JP2017045813A - Wiring board - Google Patents
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Abstract
【課題】ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁層1a〜1dが積層されて成る絶縁基板1と、絶縁基板1の表面および絶縁層1a〜1d間に被着された配線導体2と、絶縁基板1の絶縁層1a〜1d間に被着されており、配線導体2と電気的に非接続のダミーパターン7と、絶縁基板1の表面に被着されており、ダミーパターン7と電気的に接続された導体パターン6とを具備する配線基板10である。
【選択図】図1To provide a wiring board capable of easily detecting the presence or absence of an electrical short circuit between a dummy pattern and a wiring conductor.
An insulating substrate in which a plurality of insulating layers 1a to 1d are stacked, a wiring conductor 2 deposited between the surface of the insulating substrate 1 and the insulating layers 1a to 1d, and an insulating layer 1a of the insulating substrate 1. ˜1d, a dummy pattern 7 that is not electrically connected to the wiring conductor 2, and a conductor pattern 6 that is attached to the surface of the insulating substrate 1 and is electrically connected to the dummy pattern 7. A wiring board 10 comprising:
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、半導体素子を搭載するため等に用いられる配線基板に関するものである。 The present invention relates to a wiring board used for mounting a semiconductor element.
半導体素子を搭載するために用いられる従来の配線基板の例を図4に示す。従来の配線基板20は、主として絶縁基板11と配線導体12とから成る。
An example of a conventional wiring substrate used for mounting a semiconductor element is shown in FIG. The
絶縁基板11は、この例では4層の絶縁層11a〜11dにより形成されている。絶縁層11a〜11dは、互いに上下に積層一体化されている。各絶縁層11a〜11dには、複数のビアホール13が形成されている。
In this example, the insulating substrate 11 is formed of four
配線導体12は、例えば5層の導体層12a〜12eにより形成されている。導体層12a〜12eは、絶縁層11a〜11dの表面およびビアホール13内に被着されている。
The
配線基板20の上面中央部は、半導体素子Sが搭載される搭載部20Aになっている。搭載部20Aには、複数の半導体素子接続パッド14が形成されている。半導体素子接続パッド14は、導体層12aにより形成されている。半導体素子接続パッド14には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。
A central portion of the upper surface of the
配線基板20の下面は、外部との接続面となっている。配線基板20の下面には、複数の外部接続パッド15が形成されている。外部接続パッド15は、導体層12eにより形成されている。外部接続パッド15は、図示しない電気回路基板に接続される。
The lower surface of the
半導体素子接続パッド14と外部接続パッド15とは、所定のもの同士が導体層12a〜12eを介して電気的に接続されている。そして、この配線基板20は、半導体素子接続パッド14に半導体素子Sの電極端子Tを接続するとともに、外部接続パッド15を電気回路基板に接続することにより、電気回路基板上に実装されることとなる。
The semiconductor
この配線基板20おいては、半導体素子接続パッド14に半導体素子Sの電極端子Tを接続する際には、画像認識装置を備えた自動機により半導体素子接続パッド14と半導体素子Sの電極端子Tとの位置合わせが行われる。そのため、搭載部20Aの近傍に複数の認識マーク16が形成されている。この認識マーク16を画像認識装置により認識し、その認識データを基に位置合わせが行われる。
In this
また、この配線基板20においては、反りの低減や厚みばらつきの低減等の目的で、例えば導体層12bにおいて、ダミーパターン17を設ける場合がある。ダミーパターン17は、例えば信号用の配線導体12に隣接して配置されており、電気的には配線導体12のパターンに接続されていない。
Further, in this
ところで、この配線基板20においては、半導体素子接続パッド14と外部接続パッド15との所定のもの同士が電気的に正常に接続されているかどうかを確認する電気テストが行われる。電気テストは、電気検査装置のテストブローブを各半導体素子接続パッド14と各外部接続パッド15とに接続し、各パッド間の電気抵抗を測定することにより行われる。互いに電気的に接続されているべきパッド同士であれば、その間の電気抵抗は、数十Ω以下であり、互いに電気的に絶縁されているべきパッド同士であれば、その間の電気抵抗は数百MΩ以上である。
By the way, in this
しかしながら、従来の配線基板20においては、ダミーパターン17は電気的には配線導体12に接続されていない。そのため、例えばダミーパターン17とこれに隣接する信号用の配線導体12との間で電気的な短絡が発生していたとしても、その短絡を検出することができない。信号用の配線導体12とダミーパターン17とが電気的に短絡していた場合、その信号用の配線導体12に信号を良好に伝送させることができないことがある。
However, in the
本発明が解決しようとする課題は、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a wiring board that can easily detect the presence or absence of an electrical short circuit between a dummy pattern and a wiring conductor.
本発明の配線基板は、複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の表面および前記絶縁層間に被着された配線導体と、前記絶縁基板の前記絶縁層間に被着されており、前記配線導体と電気的に非接続のダミーパターンと、前記絶縁基板の表面に被着されており、前記ダミーパターンと電気的に接続された導体パターンとを具備することを特徴とするものである。 The wiring board of the present invention is an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, a wiring conductor applied between the surface of the insulating substrate and the insulating layer, and an insulating substrate attached to the insulating layer of the insulating substrate. And a dummy pattern electrically unconnected to the wiring conductor and a conductor pattern that is attached to the surface of the insulating substrate and electrically connected to the dummy pattern. It is.
本発明の配線基板によれば、絶縁基板の表面に、ダミーパターンと電気的に接続された導体パターンを有することから、この導体パターンと絶縁基板表面の配線導体との間の電気抵抗を測定することにより、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能となる。 According to the wiring board of the present invention, since the conductive pattern electrically connected to the dummy pattern is provided on the surface of the insulating substrate, the electrical resistance between the conductive pattern and the wiring conductor on the surface of the insulating substrate is measured. Thus, it is possible to easily detect the presence or absence of an electrical short circuit between the dummy pattern and the wiring conductor.
次に本発明の配線基板の実施形態の一例を図1〜図3を基に説明する。図1に示すように、本例の配線基板10は、主として絶縁基板1と配線導体2とから成る。
Next, an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the
絶縁基板1は、この例では4層の絶縁層1a〜1dにより形成されている。絶縁層1a〜1dは、互いに上下に積層一体化されている。各絶縁層1a〜1dの厚みは20〜200μm程度である。各絶縁層1a〜1dには、複数のビアホール3が形成されている。ビアホール3の直径は、20〜200μm程度である。絶縁層1a〜1dは、例えばガラスクロスから成る耐熱性基材に熱硬化性樹脂を含浸させた電気絶縁材料から成る。あるいは、耐熱性基材なしの熱硬化性樹脂シートから成る。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂、アリル変性ポリフェニレンエーテル樹脂等が用いられる。
In this example, the
配線導体2は、例えば5層の導体層2a〜2eにより形成されている。導体層2a〜2eは、絶縁層1a〜1dの表面およびビアホール3内に被着されている。導体層2a〜2eの厚みは、絶縁層1a〜1dの表面において5〜25μm程度である。導体層2a〜2bは、例えば銅めっき層や銅箔から成る。
The wiring conductor 2 is formed of, for example, five
配線基板10の上面中央部は、半導体素子Sが搭載される搭載部10Aになっている。搭載部10Aには、複数の半導体素子接続パッド4が形成されている。半導体素子接続パッド4は、導体層2aにより形成されている。半導体素子接続パッド4は、直径が50〜150μm程度の円形である。半導体素子接続パッド4には、半導体素子Sの電極端子Tが接続される。
A central portion of the upper surface of the
配線基板10の下面は、外部との接続面となっている。配線基板10の下面には、複数の外部接続パッド5が形成されている。外部接続パッド5は、導体層2eにより形成されている。外部接続パッド5は、直径が200〜600μm程度の円形である。外部接続パッド5は、図示しない電気回路基板に接続される。
The lower surface of the
半導体素子接続パッド4と外部接続パッド5とは、所定のもの同士が導体層2a〜2eを介して電気的に接続されている。そして、この配線基板10は、半導体素子接続パッド4に半導体素子Sの電極端子Tを接続するとともに、外部接続パッド5を電気回路基板に接続することにより、電気回路基板上に実装されることとなる。
The semiconductor
この配線基板10おいては、半導体素子接続パッド4に半導体素子Sの電極端子Tを接続する際には、画像認識装置を備えた自動機により半導体素子接続パッド4と半導体素子Sの電極端子Tとの位置合わせが行われる。そのため、搭載部10Aの近傍に複数の認識マーク6が形成されている。ここで、配線基板10の上面図を図2に示す。認識マーク6は、例えば搭載部10Aの外周各辺の中央に対応する位置に4個が形成されている。認識マーク6は、配線導体2から電気的に独立した導体パターンにより形成されている。認識マーク6は、例えば円形や四角形をしている。この認識マーク6を画像認識装置により認識し、その認識データを基に位置合わせが行われる。認識マーク6の大きさは、縦横がそれぞれ100〜1000μm程度である。なお、認識マーク6は、搭載部10Aの外周各角部に対応した位置に形成されていてもよい。また、認識マーク6は、三角形状や十字形状等他の形状であってもよい。さらに、認識マーク6は、2個や3個、あるいは5個以上設けられていてもよい。
In this
また、図1に示すように、この配線基板10においては、反りの低減や厚みばらつきの低減等の目的で、例えば導体層2bにおいて、ダミーパターン7が設けられている。ここで、ダミーパターン7が設けられている導体層2bの上面図を図3に示す。ダミーパターン7は、配線導体2のパターンが形成されていない部分に設けられている。これにより、導体層2bにおける導体パターンの分布の片寄りが低減される。それにより、配線基板10の反りや厚みばらつきを低減することができる。
Further, as shown in FIG. 1, in this
ダミーパターン7は、信号用の配線導体2に隣接して配置されており、どの配線導体2にも接続されていない。しかしながら、図1に示すように、本例の配線基板10においては、各ダミーパターン7は、配線基板10上面の認識マーク6にビアホール3Dを介して電気的に接続されている。
The
本例の配線基板10においても、半導体素子接続パッド4と外部接続パッド5との所定のもの同士が電気的に正常に接続されているかどうかを確認する電気テストが行われる。このとき、電気検査装置のテストブローブを各半導体素子接続パッド4と各外部接続パッド5とに接続するのに加え、各認識マーク6にも接続する。そして、各認識マーク6と各半導体素子接続パッド4および外部接続パッド5との間の電気抵抗を測定することにより、ダミーパターン7と配線導体2との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能となる。したがって、本発明によれば、ダミーパターンと配線導体との間の電気的な短絡の有無を容易に検出することが可能な配線基板を提供することができる。
Also in the
なお、本発明は上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば、種々の変更は可能である。例えば上述の実施形態例では、ダミーパターン7を配線基板10の上面の認識マーク6に電気的に接続したが、配線基板10の表面に配線導体2からは電気的に独立した電気テスト用の導体パターンを認識マーク6とは別に設け、この電気テスト用の導体パターンとダミーパターン7とを電気的に接続しても良い。
In addition, this invention is not limited to an example of the above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in the above-described embodiment, the
1・・・・・・・絶縁基板
1a〜1d・・・絶縁層
2・・・・・・・配線導体
6・・・・・・・導体パターン(認識マーク)
7・・・・・・・ダミーパターン
1 .... Insulating substrate 1a-1d ... Insulating layer 2 ....
7. Dummy pattern
Claims (2)
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Cited By (2)
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JP2019176007A (en) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | Fdk株式会社 | Circuit board and method for manufacturing the same |
JP7626988B2 (en) | 2020-12-23 | 2025-02-05 | 株式会社Scu | Semiconductor Device |
-
2015
- 2015-08-26 JP JP2015166303A patent/JP2017045813A/en active Pending
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