JP2014189357A - Non-contact type support device and method for producing film-like base material with coating layer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フィルム状基材の片面に向けて気体を噴出してフィルム状基材を非接触の状態で支持する非接触式支持装置、およびこの非接触式支持装置を用いた塗工層付きフィルム状基材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a non-contact type support device that supports a film-like base material in a non-contact state by ejecting gas toward one side of the film-like base material, and a coating layer using the non-contact type support device The present invention relates to a method for producing a film-like substrate.
従来よりフィルム状基材の片面に向けて気体を噴出してフィルム状基材を非接触の状態で支持する非接触式支持装置が知られており、例えば、特許文献1には、非接触式支持装置の噴出面に多数の気孔が形成された金属薄板に太さがφ0.2〜5.0位の紐状物を巻回して成形したものが開示されており、また特許文献2には、非接触式支持装置の噴出面に開口率が3%を超えないように、円錐又は多角錘のスリット状の突状の開口部が形成されたものが開示されている。 Conventionally, there has been known a non-contact type support device that jets gas toward one side of a film-like base material to support the film-like base material in a non-contact state. A thin metal plate having a large number of pores formed on the ejection surface of the support device is disclosed by winding a string-like object having a thickness of φ0.2 to 5.0, and Patent Document 2 discloses A non-contact type support device is disclosed in which a conical or polygonal slit-like projecting opening is formed so that the opening ratio does not exceed 3%.
ところで、小型で軽量、且つエネルギー密度が高く、繰り返し充放電が可能なリチウムイオン二次電池は、環境対応からも今後の需要の拡大が見込まれている。リチウムイオン二次電池は、エネルギー密度が大きく携帯電話やノート型パソコン等の分野で利用されているが、用途の拡大や発展に伴い、低抵抗化、大容量化等より一層の性能向上が要求されていると共に低コスト化も要求されている。 By the way, the demand for lithium ion secondary batteries that are small and light, have high energy density, and can be repeatedly charged and discharged is expected to increase in the future from the viewpoint of environmental friendliness. Lithium ion secondary batteries have a high energy density and are used in the fields of mobile phones and laptop computers. However, with the expansion and development of applications, further improvements in performance are required, such as lowering resistance and increasing capacity. And cost reduction is also required.
このような背景のもと、リチウムイオン二次電池に用いられる部材であるセパレータを高機能化することが行われており、例えば二次電池用のセパレータに耐熱性を付与するといった目的から、フィルム状基材であるセパレータ基材の表面に耐熱性の機能を有するアルミナを含有した塗工剤を塗工、乾燥し、セパレータ基材の表面に耐熱性の機能層を設けることが行われている。 Under such a background, it has been performed to enhance the function of a separator that is a member used in a lithium ion secondary battery. For example, for the purpose of imparting heat resistance to a separator for a secondary battery, a film A coating agent containing alumina having a heat resistance function is applied to the surface of the separator base material, which is a shaped base material, and dried to provide a heat resistant functional layer on the surface of the separator base material. .
リチウムイオン二次電池のような高性能、高信頼性が求められる分野などにおいては、フィルム状基材に所定の機能を有する塗工層を設けるにあたり、その機能を十分に発揮させるためにも塗工層の均一性が非常に重要となる。 In fields where high performance and high reliability are required, such as lithium ion secondary batteries, when a coating layer having a predetermined function is provided on a film-like substrate, it is also applied in order to fully exhibit its functions. The uniformity of the construction layer is very important.
従来の非接触式支持装置によって塗工層が設けられたフィルム状基材を支持する場合、塗工層が未乾燥であると、非接触式支持装置の噴出部からの気流により、塗工層が荒れてしまい、フィルム状基材に均一な塗工層を形成することが難しかった。 When supporting a film-like substrate provided with a coating layer by a conventional non-contact type support device, if the coating layer is undried, the coating layer is caused by an air flow from the ejection portion of the non-contact type support device. It was difficult to form a uniform coating layer on the film-like substrate.
本発明の目的は、未乾燥のフィルム状基材の塗工層を荒らすことなく、塗工層付きフィルム状基材を非接触の状態で安定に支持できる非接触式支持装置およびこの非接触式支持装置を用いた塗工層付きフィルム状基材の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a non-contact type support device capable of stably supporting a film-like substrate with a coating layer in a non-contact state without roughening the coating layer of the undried film-like substrate, and the non-contact type It is providing the manufacturing method of the film-form base material with a coating layer using a support apparatus.
本発明者は、鋭意検討の結果、フィルム状基材の片面に向けて気体を噴出する非接触式支持装置の噴出面を特定のものとすることで、フィルム状基材の塗工層を荒らすことなく、塗工層付きフィルム状基材を非接触の状態で支持することができ、均一な厚さの塗工層付きフィルム状基材を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the inventor makes the coating layer of the film-like substrate rough by specifying the ejection surface of the non-contact support device that ejects gas toward one side of the film-like substrate. The present invention has been completed by finding that a film-like substrate with a coating layer can be supported without contact, and a film-like substrate with a coating layer having a uniform thickness can be produced. .
即ち、本発明によれば、
(1)一定方向に沿って搬送する長尺状のフィルム状基材を、非接触の状態で支持する非接触式支持装置であって、気体を供給する気体供給部と、前記気体供給部から供給された気体を前記フィルム状基材の片面に向けて噴出する噴出面を有する噴出部と、を備え、 前記噴出面には、最大開口径が5μm以上150μm以下である開口部が形成され、前記噴出面の通気度は、15ml/cm2/sec以上、350ml/cm2/sec以下であることを特徴とする非接触式支持装置、
(2)(1)に記載の非接触式支持装置を用いて、フィルム状基材を製造する方法であって、長尺状のフィルム状基材を一定方向に沿って搬送する搬送工程と、搬送中の前記フィルム状基材の片面または両面に塗工剤を塗工して塗工層を形成する塗工層形成工程と、前記フィルム状基材上の塗工層を乾燥させる乾燥工程と、を含み、前記搬送工程は、前記塗工層形成工程の後で、かつ前記乾燥工程の前に、前記塗工層が形成された前記フィルム状基材を前記非接触式支持装置にて支持した状態で搬送する工程部分を含むことを特徴とする、前記塗工層と前記フィルム状基材とを備える塗工層付きフィルム状基材の製造方法、
(3)前記噴出部内部の圧力を50Pa以上1000Pa以下に制御することを特徴とする(2)に塗工層付きフィルム状基材の製造方法、
(4)前記塗工剤は、温度23℃、せん断速度領域1000(1/s)における粘度が2cP以上80cP以下であることを特徴とする(2)または(3)に記載の塗工層付きフィルム状基材の製造方法、
が提供される。
That is, according to the present invention,
(1) A non-contact type support device that supports a long film-like substrate conveyed along a certain direction in a non-contact state, from a gas supply unit that supplies gas, and the gas supply unit An ejection portion having an ejection surface for ejecting the supplied gas toward one surface of the film-like substrate, and an opening having a maximum aperture diameter of 5 μm or more and 150 μm or less is formed on the ejection surface, A non-contact support device, wherein the air permeability of the ejection surface is 15 ml / cm 2 / sec or more and 350 ml / cm 2 / sec or less,
(2) A method for producing a film-like base material using the non-contact support device according to (1), wherein the transporting step conveys a long film-like base material along a certain direction; A coating layer forming step of forming a coating layer by applying a coating agent on one or both sides of the film-like substrate being conveyed; and a drying step of drying the coating layer on the film-like substrate. The transporting step supports the film-like substrate on which the coating layer is formed by the non-contact type support device after the coating layer forming step and before the drying step. A method for producing a film-like substrate with a coating layer, comprising the coating layer and the film-like substrate, comprising a process part that is conveyed in a state of being carried out,
(3) The method for producing a film-like substrate with a coating layer according to (2), wherein the pressure inside the ejection part is controlled to 50 Pa or more and 1000 Pa or less,
(4) The coating agent has a coating layer according to (2) or (3), wherein the viscosity at a temperature of 23 ° C. and a shear rate region of 1000 (1 / s) is 2 cP or more and 80 cP or less. A method for producing a film-like substrate,
Is provided.
本発明によれば、未乾燥のフィルム状基材の塗工層を荒らすことなく、塗工層付きフィルム状基材を非接触の状態で安定に支持できる非接触式支持装置およびこの非接触式支持装置を用いた塗工層付きフィルム状基材の製造方法を提供することができる。そして、この製造方法により得られた塗工層付きフィルム状基材の塗工層は均一性に優れ、塗工層の機能を効果的に発揮することができる。 According to the present invention, a non-contact type support device capable of stably supporting a film-like substrate with a coating layer in a non-contact state without roughening the coating layer of the undried film-like substrate and the non-contact type The manufacturing method of the film-form base material with a coating layer using a support apparatus can be provided. And the coating layer of the film-form base material with a coating layer obtained by this manufacturing method is excellent in uniformity, and can exhibit the function of a coating layer effectively.
以下、本発明の非接触式支持装置について説明する。本発明の非接触式支持装置は、気体を供給する気体供給部と、前記気体供給部から供給された気体をフィルム状基材の片面に向けて噴出する噴出面を有する噴出部と、を備え、前記フィルム状基材の片面に向けて前記噴出面から気体を噴出して、前記フィルム状基材を非接触の状態で支持する。なお、前記噴出面は、その一面に多数の小さな開口部を有している。 Hereinafter, the non-contact support device of the present invention will be described. A non-contact type support device of the present invention includes a gas supply unit that supplies a gas, and an ejection unit that has an ejection surface that ejects the gas supplied from the gas supply unit toward one side of a film-like substrate. Then, gas is ejected from the ejection surface toward one surface of the film-like substrate, and the film-like substrate is supported in a non-contact state. In addition, the said ejection surface has many small opening parts in the one surface.
非接触式支持装置の噴出面を構成する部材としては、パンチングメタルのような金属板、金属ワイヤーや繊維等の紐状物を巻回したものや編み込んだもの、多孔質金属板、多孔質合成樹脂板、不織布などが挙げられるが、それらを単独で用いても良いし、それらを組み合わせて用いても良い。組み合わせて用いる場合、非接触式支持装置の噴出面を構成する最外面に位置する部材が、本願発明の噴出部の開口部の最大開口径、通気度の範囲である限り、特に制限されない。 As members constituting the ejection surface of the non-contact type support device, a metal plate such as punching metal, a material in which a string-like material such as metal wire or fiber is wound or knitted, a porous metal plate, a porous synthetic material, etc. Although a resin board, a nonwoven fabric, etc. are mentioned, they may be used independently and may be used in combination. When used in combination, the member positioned on the outermost surface constituting the ejection surface of the non-contact support device is not particularly limited as long as it is within the range of the maximum opening diameter and air permeability of the ejection portion of the present invention.
中でも、不織布は、本願発明の範囲の最大開口径、通気度のものを市場より入手可能であり、かつ、既存の非接触式支持装置の噴出面に不織布を巻き付けることで、容易に非接触式支持装置の噴出面を本願発明の範囲の最大開口径、通気度に調整できるため好ましい。また、不織布は開口径のバラツキが少なく、塗工層の荒れの影響を小さくできるため、好ましい。 Among them, the non-woven fabric can be obtained from the market with the maximum opening diameter and air permeability within the scope of the present invention, and the non-woven fabric can be easily non-contacted by winding the non-woven fabric around the ejection surface of the existing non-contact type supporting device. It is preferable because the ejection surface of the support device can be adjusted to the maximum opening diameter and air permeability within the scope of the present invention. Nonwoven fabrics are preferred because they have little variation in opening diameter and can reduce the effect of coating layer roughness.
非接触式支持装置の噴出面の開口部の最大開口径は、ASTM F316−86に準拠して、貫通細孔分布測定装置(ROROLUX 1000、日本ベル株式会社製)を用いて測定を行った。非接触式支持装置の噴出面に用いる部材から任意に5点の25mmφの試験片を取り出し、前記測定により得られた最大開口径の5点の平均値を最大開口径とした。 The maximum opening diameter of the opening on the ejection surface of the non-contact type support device was measured using a through pore distribution measuring device (ROROLUX 1000, manufactured by Nippon Bell Co., Ltd.) in accordance with ASTM F316-86. Five test pieces of 25 mmφ were arbitrarily taken out from the member used for the ejection surface of the non-contact support device, and the average value of the five maximum opening diameters obtained by the above measurement was taken as the maximum opening diameter.
なお、非接触式支持装置の噴出面に用いる部材が厚いなどの理由により、上記測定で測定が困難な場合には、日立走査電子顕微鏡( S-3400N、日立ハイテクノロジー株式会社製)で試験片を観察し、任意の10視野を観察し、各視野の最大開口径の10点の平均値を最大開口径とした。なお、測定条件として、最大開口径と電子顕微鏡の観察倍率は以下の関係となるようにした。 If the measurement is difficult due to the thick member used on the ejection surface of the non-contact type support device, use a Hitachi scanning electron microscope (S-3400N, manufactured by Hitachi High Technology Co., Ltd.). And 10 arbitrary visual fields were observed, and an average value of 10 points of the maximum aperture diameter of each visual field was defined as the maximum aperture diameter. As measurement conditions, the maximum aperture diameter and the observation magnification of the electron microscope were set to have the following relationship.
最大開口径10μm以上20μm未満の場合、電子顕微鏡の観察倍率500倍
最大開口径20μm以上40μm未満の場合、電子顕微鏡の観察倍率250倍
最大開口径40μm以上80μm未満の場合、電子顕微鏡の観察倍率125倍
最大開口径80μm以上150μm未満の場合、電子顕微鏡の観察倍率60倍
最大開口径は、150μm以下、好ましくは100μm以下、より好ましくは70μm以下、さらに好ましくは40μm以下であり、5μm以上、好ましくは15μm以上、さらに好ましくは25μm以上である。
When the maximum aperture diameter is 10 μm or more and less than 20 μm, the observation magnification of the electron microscope is 500 times. When the maximum aperture diameter is 20 μm or more and less than 40 μm, the observation magnification of the electron microscope is 250 times. When the maximum aperture diameter is 40 μm or more and less than 80 μm, the observation magnification of the electron microscope is 125 When the maximum aperture diameter is 80 μm or more and less than 150 μm, the observation magnification of the electron microscope is 60 times. The maximum aperture diameter is 150 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 70 μm or less, further preferably 40 μm or less, and more preferably 5 μm or more, preferably It is 15 μm or more, more preferably 25 μm or more.
この範囲にあると、フィルム状基材の塗工層の荒れを抑制しつつ、フィルム状基材を非接触の状態で安定に支持することができる。 Within this range, the film-like substrate can be stably supported in a non-contact state while suppressing the roughness of the coating layer of the film-like substrate.
非接触式支持装置の噴出面の通気度の測定は、JIS L 1096 A法(フラジール形法)に準拠して、フラジール形通気度試験機(AP−360S、大栄科学精器製作所製)を用いて行った。非接触式支持装置の噴出面に用いる材料から任意に5点試験片を取り出し、上記測定により得られた通気度の5点の平均値を通気度とした。 The measurement of the air permeability of the ejection surface of the non-contact type support device is based on JIS L 1096 A method (Fragile type method) using a Fragile type air permeability tester (AP-360S, manufactured by Daiei Kagaku Seiki Seisakusho). I went. A five-point test piece was arbitrarily taken out from the material used for the ejection surface of the non-contact support device, and the average value of the five points of the air permeability obtained by the above measurement was taken as the air permeability.
通気度は、350ml/cm2/sec以下、好ましくは200ml/cm2/sec以下、より好ましくは100ml/cm2/sec以下、さらに好ましくは70ml/cm2/sec以下であり、15ml/cm2/sec以上、好ましくは25ml/cm2/sec以上、さらに好ましくは35ml/cm2/sec以上である。 The air permeability is 350 ml / cm 2 / sec or less, preferably 200 ml / cm 2 / sec or less, more preferably 100 ml / cm 2 / sec or less, further preferably 70 ml / cm 2 / sec or less, and 15 ml / cm 2 / Sec or more, preferably 25 ml / cm 2 / sec or more, more preferably 35 ml / cm 2 / sec or more.
この範囲にあると、フィルム状基材の塗工層の荒れを抑制しつつ、フィルム状基材を非接触の状態で安定に支持することができる。 Within this range, the film-like substrate can be stably supported in a non-contact state while suppressing the roughness of the coating layer of the film-like substrate.
また、非接触式支持装置の形状としては、非接触でフィルム状基材を搬送できる構造であれば特に限定されず、噴出面を搬送面とする円柱状、半円柱状、1/4円柱状などの形状を選択できる。 In addition, the shape of the non-contact type support device is not particularly limited as long as it is a structure capable of transporting a film-like base material in a non-contact manner. The shape such as can be selected.
非接触式支持装置の噴出部内部の圧力としては、好ましくは50Pa以上、より好ましくは100Pa以上であり、好ましくは1000Pa以下、より好ましくは800Pa以下、さらに好ましくは500Pa以下、特に好ましくは300Pa以下である。 The pressure inside the ejection part of the non-contact type support device is preferably 50 Pa or more, more preferably 100 Pa or more, preferably 1000 Pa or less, more preferably 800 Pa or less, still more preferably 500 Pa or less, particularly preferably 300 Pa or less. is there.
非接触式支持装置の噴出部内部の圧力は、非接触式支持装置の噴出部に接続された圧力計(デジタル圧力センサAP−C30、キーエンス株式会社製)によって測定できる。 The pressure inside the ejection part of the non-contact type support device can be measured by a pressure gauge (digital pressure sensor AP-C30, manufactured by Keyence Corporation) connected to the ejection part of the non-contact type support device.
非接触式支持装置の噴出部内部の圧力を前記範囲にすることで、乾燥前のフィルム状基材の塗工層の荒れを抑制しつつ、フィルム状基材を安定して搬送することが可能となる。なお、前記圧力が下限値未満であると、フィルム状基材を安定して浮遊させることが難しくなり、塗工層と非接触式支持装置の噴出面とが接して塗工層が損傷するおそれがあり、前記圧力が上限値超過であると、基材の塗工層が非接触式支持装置の噴出面からの気流により塗工層が荒れやすくなり、また、非接触式支持装置から最も近い塗工層形成工程において、フィルム状基材が振動し易くなり、フィルム状基材に塗工剤を均一に塗工するのが難しくなる。 By setting the pressure inside the ejection part of the non-contact type support device within the above range, it is possible to stably transport the film substrate while suppressing the roughness of the coating layer of the film substrate before drying. It becomes. If the pressure is less than the lower limit, it is difficult to stably float the film-like substrate, and the coating layer and the ejection surface of the non-contact support device may come into contact with each other and the coating layer may be damaged. If the pressure exceeds the upper limit value, the coating layer of the base material tends to be rough due to the airflow from the ejection surface of the non-contact type support device, and is closest to the non-contact type support device. In the coating layer forming step, the film-like substrate is likely to vibrate, and it becomes difficult to uniformly apply the coating agent to the film-like substrate.
本発明の非接触式支持装置を用いて塗工層付きフィルム状基材を製造する場合において、配置する非接触式支持装置の数は一個であっても本願発明の効果を発揮できるが、基材搬送の安定性をより向上させ、フィルム状基材に塗工剤を均一に塗工することができることから、非接触式支持装置を複数個使用することが好ましい。非接触式支持装置を複数使用する場合には、基材搬送方向上流の上流非接触式支持装置と前記上流非接触式支持装置に最も近い基材搬送方向下流の下流非接触式支持装置において、前記下流非接触式支持装置は、前記上流非接触式支持装置の噴出面に対向するフィルム状基材の片面とは反対のフィルム状基材の面に対して、前記下流非接触式支持装置の噴出面を対向するように配置することが好ましい。 In the case of producing a film-like substrate with a coating layer using the non-contact type support device of the present invention, the effect of the present invention can be exhibited even if the number of non-contact type support devices arranged is one. It is preferable to use a plurality of non-contact type support devices because the stability of material conveyance can be further improved and the coating agent can be uniformly applied to the film-like substrate. In the case of using a plurality of non-contact type support devices, in the upstream non-contact type support device upstream of the base material transport direction and the downstream non-contact type support device downstream of the base material transport direction closest to the upstream non-contact type support device, The downstream non-contact type support device is configured such that the downstream non-contact type support device has a surface opposite to the surface of the film-like substrate opposite to the ejection surface of the upstream non-contact type support device. It is preferable to arrange the ejection surfaces to face each other.
本発明の非接触式支持装置は、フィルム状基材の片面または両面に塗工層を形成するのに用いられ、特にフィルム状基材の両面に塗工層を形成するのに好ましく用いられる。本発明の非接触支持装置を用いてフィルム状基材の両面に塗工層を形成する場合、乾燥工程における風などの影響によるフィルム状基材の振動を抑制して、フィルム状基材に塗工剤を均一に塗工できるのに加え、塗工層を乾燥させる乾燥工程を1つとした簡易な設備で両面塗工層付きフィルム状基材を製造することができるため好ましい。 The non-contact type support device of the present invention is used to form a coating layer on one side or both sides of a film-like substrate, and particularly preferably used to form a coating layer on both sides of a film-like substrate. When forming a coating layer on both surfaces of a film-like substrate using the non-contact support device of the present invention, the vibration of the film-like substrate due to the influence of wind or the like in the drying process is suppressed and applied to the film-like substrate. In addition to being able to coat the coating agent uniformly, it is preferable because the film-like substrate with a double-sided coating layer can be produced with a simple facility with a single drying step for drying the coating layer.
次に本発明で用いるフィルム状基材に塗工する塗工剤について説明する。フィルム状基材に機能を付与するため、フィルム状基材には、通常、機能性を付与する物質を含む塗工剤を塗工する。塗工剤の粘度は、フィルム状基材に均一な塗工層を形成する観点から、好ましくは2cP以上、より好ましくは5cP以上、特に好ましくは15cP以上であり、好ましくは80cP以下、より好ましくは50cP以下、特に好ましくは25cP以下である。塗工剤の粘度は、粘度・粘弾性測定装置(レオストレスHAAKE RS6000、英弘精機株式会社製)を用いて、温度23℃、せん断速度領域1000(1/s)において測定される粘度である。 Next, the coating agent applied to the film-like substrate used in the present invention will be described. In order to impart a function to the film-like substrate, the film-like substrate is usually coated with a coating agent containing a substance that imparts functionality. The viscosity of the coating agent is preferably 2 cP or more, more preferably 5 cP or more, particularly preferably 15 cP or more, preferably 80 cP or less, more preferably from the viewpoint of forming a uniform coating layer on the film-like substrate. 50 cP or less, particularly preferably 25 cP or less. The viscosity of the coating agent is a viscosity measured at a temperature of 23 ° C. and a shear rate region of 1000 (1 / s) using a viscosity / viscoelasticity measuring device (Rheostress HAAKE RS6000, manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd.).
塗工剤の粘度が前記下限値未満であると、塗工層付きフィルム状基材が非接触式支持装置で支持される際に、非接触式支持装置の噴出面からの気流により未乾燥の塗工層が荒れやすくなり、また塗工剤の粘度が前記上限値超過であると、塗工剤をフィルム状基材に均一に塗工することが難しくなる。 When the viscosity of the coating agent is less than the lower limit, when the film-like substrate with the coating layer is supported by the non-contact type support device, it is undried by the air current from the ejection surface of the non-contact type support device. When the coating layer is easily roughened and the viscosity of the coating agent exceeds the upper limit, it is difficult to uniformly apply the coating agent to the film-like substrate.
塗工剤には、機能性を付与する物質、及び溶媒、必要に応じてその他物質を含む。セパレータに機能性を付与する物質としては、フィルム状基材に付与したい機能に応じて適宜選択でき、例えば、フィルム状基材に耐熱性を付与したい場合には、塗工剤に耐熱性の物質を含む塗工剤を選択し、フィルム状基材に接着性を付与したい場合には、塗工剤に接着性の物質を含む塗工剤を選択する。 The coating agent contains a substance that imparts functionality, a solvent, and other substances as necessary. The substance imparting functionality to the separator can be appropriately selected according to the function to be imparted to the film-like base material. For example, when it is desired to impart heat resistance to the film-like base material, the coating agent has a heat-resistant substance. When a coating agent containing is selected and it is desired to impart adhesiveness to the film-like substrate, a coating agent containing an adhesive substance in the coating agent is selected.
耐熱性の物質としては、例えば無機粒子、有機粒子を使用することができる。 無機粒子としては、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化チタン、BaTiO2、ZrO、アルミナ−シリカ複合酸化物等の酸化物粒子;窒化アルミニウム、窒化硼素等の窒化物粒子;シリコーン、ダイヤモンド等の共有結合性結晶粒子;硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等の難溶性イオン結晶粒子;タルク、モンモリロナイトなどの粘土微粒子等が用いられる。これらの粒子は必要に応じて元素置換、表面処理、固溶体化等されていてもよく、また単独でも2種以上の組合せからなるものでもよい。 As the heat resistant substance, for example, inorganic particles and organic particles can be used. As inorganic particles, oxide particles such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, titanium oxide, BaTiO2, ZrO, alumina-silica composite oxide; nitride particles such as aluminum nitride and boron nitride; sharing of silicone, diamond, etc. Bonding crystal particles; sparingly soluble ionic crystal particles such as barium sulfate, calcium fluoride, and barium fluoride; clay fine particles such as talc and montmorillonite are used. These particles may be subjected to element substitution, surface treatment, solid solution, or the like, if necessary, or may be a single or a combination of two or more.
有機粒子としては、その溶融温度は、好ましくは130℃以上、より好ましくは150℃以上、特に好ましくは180℃以上である。具体的には、架橋ポリメタクリル酸メチル、架橋ポリスチレン、架橋ポリジビニルベンゼン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体架橋物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物などの各種架橋高分子粒子や、ポリスルフォン、ポリアクリロニトリル、ポリアラミド、ポリアセタール、熱可塑性ポリイミドなどの耐熱性高分子粒子などが例示できる。また、これらの有機粒子を構成する有機樹脂(高分子)は、前記例示の材料の混合物、変性体、誘導体、共重合体(ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体)、架橋体(前記の耐熱性高分子の場合)であってもよい。 The organic particles have a melting temperature of preferably 130 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and particularly preferably 180 ° C. or higher. Specifically, cross-linked polymethyl methacrylate, cross-linked polystyrene, cross-linked polydivinylbenzene, styrene-divinylbenzene copolymer cross-linked product, polyimide, polyamide, polyamideimide, melamine resin, phenol resin, benzoguanamine-formaldehyde condensate, etc. Examples thereof include crosslinked polymer particles, heat-resistant polymer particles such as polysulfone, polyacrylonitrile, polyaramid, polyacetal, and thermoplastic polyimide. The organic resin (polymer) constituting these organic particles is a mixture, modified body, derivative, or copolymer (random copolymer, alternating copolymer, block copolymer, graft copolymer) of the materials exemplified above. Polymer) or a crosslinked product (in the case of the above-mentioned heat-resistant polymer).
接着性の物質としては、通常10℃以上、好ましくは30℃以上、より好ましくは40℃以上、また、通常110℃以下、好ましくは100℃以下、より好ましくは90℃以下のガラス転移温度を有する粒子状の重合体を用いる。粒子状重合体のガラス転移温度が前記下限値以上であることにより、フィルム状基材の保存時、運搬時及び取り扱い時において粒子状重合体の軟化を抑制して、ブロッキングを防止できる。また、ガラス転移温度が高い粒子状重合体を用いることにより、接着層の耐熱性が向上する。また、粒子状重合体のガラス転移温度が前記上限値以下であることにより、フィルム状基材を対象物に貼り合せる際に、熱により粒子状重合体を容易に軟化させることができる。 The adhesive substance usually has a glass transition temperature of 10 ° C. or higher, preferably 30 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, and usually 110 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower. A particulate polymer is used. When the glass transition temperature of the particulate polymer is equal to or higher than the lower limit, the softening of the particulate polymer can be suppressed at the time of storage, transportation and handling of the film-like substrate, and blocking can be prevented. Moreover, the heat resistance of a contact bonding layer improves by using a particulate polymer with a high glass transition temperature. Moreover, when the glass transition temperature of a particulate polymer is below the said upper limit, when bonding a film-like base material to a target object, a particulate polymer can be easily softened with a heat | fever.
機能性を付与する物質の平均粒子径(体積平均のD50平均粒子径)は、通常0.1μm以上、好ましくは0.2μm以上であり、通常5μm以下、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下である。平均粒子径を前記範囲とすることにより、分散状態の制御と均質な所定の厚さの膜が得られ易くなる。 The average particle size (volume average D50 average particle size) of the substance imparting functionality is usually 0.1 μm or more, preferably 0.2 μm or more, and usually 5 μm or less, preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less. It is. By setting the average particle diameter in the above range, it becomes easy to obtain a film having a predetermined thickness that is uniform in controlling the dispersion state.
溶媒としては、塗工剤中の固形分を均一に分散し得るものであれば特に制限されない。溶媒としては、水および有機溶媒のいずれも使用できる。有機溶媒としては、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、クロロホルム、ピリジン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、n−ブチルフタレート、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチルアセテート、二硫化炭素、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロヘキサン、N−メチルピロリドン等が例示される。これらの溶媒は単独でも混合溶媒でも使用することができる。 The solvent is not particularly limited as long as the solid content in the coating agent can be uniformly dispersed. As the solvent, either water or an organic solvent can be used. Organic solvents include toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, pyridine, acetone, dimethylformamide, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, n-butyl phthalate, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethyl acetate, carbon disulfide, cyclohexane, cyclopentane, methyl Examples include cyclohexane and N-methylpyrrolidone. These solvents can be used alone or as a mixed solvent.
その他の物質としては、特に制限されないが、バインダー、増粘剤、界面活性剤などが挙げられる。 Examples of other substances include, but are not limited to, binders, thickeners, and surfactants.
バインダーとしては、ジエン系重合体、アクリル系重合体、フッ素系重合体、シリコーン系重合体、マレイミド−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。増粘剤としては、カルボキシメチルセルロースなどの水溶性多糖類、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンイミン、ポリビニルアルコール、及びポリビニルピロリドンなどが挙げられる。 Examples of the binder include a diene polymer, an acrylic polymer, a fluorine polymer, a silicone polymer, and a maleimide-maleic anhydride copolymer. Examples of the thickener include water-soluble polysaccharides such as carboxymethylcellulose, sodium polyacrylate, polyethyleneimine, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone.
塗工剤の固形分濃度は、塗工剤を塗工可能な粘度となる濃度であれば特に限定されないが、通常10質量%以上60質量%以下である。 The solid content concentration of the coating agent is not particularly limited as long as it is a concentration that provides a viscosity at which the coating agent can be applied, but is usually 10% by mass or more and 60% by mass or less.
塗工剤を均一に混合調整する混合装置は、上記成分を均一に混合できる装置であれば特に限定はされず、ボールミル、サンドミル、顔料分散機、擂潰機、超音波分散機、ホモジナイザー、プラネタリーミキサーなどを使用することができる。 The mixing device for uniformly mixing and adjusting the coating agent is not particularly limited as long as it can uniformly mix the above components. A ball mill, sand mill, pigment disperser, crusher, ultrasonic disperser, homogenizer, planetar Lee mixer etc. can be used.
本発明で用いる長尺状のフィルム状基材としては、特に限定されず、樹脂製フィルム、樹脂製多孔質フィルム、金属製フィルム、金属製多孔質フィルム、不織布など用いることができる。中でも樹脂製多孔質フィルムが本願発明に好ましく用いられ、さらにその中でも二次電池用セパレータ基材が本願発明に好ましく用いられる。 It does not specifically limit as a elongate film-form base material used by this invention, A resin film, a resin porous film, a metal film, a metal porous film, a nonwoven fabric etc. can be used. Among these, a resin porous film is preferably used in the present invention, and among them, a secondary battery separator substrate is preferably used in the present invention.
フィルム状基材の幅は、特に制限されないが、TD方向で、通常300mm以上、5000mm以下である。 フィルム状基材の厚さは、通常0.5μm以上、1000μm以下であり、フィルム状基材が二次電池用セパレータ基材の場合には、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下、さらに好ましくは20μm以下である。 The width of the film-like substrate is not particularly limited, but is usually 300 mm or more and 5000 mm or less in the TD direction. The thickness of the film-like substrate is usually 0.5 μm or more and 1000 μm or less, and when the film-like substrate is a secondary battery separator substrate, it is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, Preferably it is 50 micrometers or less, More preferably, it is 30 micrometers or less, More preferably, it is 20 micrometers or less.
フィルム状基材の基材搬送方向(MD方向)の長さは、特に制限されないが、通常フィルム状基材の幅に対して10倍以上である。 The length of the film substrate in the substrate conveyance direction (MD direction) is not particularly limited, but is usually 10 times or more the width of the film substrate.
フィルム状基材の強度は、特に制限されないが、フィルム状基材が二次電池用セパレータ基材である場合には、基材搬送方向の引張弾性率で、通常400MPa以上2000MPa以下の範囲である。セパレータ基材の強度が弱いため、必要以上の力が掛かるとセパレータ基材が変形してシワが発生したり、塗工層が損傷するなどの不具合が生じやすい。なお、基材の引張弾性率は、引張試験器(オートグラフ AGS−5KNG、株式会社島津製作所製)を用い、23℃において、チャック間50mm、サンプル幅5mm、サンプル厚さ12μm、速度50mm/minで測定した際の、応力−歪み曲線における応力10〜25MPaでの傾きから算出した値である。 The strength of the film-like substrate is not particularly limited, but when the film-like substrate is a secondary battery separator substrate, the tensile elastic modulus in the substrate transport direction is usually in the range of 400 MPa to 2000 MPa. . Since the strength of the separator base material is weak, when the force more than necessary is applied, the separator base material is deformed and wrinkles are generated or the coating layer is easily damaged. The tensile modulus of the base material is determined by using a tensile tester (Autograph AGS-5KNG, manufactured by Shimadzu Corporation) at 23 ° C., 50 mm between chucks, 5 mm sample width, 12 μm sample thickness, and 50 mm / min speed. This is a value calculated from the slope at a stress of 10 to 25 MPa in the stress-strain curve when measured by.
本発明において、フィルム状基材に塗工剤を塗工する方法は特に限定されず、ドクターブレード法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、グラビア法、エクストルージョン法、ハケ塗り法などを用いることができる。中でもグラビア法が好ましく、グラビア法には、グラビアロールが基材搬送方向に対して同じ方向に進むダイレクト方式と、逆方向に進むリバース方式があり、また、バックアップロールがグラビアロールに対して押し付ける位置に設置されるものやバックアップロールがないキス方式などある。またこれら方式を組み合わせて採用することもできる。中でも、高速で塗工してもフィルム状基材に塗工剤を均一に塗工できることから、リバース・キス方式が好ましい。 In the present invention, the method for applying the coating agent to the film-like substrate is not particularly limited, and a doctor blade method, a dip method, a reverse roll method, a direct roll method, a gravure method, an extrusion method, a brush coating method, etc. Can be used. Of these, the gravure method is preferable, and the gravure method includes a direct method in which the gravure roll advances in the same direction as the substrate conveyance direction and a reverse method in which the gravure roll advances in the reverse direction, and the backup roll is pressed against the gravure roll. There is a kiss method that does not have a backup roll. A combination of these methods can also be employed. Among them, the reverse kiss method is preferable because the coating agent can be uniformly applied to the film-like substrate even when applied at high speed.
また、グラビアロールに塗工剤を供給する密閉チャンバーを有する塗工ユニットと、密閉チャンバーに形成された塗工剤液溜まり内に塗工剤を供給する塗工剤供給手段とを備え、密閉チャンバーには、塗工液溜まりのグラビアロール回転方向下流部をシールするとともに、グラビアロール付着した余分な塗工剤を除去するドクターブレードと、塗工液溜まりのグラビアロール回転方向上流部をシールするシールプレートとを備えた、いわゆるチャンバードクター方式を用いることが好ましい。チャンバードクター方式であると、塗工層に気泡が混入し難く、かつ塗工量が安定するため、基材に塗工剤を均一に塗工することが可能となる。 Further, the sealing unit includes a coating unit having a sealed chamber for supplying the coating agent to the gravure roll, and a coating agent supply means for supplying the coating agent in a coating agent liquid reservoir formed in the sealed chamber. In addition to sealing the downstream part of the gravure roll rotation direction of the coating liquid reservoir, the doctor blade for removing the excess coating agent adhering to the gravure roll, and the seal sealing the upstream part of the gravure roll rotation direction of the coating liquid reservoir It is preferable to use a so-called chamber doctor system including a plate. In the case of the chamber doctor method, it is difficult for air bubbles to be mixed into the coating layer and the coating amount is stable, so that the coating agent can be uniformly applied to the substrate.
グラビアロールのセルパターンとしては、連続した形状のものが好ましく、例えば、ヘリカル環状である凹部、或いは亀甲型、格子型などの連続幾何学模様の凹部等が形成されたものなど用いることができる。 The cell pattern of the gravure roll is preferably a continuous one, and for example, a concave portion having a helical ring shape or a concave portion having a continuous geometric pattern such as a turtle shell type or a lattice type may be used.
本発明において、フィルム状基材を搬送する際の、フィルム状基材の張力は、通常10N/m以上、1000N/m以下に制御する。特にフィルム状基材が二次電池用セパレータ基材である場合、セパレータ基材の張力は、好ましくは15N/m以上、より好ましくは30N/m以上、さらに好ましくは50N/m以上であり、好ましくは150N/m以下、より好ましくは130N/m以下、さらに好ましくは100N/m以下に制御する。 In this invention, the tension | tensile_strength of a film-form base material at the time of conveying a film-form base material is normally controlled to 10 N / m or more and 1000 N / m or less. In particular, when the film substrate is a separator substrate for a secondary battery, the tension of the separator substrate is preferably 15 N / m or more, more preferably 30 N / m or more, further preferably 50 N / m or more, preferably Is controlled to 150 N / m or less, more preferably 130 N / m or less, and still more preferably 100 N / m or less.
フィルム状基材の張力は、張力検出器(形微変位張力検出器LX−015TD−909、三菱電機株式会社製)を用いて測定する。フィルム状基材の張力を測定する場所は、基材搬送方向上流の基材巻き出しまたは送り出しの駆動ロールと、基材搬送方向下流の基材巻き取りまたは引き取りの駆動ロールとの間であれば、測定される張力に変わりが無いため特に制限されないが、具体的には、基材搬送方向上流の基材送り出し(または巻き出し)の駆動ロールと、前記基材送り出し(または巻き出し)の駆動ロールに対して最も近い基材搬送方向下流の接触式ガイドロールとの間のフィルム状基材の張力を測定した。なお、基材の送り出しの駆動ロールを使用しない場合には、基材の巻き出し駆動ロールと、前記基材の巻き出し駆動ロールに対して最も近い基材搬送方向下流の接触式ガイドロールとの間のフィルム状基材の張力を測定する。 The tension of the film-like substrate is measured using a tension detector (formal displacement tension detector LX-015TD-909, manufactured by Mitsubishi Electric Corporation). The place where the tension of the film-like base material is measured is between the base material unwinding or feeding drive roll upstream in the base material transport direction and the base material winding or take-up drive roll downstream in the base material transport direction. Although there is no particular limitation on the measured tension, there is no particular limitation. Specifically, the substrate feeding (or unwinding) driving roll upstream of the substrate transport direction and the substrate feeding (or unwinding) driving are described above. The tension | tensile_strength of the film-form base material between the contact type guide rolls downstream in the base material conveyance direction nearest to the roll was measured. In the case where the drive roll for feeding the substrate is not used, the unwinding drive roll for the substrate and the contact guide roll downstream in the substrate transport direction closest to the unwind drive roll for the substrate In the meantime, the tension of the film-like substrate is measured.
なお、駆動ロールとはモーター等の動力によりロールが自ら回転するものであり、接触式ガイドロールとは、モーター等の動力によりロールが自ら回転するものでは無く、基材搬送に際し、フィルム状基材とロールの接触に伴ってロールが回転するものである。 The drive roll is a roll that rotates itself by the power of a motor or the like, and the contact-type guide roll is not a roll that rotates itself by the power of a motor or the like. The roll rotates with the contact of the roll.
駆動ロールには大きく分けて、基材送り出しや引き取りの駆動ロールと、基材巻き出しや巻き取りの駆動ロールがある。基材送り出しや引き取りの駆動ロールとしては、ロールとロールの間で基材を挟み込んで搬送するニップロールや、ロール表面の多孔性の穴から吸引して基材をグリップして搬送するサクションロールが挙げられ、基材巻き出しや巻き取りの駆動ロールとしては、軸が回転して基材の巻き出しや巻き取りを行う、基材巻き出し、巻き取りの駆動ロールが挙げられる。 The drive roll is roughly divided into a drive roll for feeding and taking out a base material, and a drive roll for feeding and taking up a base material. Examples of the driving roll for feeding and taking out the base material include a nip roll that sandwiches and transports the base material between the rolls, and a suction roll that grips and transports the base material by suction from a porous hole on the roll surface. Examples of the drive rolls for unwinding and winding the substrate include drive rolls for unwinding and winding the substrate in which the shaft rotates to unwind and wind the substrate.
フィルム状基材の張力は、基材搬送方向上流の基材巻き出しまたは送り出しの駆動ロールと、基材搬送方向下流の基材巻き取りまたは引き取りの駆動ロールの回転速度を調節することで調整できる。 The tension of the film-like substrate can be adjusted by adjusting the rotational speed of the drive roll for unwinding or feeding the substrate upstream in the transport direction of the substrate and the drive roll for winding or pulling the substrate downstream in the transport direction of the substrate. .
なお、基材巻き出しの駆動ロールと基材巻き取りの駆動ロールのみを用いて、フィルム状基材の巻き出しから巻き取りまで行うこともできるが、高速でフィルム状基材を搬送する際には、基材送り出しや引き取りの駆動ロールを併用することが好ましい。基材送り出しや引き取りの駆動ロールを併用する場合、基材搬送方向に対し最も上流、下流にそれぞれ基材巻き出しの駆動ロール、基材巻き取りの駆動ロールを配置し、基材巻き出しの駆動ロールに対して基材搬送方向下流に基材送り出しの駆動ロールを配置し、基材巻き取り駆動ロールに対して、基材搬送方向上流に基材引き取りの駆動ロールを配置する。この場合のフィルム状基材の張力を測定する場所は、基材搬送方向上流の基材送り出しの駆動ロールと、基材搬送方向下流の基材引き取りの駆動ロールとの間で行う。 In addition, it is possible to carry out from unwinding to winding of the film-like substrate using only the drive roll for unwinding the substrate and the drive roll for winding the substrate. It is preferable to use a drive roll for feeding or taking out the substrate. When using a drive roll for feeding and taking out a base material, a drive roll for feeding the base material and a drive roll for taking up the base material are arranged at the most upstream and downstream, respectively, with respect to the transport direction of the base material. A drive roll for feeding the substrate is arranged downstream of the roll in the substrate conveyance direction, and a drive roll for taking up the substrate is arranged upstream of the substrate take-up drive roll in the conveyance direction of the substrate. The place for measuring the tension of the film-like substrate in this case is performed between the drive roll for feeding the substrate upstream in the substrate conveyance direction and the drive roll for taking the substrate downstream in the substrate conveyance direction.
フィルム状基材の張力が前記範囲であると、フィルム状基材の振動を抑制でき、フィルム状基材に塗工剤を均一に塗工することができる。なお、フィルム状基材の張力が前記下限値未満であると、フィルム状基材の振動が大きくなりフィルム状基材に塗工剤を均一に塗工することが困難になり、フィルム状基材、その中でも特にフィルム状基材が二次電池用セパレータ基材の場合、その張力が前記上限値を超えると、フィルム状基材が伸びてシワが入って塗工層が損傷するおそれがある。 When the tension of the film-like substrate is within the above range, the vibration of the film-like substrate can be suppressed, and the coating agent can be uniformly applied to the film-like substrate. If the tension of the film-like substrate is less than the lower limit, the vibration of the film-like substrate becomes large and it becomes difficult to uniformly apply the coating agent to the film-like substrate. In particular, when the film-shaped substrate is a separator substrate for a secondary battery, when the tension exceeds the upper limit, the film-shaped substrate may be stretched and wrinkled to damage the coating layer.
乾燥前のフィルム状基材の片面の塗工層の厚さは、乾燥後のフィルム状基材の塗工層の厚さに応じて適宜設定されるが、通常0.1μm以上、200μm以下の厚さである。 The thickness of the coating layer on one side of the film-like substrate before drying is appropriately set according to the thickness of the coating layer of the film-like substrate after drying, but is usually 0.1 μm or more and 200 μm or less. Is the thickness.
乾燥工程においては、例えば温風、熱風、低湿風による乾燥、(遠)赤外線や電子線などの照射による乾燥法が挙げられる。中でも温風による乾燥が効率的に塗工層を乾燥でき、フィルム状基材の収縮が起こり難いことから好ましい。温風の温度は、使用する溶媒の種類や乾燥時間などによって適宜設定されるが、フィルム状基材が熱収縮を起こす恐れがあるため、通常100℃以下、好ましくは80℃以下、より好ましくは60℃以下である。 Examples of the drying step include drying with warm air, hot air, and low-humidity air, and drying methods by irradiation with (far) infrared rays or electron beams. Of these, drying with warm air is preferable because the coating layer can be efficiently dried and the film-like substrate is unlikely to shrink. The temperature of the hot air is appropriately set depending on the type of solvent used, the drying time, and the like. However, since the film-like substrate may cause thermal shrinkage, it is usually 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower, more preferably It is 60 degrees C or less.
乾燥後のフィルム状基材の片面の塗工層の厚さは、特に限定はされず、通常0.1μm以上、50μm以下である。フィルム状基材が二次電池用セパレータ基材の場合には、二次電池用セパレータに求められる機能などに応じて適宜設定できるが、薄すぎると均一な塗工層を形成できず、又厚すぎると電池内での体積(質量)あたりの容量(capacity)が減ることから、好ましくは0.3μm以上、より好ましくは1μm以上であり、好ましくは20μm以下、より好ましくは10μm以下である。 The thickness of the coating layer on one side of the film-like substrate after drying is not particularly limited, and is usually 0.1 μm or more and 50 μm or less. When the film-like substrate is a secondary battery separator substrate, it can be set as appropriate according to the functions required of the secondary battery separator, but if it is too thin, a uniform coating layer cannot be formed, and the thickness If the amount is too large, the capacity per volume (mass) in the battery is reduced, so that it is preferably 0.3 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less.
本発明の方法において、フィルム状基材に二次電池用セパレータ基材を用いて、塗工層付き二次電池セパレータ基材を得て、前記塗工層付き二次電池用セパレータ基材を用いて二次電池を製造する場合、その使われ方に特に制限は無いが、例えば、正極と負極とをセパレータを介して重ね合わせ、これを電池形状に応じて巻く、折るなどして電池容器に入れ、電池容器に電解液を注入して封口する方法によって二次電池を得ることが出来る。必要に応じてエキスパンドメタルや、ヒューズ、PTC素子などの過電流防止素子、リード板などを入れ、電池内部の圧力上昇、過充放電の防止をする事もできる。電池の形状は、コイン型、ボタン型、シート型、円筒型、角形、扁平型など何れであってもよい。 In the method of the present invention, a secondary battery separator base material with a coating layer is obtained using a secondary battery separator base material as a film-like base material, and the secondary battery separator base material with a coating layer is used. When manufacturing a secondary battery, there are no particular restrictions on how it is used.For example, a positive electrode and a negative electrode are overlapped via a separator, and this is wound into a battery container according to the shape of the battery. Then, a secondary battery can be obtained by a method in which an electrolytic solution is poured into a battery container and sealed. If necessary, an expanded metal, an overcurrent prevention element such as a fuse or a PTC element, a lead plate, or the like can be inserted to prevent an increase in pressure inside the battery and overcharge / discharge. The shape of the battery may be any of a coin shape, a button shape, a sheet shape, a cylindrical shape, a square shape, a flat shape and the like.
図1〜4を参照して、本発明の非接触支持装置を用いた塗工装置の一実施形態の説明を行う。図1は、本発明の非接触支持装置を用いて塗工層付きフィルム状基材を製造する塗工装置の全体を示す構成図である。図1に示すように塗工装置1は、長尺状のフィルム状基材であるセパレータ基材100が巻回された基材巻出し駆動ロール2、基材送り出し駆動ロールであるサクションロール8、セパレータ基材100の一方の面に対して塗工剤の塗工を行うチャンバードクター塗工装置3、セパレータ基材100の他方の面に対して塗工剤の塗工を行うチャンバードクター塗工装置4、セパレータ基材100を非接触で支持する非接触式支持装置5、セパレータ基材100に塗工された塗工剤の乾燥を行う乾燥炉6、基材引き取り駆動ロールであるサクションロール9及び塗工剤が塗工されたセパレータ基材(耐熱セパレータ)100を巻き取る基材巻取り駆動ロール7を備えている。
With reference to FIGS. 1-4, one Embodiment of the coating device using the non-contact support apparatus of this invention is described. FIG. 1 is a block diagram showing the entire coating apparatus for producing a film-like substrate with a coating layer using the non-contact support apparatus of the present invention. As shown in FIG. 1, the
チャンバードクター塗工装置3は、セパレータ基材100の一方の面に塗工剤を塗工するものであって、搬送されるセパレータ基材100に接触してセパレータ基材100の表面に塗工剤を転写するグラビアロール10と、グラビアロール10に塗工剤を塗工する塗工チャンバー11とを備えている。塗工チャンバー11には、図示しない塗工剤供給装置から塗工剤が供給される。
The chamber
図2に示すように、チャンバードクター塗工装置3はセパレータ基材100の搬送方向と逆方向にグラビアロール10を回転駆動しつつ、グラビアロール10をセパレータ基材100に当接させることにより、セパレータ基材100の一方の面に塗工剤を塗工する。グラビアロール10は、例えばスチール製のパイプ等から構成されるロール本体10aと、ロール本体10aの両端部に設けられた回転軸10bを有している。またロール本体10aの周面には、左右対称の格子状のパターン等、所定のセルパターン10c(図3参照)が形成されている。
As shown in FIG. 2, the chamber
塗工チャンバー11は、グラビアロール10の周面に対向する面に、グラビアロール10の回転軸10b方向に延びる開口部が形成された液溜まり11aを備えている。塗工チャンバー11の開口部の上端縁部、即ちグラビアロールの回転方向下流の開口縁部には、ポリエチレン、強化ポリエステル等により形成された板材部材からなる上ブレード11bが取り付けられている。また開口部の下端縁部、即ちグラビアロールの回転方向上流の開口縁部には、ポリエチレン、強化ポリエステル等により形成された板材部材からなる下ブレード11cが取り付けられている。
The
上ブレード11bの先端部および下ブレード11cの先端部は、それぞれグラビアロール10の周面に圧接されることにより、開口部の上縁部および下縁部をシールして液溜まり11aを密閉状態に維持するように構成されている。上ブレード11bは、液溜まり11a内においてグラビアロール10の周面に塗布された余分な塗工剤をグラビアロール10の回転に応じて掻き取ることにより、グラビアロール10の周面に塗工される塗工層の厚みを均一に設定する機能を有している。下ブレード11cは、グラビアロール10の塗工用パターン10c内に存在する泡をグラビアロール10の回転に応じて掻き出し塗工チャンバー11内の液溜まり11aに泡が浸入するのを効果的に防止するする機能を有している。なおチャンバードクター塗工装置4はセパレータ基材100の他方の面に塗工剤を塗工するものであるが、その構成はチャンバードクター塗工装置3の構成と同一であるため、構成の説明を省略する。
The tip of the
非接触式支持装置5は、エアーを噴出する小さな開口部を複数有する搬送面に不織布32を張り付けて噴出面30とした構成を有する(図4参照)。非接触式支持装置5は、セパレータ基材100を搬送方向を変えながら非接触で支持し乾燥炉6に搬送する。
The
乾燥炉6は、温風循環により乾燥を行うことができ、温風の温度および風量を設定することができる。乾燥炉6おいては、セパレータ基材100をフローティングサポートにより支持して搬送を行いつつセパレータ基材100に塗工された塗工層の乾燥を行う。即ちセパレータ基材100の上下に配置されたフローティングノズル60から圧力50〜350Pa、風速10〜25m/sの温風を噴出させてセパレータ基材100をフローティングサポートし、搬送中のセパレータ基材100に塗工された塗工層の乾燥を行う。
The drying
次に、耐熱セパレータの製造方法について説明する。サクションロール8により基材巻き出し駆動ロール2から巻き出されたセパレータ基材100はガイドロール20を介してチャンバードクター塗工装置3に搬送される。この時、巻き出し駆動ロール2は、サクションロール8の送り出し速度に合わせるように、張力制御により速度調整する。チャンバードクター塗工装置3においては、セパレータ基材100の一方の面に塗工剤の塗工を行う。一方の面に塗工剤の塗工が行われたセパレータ基材100は、塗工剤が塗工されていない他方の面がガイドロール20により支持されチャンバードクター塗工装置4に搬送される。チャンバードクター塗工装置4においては、セパレータ基材100の他方の面に塗工剤の塗工を行う。
Next, the manufacturing method of a heat-resistant separator is demonstrated. The
ここでチャンバードクター塗工装置3,4のグラビアロール10には、セルパターン10cとして左右対称の格子状のパターンが形成されている場合には、グラビアロール10によりセパレータ基材100に塗工剤の塗工を行う際に、グラビアロール10からセパレータ基材100に対して左右方向の力が作用し難い。したがって、チャンバードクター塗工装置3,4においてセパレータ基材100に塗工を行う際に、セパレータ基材100にセパレータ基材の幅方向の振動が生じ難い。
Here, in the
両面に塗工剤が塗工されたセパレータ基材100は、非接触式支持装置5を介して乾燥炉6に搬送される。ここで非接触式支持装置5は、基材搬送面に不織布32を張り付けて噴出面30としているため、面積当たりの風圧を均一にすることができ、非接触式支持装置5から噴出されるエアーによるセパレータ基材100に塗工された塗工層の表面の荒れを抑制できる。乾燥炉6においては塗工層の乾燥が行われる。ここで乾燥炉6とチャンバードクター塗工装置4との間にセパレータ基材100の搬送方向を変えながらセパレータ基材100を非接触で支持する非接触式支持装置5を有しているため、乾燥炉6においてセパレータ基材100に生じる振動が直接チャンバードクター塗工装置4に伝達されるのを防止することができ、塗工むらの発生を防止することができる。塗工剤の乾燥が終了したセパレータ基材100(耐熱セパレータ)は、ガイドロール20を介して、サクションロール9により引き取られ、基材巻き取り駆動ロール7により巻き取られる。この時、基材巻き取り駆動ロール7は、サクションロール9の引き取り速度に合わせるように、張力制御により速度調整する。
The
以下に実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものでは無い。本発明における各種測定値の測定方法を以下に示す。
(非接触式支持装置の噴出面最大開口径)
非接触式支持装置の噴出面の開口部の最大開口径は、ASTM F316−86に準拠して、貫通細孔分布測定装置(ROROLUX 1000、日本ベル株式会社製)を用いて測定を行った。非接触式支持装置の噴出面に用いる部材から任意に5点の25mmφの試験片を取り出し、前記測定により得られた最大開口径の5点の平均値を最大開口径とした。
(非接触式支持装置の噴出面の通気度)
非接触式支持装置の噴出面の通気度の測定は、JIS L 1096 A法(フラジール形法)に準拠して、フラジール形通気度試験機(AP−360S、大栄科学精器製作所製)を用いて行った。非接触式支持装置の噴出面に用いる材料から任意に5点試験片を取り出し、上記測定により得られた通気度の5点の平均値を通気度とした。
(非接触式支持装置の噴出部内部の圧力)
非接触式支持装置の噴出部内部の圧力は、非接触式支持装置の噴出部に接続された圧力計(デジタル圧力センサAP−C30、キーエンス株式会社製)によって測定した。
(塗工剤の粘度)
セパレータ基材に塗工する塗工剤の粘度は、粘度・粘弾性測定装置(レオストレスHAAKE RS6000、英弘精機株式会社製)を用いて、温度23℃、せん断速度領域1000(1/s)にて測定した。
(塗工層の均一性評価)
塗工層の均一性は、ブルーレーザーフォーカス変位計(LT−9510VM、キーエンス株式会社製)を高精度形状測定システム(KS−100、キーエンス株式会社製)に取り付けた装置を用い、耐熱層を形成したフィルム状基材から50mm×50mmの大きさの試験片を作成し、試験片の総厚を測定した。測定したMD方向の最も大きい膜厚−最も小さい膜厚(μm)の差を算出した。その値を下記A〜Dの基準にあてはめ、セパレータの塗工層の均一性を評価した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to the following examples. The measuring method of various measured values in this invention is shown below.
(Maximum diameter of ejection surface of non-contact type support device)
The maximum opening diameter of the opening on the ejection surface of the non-contact type support device was measured using a through pore distribution measuring device (ROROLUX 1000, manufactured by Nippon Bell Co., Ltd.) in accordance with ASTM F316-86. Five test pieces of 25 mmφ were arbitrarily taken out from the member used for the ejection surface of the non-contact support device, and the average value of the five maximum opening diameters obtained by the above measurement was taken as the maximum opening diameter.
(Air permeability of ejection surface of non-contact type support device)
The measurement of the air permeability of the ejection surface of the non-contact type support device is based on JIS L 1096 A method (Fragile type method) using a Fragile type air permeability tester (AP-360S, manufactured by Daiei Kagaku Seiki Seisakusho). I went. A five-point test piece was arbitrarily taken out from the material used for the ejection surface of the non-contact support device, and the average value of the five points of the air permeability obtained by the above measurement was taken as the air permeability.
(Pressure inside the ejection part of the non-contact type support device)
The pressure inside the ejection part of the non-contact type support device was measured by a pressure gauge (digital pressure sensor AP-C30, manufactured by Keyence Corporation) connected to the ejection part of the non-contact type support device.
(Viscosity of coating agent)
The viscosity of the coating agent applied to the separator substrate is set to a temperature of 23 ° C. and a shear rate region of 1000 (1 / s) using a viscosity / viscoelasticity measuring device (Rheostress HAAKE RS6000, manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd.). Measured.
(Evaluation of coating layer uniformity)
For the uniformity of the coating layer, a heat resistant layer is formed using a device in which a blue laser focus displacement meter (LT-9510VM, manufactured by Keyence Corporation) is attached to a high-precision shape measurement system (KS-100, manufactured by Keyence Corporation). A test piece having a size of 50 mm × 50 mm was prepared from the film-like substrate, and the total thickness of the test piece was measured. The difference between the largest film thickness in the MD direction and the smallest film thickness (μm) in the MD direction was calculated. The value was applied to the following criteria A to D, and the uniformity of the separator coating layer was evaluated.
A:最大厚みと最小厚みの差が0.2μm未満
B:最大厚みと最小厚みの差が0.2μm以上0.3μm未満
C:最大厚みと最小厚みの差が0.3μm以上0.5μm未満
D:最大厚みと最小厚みの差が0.5μm以上
(耐熱評価)
耐熱層を形成したフィルム状基材から50mm×50mmの大きさの試験片を作成し、試験片を乾燥機に入れ窒素下、150℃、60分間加熱し、加熱前後の試験片の長さから熱収縮率を算出した。その値を下記A〜Dの基準にあてはめ、フィルム状基材の耐熱性を評価した。
A: The difference between the maximum thickness and the minimum thickness is less than 0.2 μm B: The difference between the maximum thickness and the minimum thickness is 0.2 μm or more and less than 0.3 μm C: The difference between the maximum thickness and the minimum thickness is 0.3 μm or more and less than 0.5 μm D: The difference between the maximum thickness and the minimum thickness is 0.5 μm or more (heat resistance evaluation)
A test piece having a size of 50 mm × 50 mm is prepared from a film-like substrate on which a heat-resistant layer is formed. The test piece is placed in a dryer and heated at 150 ° C. for 60 minutes under nitrogen. From the length of the test piece before and after heating. The heat shrinkage rate was calculated. The value was applied to the following criteria A to D, and the heat resistance of the film-like substrate was evaluated.
なお、熱収縮率の値は、試験片の最も大きい収縮率の値とし、以下の基準で評価を行った。熱収縮率が小さいと、耐熱性に優れることを示し、例えば、フィルム状基材に二次電池用セパレータ基材を用いて二次電池を作成した場合、二次電池はサイクル特性などの電池特性に優れる。 In addition, the value of the heat shrinkage rate was the value of the largest shrinkage rate of the test piece, and the evaluation was performed according to the following criteria. A small heat shrinkage rate indicates excellent heat resistance. For example, when a secondary battery is created using a secondary battery separator substrate for a film-like substrate, the secondary battery has battery characteristics such as cycle characteristics. Excellent.
A:熱収縮率が1%未満である
B:熱収縮率が1%以上5%未満である
C:熱収縮率が5%以上10%未満である
D:熱収縮率が10%以上である
(接着評価)
接着層を形成したフィルム状基材を50mm×50mmの大きさに切り出し作成し、これと40mm×40mmの大きさの電極活物質層を有する電極とを重ね合わせ、90℃、0.5MPa、10秒でプレスを行った後、10mm×10mmの大きさに切り出し試験片とした。
加重測定機(デジタルフォースゲージ ZP−5N、株式会社イマダ製)及び、計測スタンド(電動計測スタンド MX2−500N、株式会社イマダ製)からなる剥離試験機を用い、前記試験片の電極を試験台に固定した状態で、セパレータの一端を垂直方向に引張り速度50mm/分で引っ張って剥がしたときの応力を測定した。測定を3回行い、その平均値を下記A〜Dの基準にあてはめ、接着性の評価値とした。
A: The heat shrinkage rate is less than 1% B: The heat shrinkage rate is 1% or more and less than 5% C: The heat shrinkage rate is 5% or more and less than 10% D: The heat shrinkage rate is 10% or more (Adhesion evaluation)
A film-like base material on which an adhesive layer is formed is cut out to a size of 50 mm × 50 mm, and this is overlaid with an electrode having an electrode active material layer of a size of 40 mm × 40 mm, and 90 ° C., 0.5 MPa, After pressing in seconds, the test piece was cut into a size of 10 mm × 10 mm.
Using a peel tester consisting of a weighted measuring machine (digital force gauge ZP-5N, manufactured by Imada Co., Ltd.) and a measuring stand (electric measuring stand MX2-500N, manufactured by Imada Co., Ltd.), the electrode of the test piece was used as a test bench. In the fixed state, one end of the separator was pulled in the vertical direction at a pulling speed of 50 mm / min, and the stress was measured. The measurement was performed three times, and the average value was applied to the following criteria A to D to obtain an adhesive evaluation value.
A:100N/m以上
B:75N/m以上、100N/m未満
C:50N/m以上、75N/m未満
D:50N/m未満
A: 100 N / m or more B: 75 N / m or more, less than 100 N / m C: 50 N / m or more, less than 75 N / m D: Less than 50 N / m
(塗工装置)
図1〜4に示す塗工装置を用いた。非接触式支持装置の噴出面は、最大開口径25μm、通気度55ml/cm2/sec、であるポリエステル製の不織布とし、非接触式支持装置を1つの構成とした。塗工部はチャンバードクター方式とし、グラビアロールは、左右対称の格子連続模様の凹部をセルパターンに有するものを用いた。
(塗工剤の作成)
耐熱性の物質としてアルミナ粒子(体積平均のD50平均粒子径 0.45μm)100部、バインダーとしてマレイミド−無水マレイン酸共重合体の水溶液を固形分基準で1.5部、及び、イオン交換水を固形分濃度が40質量%になるように混合し、水分散液Aを得た。さらに水分散液Aを固形分基準で4部、及び、ポリエチレングリコール型界面活性剤0.2部を混合し、耐熱性の物質を含む塗工剤Aを製造した。また、塗工剤Aの粘度は、23cPであった。
(耐熱フィルムの製造・評価)
フィルム状基材として、ポリエチレン製の二次電池用セパレータ基材(厚み12μm、MD方向の弾性率1057MPa、透気度230s/100cc)を用い、フィルム状基材の耐熱層の厚さが3μmとなるように、グラビアロールに対するフィルム状基材位置を調整し、フィルム状基材の張力100N/m、塗工速度100m/min、非接触式支持装置の噴出部内部の圧力250Pa、乾燥炉の温風温度50℃の条件において、前記フィルム状基材の両面に対し、塗工剤Aを塗工、乾燥して、フィルム状基材の両面に厚さ3μmの耐熱層を有するフィルムAを得た。フィルムAの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。
(Coating equipment)
The coating apparatus shown in FIGS. 1-4 was used. The ejection surface of the non-contact type support device is a non-woven fabric made of polyester having a maximum opening diameter of 25 μm and an air permeability of 55 ml / cm 2 / sec, and the non-contact type support device has one configuration. The coating part was a chamber doctor type, and the gravure roll used had a concave part of a symmetrical lattice continuous pattern in the cell pattern.
(Creation of coating agent)
100 parts of alumina particles (volume average D50 average particle size 0.45 μm) as a heat-resistant substance, 1.5 parts of an aqueous solution of maleimide-maleic anhydride copolymer as a binder based on solid content, and ion-exchanged water An aqueous dispersion A was obtained by mixing so that the solid content concentration was 40% by mass. Further, 4 parts of the aqueous dispersion A and 0.2 part of a polyethylene glycol type surfactant were mixed to produce a coating agent A containing a heat-resistant substance. Moreover, the viscosity of the coating agent A was 23 cP.
(Production and evaluation of heat-resistant film)
As a film-like substrate, a separator substrate for a secondary battery made of polyethylene (thickness 12 μm, MD direction elastic modulus 1057 MPa, air permeability 230 s / 100 cc) is used, and the thickness of the heat-resistant layer of the film-like substrate is 3 μm. The film-like substrate position with respect to the gravure roll is adjusted so that the tension of the film-like substrate is 100 N / m, the coating speed is 100 m / min, the pressure inside the ejection part of the non-contact type support device is 250 Pa, the temperature of the drying furnace Under the condition of an air temperature of 50 ° C., the coating agent A was applied to both sides of the film-like substrate and dried to obtain a film A having a heat-resistant layer having a thickness of 3 μm on both sides of the film-like substrate. . Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of film A and the evaluation of heat resistance.
なお、表中のセパレータの塗工層の均一性の評価は、フィルム状基材の両面を塗工する2つのグラビアロールの内、基材搬送方向下流の下流グラビアロールによって塗られた塗工層のものであり、基材搬送方向上流の上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。 In addition, evaluation of the uniformity of the coating layer of the separator in a table | surface is the coating layer coated with the downstream gravure roll downstream of a base material conveyance direction among the two gravure rolls which coat both surfaces of a film-form base material. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll upstream in the substrate conveyance direction was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、非接触式支持装置の噴出面を、最大開口径70μm、通気度200ml/cm2/sec、であるポリエステル製の不織布とした以外は、実施例1と同様にしてフィルムBを得た。フィルムBの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 1, the film B was formed in the same manner as in Example 1 except that the ejection surface of the non-contact support device was a non-woven fabric made of polyester having a maximum opening diameter of 70 μm and an air permeability of 200 ml / cm 2 / sec. Obtained. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of film B and the evaluation of heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、非接触式支持装置の噴出部内部の圧力を800Paとした以外は、実施例1と同様にしてフィルムCを得た。フィルムCの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 1, a film C was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure inside the ejection part of the non-contact support device was set to 800 Pa. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of film C and the evaluation of heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例2において、非接触式支持装置の噴出部内部の圧力を800Paとした以外は、実施例1と同様にしてフィルムDを得た。フィルムDの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 2, a film D was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure inside the ejection portion of the non-contact support device was set to 800 Pa. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film D and the evaluation of the heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、非接触式支持装置の噴出部内部の圧力を100Paとした以外は、実施例1と同様にしてフィルムEを得た。フィルムEの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 1, a film E was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure inside the ejection part of the non-contact support device was set to 100 Pa. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film E and the evaluation of the heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例2において、非接触式支持装置の噴出部内部の圧力を100Paとした以外は、実施例1と同様にしてフィルムFを得た。フィルムFの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 2, a film F was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure inside the ejection part of the non-contact support device was set to 100 Pa. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film F and the evaluation of the heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(塗工剤の作成)
実施例1において、加えるイオン交換水の量を固形分濃度が30質量%になるように変えた以外は実施例1と同様にして、耐熱性の物質を含む塗工剤Bを製造した。また、塗工剤Bの粘度は、5cPであった。
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、塗工剤Aに替えて塗工剤Bを用いた以外は、実施例1と同様にしてフィルムGを得た。フィルムGの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Creation of coating agent)
A coating agent B containing a heat-resistant substance was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of ion-exchanged water added in Example 1 was changed so that the solid content concentration was 30% by mass. Moreover, the viscosity of the coating agent B was 5 cP.
(Production and evaluation of heat-resistant film)
A film G was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating agent B was used in place of the coating agent A in Example 1. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film G and the evaluation of the heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(塗工剤の作成)
実施例1において、加えるイオン交換水の量を固形分濃度が50質量%になるように変えた以外は実施例1と同様にして、耐熱性の物質を含む塗工剤Cを製造した。また、塗工剤Cの粘度は、50cPであった。
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、塗工剤Aに替えて塗工剤Cを用いた以外は、実施例1と同様にしてフィルムHを得た。フィルムHの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Creation of coating agent)
In Example 1, coating agent C containing a heat-resistant substance was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of ion-exchanged water added was changed so that the solid content concentration was 50% by mass. Moreover, the viscosity of the coating agent C was 50 cP.
(Production and evaluation of heat-resistant film)
A film H was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent C was used in place of the coating agent A in Example 1. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film H and the evaluation of the heat resistance. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(塗工剤の作成)
実施例1において、アクリル酸ブチル/メタクリル酸/スチレンの架橋重合体(ガラス転移温度76℃、体積平均粒子径D50は0.15μm)の粒子状の接着性の物質を100部、バインダーとしてマレイミド−無水マレイン酸共重合体の水溶液を固形分基準 で4部、イオン交換水を固形分濃度が20%になるように混合し、接着性の物質を含む塗工剤Dを得た。また、塗工剤Dの粘度は15cPであった。
(接着フィルムの製造・評価)
実施例1において、塗工剤Aに替えて塗工剤Dを用いた以外は、実施例1と同様にしてフィルムIを得た。フィルムIの接着層の均一性の評価、および接着性の評価を表1に示す。なお、上流グラビアロールによって塗られた塗工層の評価は「A」であった。
(Creation of coating agent)
In Example 1, 100 parts of a particulate adhesive substance of a crosslinked polymer of butyl acrylate / methacrylic acid / styrene (glass transition temperature 76 ° C., volume average particle diameter D50 0.15 μm), maleimide as a binder A coating agent D containing an adhesive substance was obtained by mixing an aqueous solution of maleic anhydride copolymer in an amount of 4 parts on the basis of the solid content and ion-exchanged water so that the solid content concentration was 20%. Moreover, the viscosity of the coating agent D was 15 cP.
(Manufacture and evaluation of adhesive films)
A film I was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent D was used in place of the coating agent A in Example 1. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the adhesive layer of film I and the evaluation of adhesiveness. The evaluation of the coating layer applied by the upstream gravure roll was “A”.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、非接触式支持装置の噴出面を、最大開口径770μm、通気度500ml/cm2/secである金属メッシュ板とした以外は、実施例1と同様にしてフィルムJを得た。フィルムJの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
A film J was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ejection surface of the non-contact type support device was a metal mesh plate having a maximum opening diameter of 770 μm and an air permeability of 500 ml / cm 2 / sec. . Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film J and the evaluation of the heat resistance.
(耐熱フィルムの製造・評価)
実施例1において、非接触式支持装置の噴出面を、最大開口径3μm、通気度10ml/cm2/sec、であるポリエステル製の不織布とした以外は、実施例1と同様にしてフィルムKを得た。フィルム状基材搬送中にフィルム状基材と非接触式支持装置の噴出面とが接することがあった。フィルムKの耐熱層の均一性の評価、および耐熱性の評価を表1に示す。
(Production and evaluation of heat-resistant film)
In Example 1, the film K was formed in the same manner as in Example 1 except that the ejection surface of the non-contact type support device was a non-woven fabric made of polyester having a maximum opening diameter of 3 μm and an air permeability of 10 ml / cm 2 / sec. Obtained. During the conveyance of the film-like substrate, the film-like substrate may come into contact with the ejection surface of the non-contact support device. Table 1 shows the evaluation of the uniformity of the heat-resistant layer of the film K and the evaluation of the heat resistance.
表1の結果から、非接触式支持装置の噴出面の開口部の最大開口径、及び通気度が本願発明の範囲にある実施例1〜8の耐熱フィルムの塗工層は両面とも均一性に優れ、耐熱性にも優れることが分かる。また、非接触式支持装置の噴出面の開口部の最大開口径、及び通気度が本願発明の範囲にあるにある実施例9の接着フィルムの塗工層は両面とも均一性に優れ、接着性にも優れることが分かる。 From the results in Table 1, the coating layers of the heat-resistant films of Examples 1 to 8 in which the maximum opening diameter of the ejection portion of the ejection surface of the non-contact support device and the air permeability are within the scope of the present invention are both uniform. It turns out that it is excellent in heat resistance. Further, the coating layer of the adhesive film of Example 9 in which the maximum opening diameter of the opening portion of the ejection surface of the non-contact type support device and the air permeability are within the scope of the present invention is excellent in uniformity on both sides and the adhesiveness. It turns out that it is excellent.
一方、非接触式支持装置の噴出面の開口部の最大開口径、及び通気度が本願発明の範囲から外れる比較例1、2の耐熱フィルムの塗工層は均一性に劣り、耐熱性も劣ることが分かる。 On the other hand, the coating layer of the heat-resistant film of Comparative Examples 1 and 2 in which the maximum opening diameter of the ejection portion of the ejection surface of the non-contact support device and the air permeability are out of the scope of the present invention is inferior in uniformity and heat resistance is also inferior. I understand that.
1…塗工装置、2…基材巻き出しの駆動ロール、3,4…チャンバードクター塗工装置、5…非接触式支持装置、6…乾燥炉、7…基材巻き取りの駆動ロール、8…基材送り出しの駆動ロール(サクションロール)、9…基材引き取りの駆動ロール(サクションロール)、10…グラビアロール、11…塗工チャンバー、100…セパレータ基材。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
気体を供給する気体供給部と、
前記気体供給部から供給された気体を前記フィルム状基材の片面に向けて噴出する噴出面を有する噴出部と、を備え、
前記噴出面には、最大開口径が5μm以上150μm以下である開口部が形成され、
前記噴出面の通気度は、15ml/cm2/sec以上、350ml/cm2/sec以下であることを特徴とする非接触式支持装置。 A non-contact type support device that supports a long film-like substrate conveyed along a certain direction in a non-contact state,
A gas supply unit for supplying gas;
An ejection part having an ejection surface for ejecting the gas supplied from the gas supply part toward one side of the film-like substrate;
An opening having a maximum opening diameter of 5 μm or more and 150 μm or less is formed on the ejection surface,
The non-contact support device according to claim 1, wherein the air permeability of the ejection surface is 15 ml / cm 2 / sec or more and 350 ml / cm 2 / sec or less.
長尺状のフィルム状基材を一定方向に沿って搬送する搬送工程と、
搬送中の前記フィルム状基材の片面または両面に塗工剤を塗工して塗工層を形成する塗工層形成工程と、
前記フィルム状基材上の塗工層を乾燥させる乾燥工程と、を含み、
前記搬送工程は、前記塗工層形成工程の後で、かつ前記乾燥工程の前に、前記塗工層が形成された前記フィルム状基材を前記非接触式支持装置にて支持した状態で搬送する工程部分を含むことを特徴とする、前記塗工層と前記フィルム状基材とを備える塗工層付きフィルム状基材の製造方法。 A method for producing a film-like substrate using the non-contact support device according to claim 1,
A transporting process for transporting a long film-shaped substrate along a certain direction;
A coating layer forming step of forming a coating layer by applying a coating agent on one or both sides of the film-like substrate being conveyed;
Drying the coating layer on the film-like substrate,
The transporting step transports the film-like substrate on which the coating layer has been formed supported by the non-contact support device after the coating layer forming step and before the drying step. The manufacturing method of the film-form base material with a coating layer provided with the said coating layer and the said film-form base material characterized by including the process part to do.
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