in FIG. The dummy pattern 7 is provided in a portion where the pattern of the wiring conductor 2 is not formed. Thereby, the deviation of the distribution of the conductor pattern in the conductor layer 2b is reduced. Thereby, the curvature of wiring board 10 and thickness variation can be reduced.

ダミーパターン7は、信号用の配線導体2に隣接して配置されており、どの配線導体2にも接続されていない。しかしながら、図1に示すように、本例の配線基板10においては、各ダミーパターン7は、配線基板10上面の認識マーク6にビアホール3Dを介して電気的に接続されている。   The dummy pattern 7 is disposed adjacent to the signal wiring conductor 2 and is not connected to any wiring conductor 2. However, as shown in FIG. 1, in the wiring board 10 of this example, each dummy pattern 7 is electrically connected to the recognition mark 6 on the upper surface of the wiring board 10 via the via hole 3D.

本例の配線基板10においても、半導体素子接続パッド4と外部接続パッド5との所定のもの同士が電気的に正常に接続されているかどうかを確認する電気テストが行われる。このとき、電気検査装置のテストブローブを各半導体素子接続パッド4と各外部接続パッド5とに接続するのに加え、各認識マーク6にも接続する。そして、各認識マーク6と各半導体素子接続パッド4および外部接続パッド5との間の電気抵抗を測定することにより、ダミーパターン7と配線導体2との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能となる。したがって、本発明によれば、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供することができる。   Also in the wiring board 10 of this example, an electrical test is performed to check whether or not predetermined ones of the semiconductor element connection pads 4 and the external connection pads 5 are electrically connected normally. At this time, in addition to connecting the test probe of the electrical inspection device to each semiconductor element connection pad 4 and each external connection pad 5, it is also connected to each recognition mark 6. Then, by measuring the electrical resistance between each recognition mark 6 and each semiconductor element connection pad 4 and external connection pad 5, it is possible to easily check whether there is an electrical short circuit between the dummy pattern 7 and the wiring conductor 2. It becomes possible to detect. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a wiring board capable of easily detecting the presence or absence of an electrical short between the dummy pattern and the wiring conductor.

なお、本発明は上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば、種々の変更は可能である。例えば上述の実施形態例では、ダミーパターン7を配線基板10の上面の認識マーク6に電気的に接続したが、配線基板10の表面に配線導体2からは電気的に独立した電気テスト用の導体パターンを認識マーク6とは別に設け、この電気テスト用の導体パターンとダミーパターン7とを電気的に接続しても良い。   In addition, this invention is not limited to an example of the above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in the above-described embodiment, the dummy pattern 7 is electrically connected to the recognition mark 6 on the upper surface of the wiring board 10, but the electrical test conductor that is electrically independent of the wiring conductor 2 on the surface of the wiring board 10. A pattern may be provided separately from the recognition mark 6 and the electrical test conductor pattern and the dummy pattern 7 may be electrically connected.

1・・・・・・・絶縁基板
1a〜1d・・・絶縁層
2・・・・・・・配線導体
6・・・・・・・導体パターン(認識マーク)
7・・・・・・・ダミーパターン
1 .... Insulating substrate 1a-1d ... Insulating layer 2 .... Wiring conductor 6 .... Conductor pattern (recognition mark)
7. Dummy pattern

Claims (2)

複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の表面および前記絶縁層間に被着された配線導体と、前記絶縁基板の前記絶縁層間に被着されており、前記配線導体と電気的に非接続のダミーパターンと、前記絶縁基板の表面に被着されており、前記ダミーパターンと電気的に接続された導体パターンとを具備することを特徴とする配線基板。   An insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, a wiring conductor deposited between the surface of the insulating substrate and the insulating layer, and an insulating substrate deposited between the insulating layers of the insulating substrate; A wiring board comprising: a non-connected dummy pattern; and a conductor pattern that is attached to the surface of the insulating substrate and is electrically connected to the dummy pattern. 前記導体パターンが認識マークであることを特徴とする請求項1記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the conductor pattern is a recognition mark.
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