JP2011018048A - Near-infrared ray absorbing filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は近赤外線吸収フィルター、特に可視光線領域の透過率が高く、近赤外線を有効に遮断する近赤外線吸収フィルターに関するものである。 The present invention relates to a near-infrared absorption filter, and more particularly to a near-infrared absorption filter having a high visible light region transmittance and effectively blocking near-infrared rays.
一般に、近赤外線吸収色素を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸収フィルターはよく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」という)が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、PDP用フィルターとしても800nm〜1100nmの近赤外線を吸収する赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
In general, plastic near-infrared absorption filters made of a resin containing a near-infrared absorbing dye are well known, and can be used for sunglasses, welding glasses, buildings, automobiles, trains, airplane windows, or information reading. For example, an optical reading device.
Recently, a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”), which has been attracting attention as a large and thin wall-mounted TV, generates near infrared rays, such as a video deck using a cordless phone or a near infrared remote control. There is a demand for a filter containing an infrared-absorbing dye that absorbs near-infrared rays of 800 nm to 1100 nm as a filter for PDP because it acts on equipment and causes malfunction.
上述のような近赤外線吸収フィルターとしては、銅や鉄などの金属イオンを含有させたもの、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、ジチオール系金属錯体化合物、アミノチオフェノール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物等の近赤外線吸収色素を含有させたものなど各種検討がなされているが、実際に用いられているものは、限定されたジチオール系金属錯体化合物、フタロシアニン化合物及びジインモニウム系化合物の一部にすぎない。 As the near-infrared absorption filter as described above, those containing metal ions such as copper and iron, nitroso compounds and metal complex salts thereof, cyanine compounds, squarylium compounds, dithiol metal complexes, aminothiophenol metals A near-infrared absorbing dye such as a complex compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a triallylmethane compound, an imonium compound, a diimmonium compound, a naphthoquinone compound, an anthraquinone compound, an amino compound, or an aminium salt compound was contained. Various studies have been made, but what is actually used is only a part of the limited dithiol-based metal complex compounds, phthalocyanine compounds, and diimmonium compounds.
特に、電子ディスプレイ用に用いるためには、耐熱性、耐光性に優れていること、溶媒に対する溶解性が高いこと、800〜1000nm付近に吸収極大をもちつつ、可視光領域に大きな吸収がないことが必須となる。特許文献1には、下記構造を持つ化合物が、近赤外色素としてPDPフィルターに用いられている。
しかしながら、特許文献1に記載のジチオール金属錯体は、他のニッケル金属錯体系近赤外色素と混合して、800−1000nmの吸収をカットしようとすると、配位子交換がおこり別の化合物が生成し、吸収極大がシフトすることが明らかとなった。すなわち、近赤外線吸収フィルターを設計する際に、所定の吸収特性を有する2種以上の近赤外線吸収色素を混合すると、極大吸収が変化してしまい、目的とする近赤外線吸収フィルターが得られないという問題がある。 However, the dithiol metal complex described in Patent Document 1 is mixed with other nickel metal complex near-infrared dyes, and when attempting to cut the absorption at 800-1000 nm, ligand exchange occurs and another compound is generated. It was revealed that the absorption maximum shifted. That is, when designing a near-infrared absorbing filter, if two or more near-infrared absorbing dyes having predetermined absorption characteristics are mixed, the maximum absorption changes, and the intended near-infrared absorbing filter cannot be obtained. There's a problem.
以上のことから、本発明においては、目的とする800−1000nm付近に吸収極大を有し、かつ、他の近赤外線吸収色素、特に、ニッケル金属錯体系近赤外色素と混合しても、配位子交換が起こらず吸収極大がシフトしない化合物群を設計、合成し、耐光性、耐熱性等に優れ、かつ、溶媒に対する溶解性を向上させた近赤外線吸収フィルター、特には電子ディスプレイ用近赤外線吸収フィルターを提供することを課題とする。 From the above, in the present invention, even if it has an absorption maximum near the target 800-1000 nm and is mixed with other near infrared absorbing dyes, particularly nickel metal complex near infrared dyes, A near-infrared absorption filter, in particular near-infrared light for electronic displays, designed and synthesized with a compound group that does not cause ligand exchange and does not shift the absorption maximum, has excellent light resistance, heat resistance, etc., and improved solubility in solvents. It is an object to provide an absorption filter.
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、一般式(1)で示されるジチオレート金属錯体中のアリール基のオルト位に立体的に嵩高い官能基を導入し、硫黄原子への分子間置換反応を阻止することで、配位子交換を抑えることができるジチオレート金属錯体群を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は下記一般式(1)
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors introduced a sterically bulky functional group at the ortho position of the aryl group in the dithiolate metal complex represented by the general formula (1), and sulfur. The inventors have found a group of dithiolate metal complexes capable of suppressing ligand exchange by preventing intermolecular substitution reaction with atoms, and have completed the present invention.
That is, the gist of the present invention is the following general formula (1).
(一般式(1)中、R1及びR2はそれぞれ独立に1価の基である。
X1およびX6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも1種類の原子を合計3以上有する1価の基である。
X2〜X5及びX7〜X10はそれぞれ独立に1価の基であって、隣り合う基が連結基を介
して結合してもよい。M1は金属原子を示す。)で表される化合物を少なくとも一種類以
上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルターに存する。
(In General Formula (1), R 1 and R 2 are each independently a monovalent group.
X 1 and X 6 are monovalent groups having a total of 3 or more of at least one kind selected from a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a silicon atom.
X 2 to X 5 and X 7 to X 10 are each independently a monovalent group, and adjacent groups may be bonded via a linking group. M 1 represents a metal atom. And a layer containing at least one kind of the compound represented by 1).
本発明によれば、他の金属錯体と混合しても配位子交換を起こさないジチオレート金属錯体と他の近赤外線吸収色素とを組み合わせることで、耐光性、耐熱性、耐湿熱性に優れ、かつ、750−1050nm付近の近赤外線領域を広範囲にカットする近赤外線吸収フィルターが提供される。 According to the present invention, by combining a dithiolate metal complex that does not cause ligand exchange even when mixed with other metal complexes and other near infrared absorbing dyes, it has excellent light resistance, heat resistance, and moist heat resistance, and A near-infrared absorption filter that cuts the near-infrared region near 750-1050 nm over a wide range is provided.
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明の実施の形態は以下の形態に制限されるものではない。
1.一般式(1)で表される化合物;
前記一般式(1)において、R1及びR2はそれぞれ独立に1価の置換基である。
1価の置換基としては、水素原子、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良い炭化水素チオ基、置換されていても良いシリル基、置換されていても良い炭化水素アミノ基、置換されていても良い炭化水素オキシ基、シアノ基またはハロゲン原子が挙げられる。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described, but the embodiment of the present invention is not limited to the following mode.
1. A compound represented by the general formula (1);
In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a monovalent substituent.
Examples of the monovalent substituent include a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted carbonyl group, an optionally substituted hydrocarbon thio group, an optionally substituted silyl group, Examples thereof include an optionally substituted hydrocarbon amino group, an optionally substituted hydrocarbon oxy group, a cyano group, and a halogen atom.
上記炭化水素基としては、1)脂肪族炭化水素基;メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基;2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2,4−ペンタジエニル基等のアルケニル基;エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下のアルキル基である。2)アリール基;フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基、メタロセン環基などが挙げられる。このうち好ましくは炭素数12以下の単環又は縮合2環式アリール基である。更に好ましくは、炭素数12以下の単環かつアリール基のオルト位に置換基を有さないアリール基である。
3)複素環基;チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、チアゾリル基、ピラジニル基などがあげられる。このうち好ましくは、炭素数12以下の単環又は2環式5員環複素環基である。
Examples of the hydrocarbon group include 1) an aliphatic hydrocarbon group; a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a 2-methylpropyl group, a 2-methylbutyl group, a 3-methylbutyl group, and a cyclohexylmethyl group. Linear, branched or cyclic alkyl such as neopentyl, 2-ethylbutyl, isopropyl, 2-butyl, cyclohexyl, 3-pentyl, tert-butyl, 1,1-dimethylpropyl Groups; alkenyl groups such as 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group and 2,4-pentadienyl group; and alkynyl groups such as ethynyl group. Of these, an alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferred. 2) Aryl group; phenyl group, naphthyl group, anthranyl group, fluorenyl group, phenanthrenyl group, azulenyl group, metallocene ring group and the like can be mentioned. Among these, a monocyclic or condensed bicyclic aryl group having 12 or less carbon atoms is preferable. More preferably, it is an aryl group having 12 or less carbon atoms and having no substituent at the ortho position of the aryl group.
3) Heterocyclic group: thienyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, indolyl group, quinoxalinyl group, acridinyl group, thiazolyl group, pyrazinyl group and the like. Of these, a monocyclic or bicyclic 5-membered heterocyclic group having 12 or less carbon atoms is preferable.
上記カルボニル基としては、アシル基(−COR)、カルバモイル基(−CONRR’)、アルコキシカルボニル基(−C(O)OR)、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基があげられ、各々さらに具体的には、アシル基(−COR)のR、及び、カルバモイル基(−CONRR’)のR、R’は、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、アルコキシカルボニル基(−C(O)OR)のRは、先にあげた脂肪族炭化水素基の具体例と同様のものがあげられ、アリールオキシカルボニル基(−C(O)OR)のRは、先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられ、複素環オキシカルボニル基(−C(O)OR)のRは、先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、アルデヒド基があげられる。 Examples of the carbonyl group include an acyl group (—COR), a carbamoyl group (—CONRR ′), an alkoxycarbonyl group (—C (O) OR), an aryloxycarbonyl group, and a heterocyclic oxycarbonyl group. Specifically, R in the acyl group (—COR) and R and R ′ in the carbamoyl group (—CONRR ′) are the same as the specific examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group, and heterocyclic group described above. R of the alkoxycarbonyl group (—C (O) OR) is the same as the specific examples of the aliphatic hydrocarbon group described above, and the aryloxycarbonyl group (—C (O) ) OR) R is the same as the specific examples of the aryl group described above, and R of the heterocyclic oxycarbonyl group (—C (O) OR) is a specific example of the heterocyclic group described above. Similar to example Agerare, or aldehyde group.
上記炭化水素チオ基としては、1)アルキルチオ基;n−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、2−メチルプロピルチオ基、2−メチルブチルチオ基、3−メチルブチルチオ基、シクロヘキシルメチルチオ基、ネオペンチルチオ基、2−エチルブチルチオ基、イソプロピルチオ基、2−ブチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、3−ペンチルチオ基、1,1−ジメチルプロピルチオ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数10以下のアルキルチオ基、特に好ましくは、炭素数10以下の分岐鎖のアルキルチオ基である。2)アルケニルチオ基;プロペニルチオ基、ビニルチオ基、イソプロペニルチオ基、スチリルチオ基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数12以下のアルケニルチオ基である。3)アルキニルチオ基;エチニルチオ基、1−ペンテニルチオ基、フェネチニルチオ基、t−ブチルエチニル基などがあげられ、このうち好ましくは炭素数12以下のアルキニルチオ基である。4)アリールチオ基;フェニルチオ基、p−tert−ブチルフェニルチオ基、o−トリルチオ基、メシチルチオ基、キシリルチオ基、クメニルチオ基、ナフチルチオ基などがあげられ、好ましくは炭素数12以下の単環又は2員環からなるアリールチオ基である。5)複素環チオ基;チエニルチオ基、フリルチオ基、ピラゾリルチオ基、ピロリイルチオ基、イソオキサゾリルチオ基、ピリジルチオ基、インドールイルチオ基などがあげられ好ましくは炭素数10以下の5員環からなる複素環チオ基である。 Examples of the hydrocarbon thio group include: 1) alkylthio group; n-propylthio group, n-butylthio group, 2-methylpropylthio group, 2-methylbutylthio group, 3-methylbutylthio group, cyclohexylmethylthio group, neopenty Linear, branched or cyclic alkyl groups such as ruthio group, 2-ethylbutylthio group, isopropylthio group, 2-butylthio group, cyclohexylthio group, 3-pentylthio group, 1,1-dimethylpropylthio group Among them, preferred is an alkylthio group having 10 or less carbon atoms, and particularly preferred is a branched alkylthio group having 10 or less carbon atoms. 2) Alkenylthio group; propenylthio group, vinylthio group, isopropenylthio group, styrylthio group and the like can be mentioned. Among them, alkenylthio group having 12 or less carbon atoms is preferable. 3) Alkynylthio group; an ethynylthio group, a 1-pentenylthio group, a phenethynylthio group, a t-butylethynyl group, and the like. Among these, an alkynylthio group having 12 or less carbon atoms is preferable. 4) Arylthio group: phenylthio group, p-tert-butylphenylthio group, o-tolylthio group, mesitylthio group, xylylthio group, cumenylthio group, naphthylthio group, etc., preferably monocyclic or two-membered having 12 or less carbon atoms An arylthio group consisting of a ring. 5) Heterocyclic thio group; a thienylthio group, a furylthio group, a pyrazolylthio group, a pyrrolylylthio group, an isoxazolylthio group, a pyridylthio group, an indoleylthio group, and the like. It is a ring thio group.
上記シリル基としては、トリメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、n−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などが挙げられ、好ましくは炭素数18以下のシリル基である。
上記炭化水素オキシ基(−OR)のRとしては、先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられ、または、水酸基があげられる。
Examples of the silyl group include trimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, n-butyldimethylsilyl group, dimethylethylsilyl group, dimethylphenylsilyl group, dimethylisopropylsilyl group, and triisopropylsilyl group. Is a silyl group having 18 or less carbon atoms.
Examples of R of the hydrocarbon oxy group (—OR) include those similar to the specific examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group described above, or a hydroxyl group.
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素があげられるが、特に好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
これらの基のうち、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine, and iodine. Particularly preferred are a fluorine atom and a chlorine atom.
Among these groups, examples of the substituent of the group which may have a substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, Alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heteroarylthio group, amino group, acyl group, aminoacyl group, ureido group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfamoylamino group , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, heteroarylsulfonyl group, imide group, silyl group and the like.
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数1〜6程度のアルキル基;エチニル基、プロピレニル基などの炭素数1〜6程度のアルケニル基;アセチレニル基など炭素数1〜6程度のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜20程度のアリール基;チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリール基;エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1〜6程度のアルコキシ基;フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6〜20程度のアリールオキシ基;ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6程度のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6〜20程度のアリールチオ基;ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1〜20程度の置換基を有していても良いアミノ基;アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2〜20程度のアシル基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜20程度のアシルアミノ基;3−メチルウレイド基などの炭素数2〜20程度のウレイド基;メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1〜20程度のスルホンアミド基;ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1〜20程度のカルバモイル基;エチルスルファモイル基などの炭素数1〜20程度のスルファモイル基;ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1〜20程度のスルファモイルアミノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2〜6程度のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数7〜20程度のアリールオキシカルボニル基;ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6〜20程度のヘテロアリールオキシカルボニル基;メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1〜6程度のアルキルスルホニル基;ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6〜20程度のアリールスルホニル基;チエニルスルホニル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシスルホニル基;フタルイミドなどの炭素数4〜20程度のイミド基;又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で3置換されているシリル基などが挙げられる。 Specifically, an alkyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; an alkenyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an ethynyl group or a propylenyl group; an alkynyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an acetylenyl group An aryl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group; a heteroaryl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienyl group, a furyl group or a pyridyl group; 1 to 1 carbon atoms such as an ethoxy group or a propoxy group; An alkoxy group of about 6; an aryloxy group of about 6 to 20 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; a heteroaryloxy group of about 3 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxy group and a thienyloxy group; a methylthio group; Alkylthio group having about 1 to 6 carbon atoms such as ethylthio group; aryl having about 6 to 20 carbon atoms such as phenylthio group and naphthylthio group O group; heteroarylthio group having about 3 to 20 carbon atoms such as pyridylthio group and thienylthio group; amino optionally having a substituent having about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylamino group and diphenylamino group; An acyl group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetyl group and a pivaloyl group; an acylamino group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetylamino group and a propionylamino group; and 2 to 20 carbon atoms such as a 3-methylureido group About 1 to 20 carbon atoms such as methanesulfonamide group and benzenesulfonamide group; about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylcarbamoyl group and ethylcarbamoyl group; ethylsulfamoyl group A sulfamoyl group having about 1 to 20 carbon atoms such as a dimethylsulfamoylamino group A sulfamoylamino group having about 1 to 20 prime atoms; an alkoxycarbonyl group having about 2 to 6 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; an aryl having about 7 to 20 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group and a naphthoxycarbonyl group An oxycarbonyl group; a heteroaryloxycarbonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxycarbonyl group; an alkylsulfonyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, and a fluoromethanesulfonyl group; benzene An arylsulfonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a sulfonyl group or a monofluorobenzenesulfonyl group; a heteroaryloxysulfonyl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienylsulfonyl group; an imide having about 4 to 20 carbon atoms such as phthalimide Group; also Includes a silyl group that is trisubstituted with a substituent selected from the group consisting of an alkyl group and an aryl group.
R1およびR2として特に好ましくは、総炭素数10以下の、置換基を有しても良いアルキル基又はハロアルキル基、総炭素数10以下の、置換基を有しても良いアルキルチオ基、総炭素数12以下の、置換基を有しても良い単環アリール基、総炭素数12以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、総炭素数10以下の、置換基を有していても良い5員環複素環基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、もしくは水素原子である。 R 1 and R 2 are particularly preferably an alkyl group or haloalkyl group having a total number of carbon atoms of 10 or less, which may have a substituent, an alkylthio group having a total number of carbon atoms of 10 or less, which may have a substituent, A monocyclic aryl group having 12 or less carbon atoms, which may have a substituent, a monocyclic arylthio group which may have a substituent having 12 or less total carbon atoms, a substituent having a total carbon number of 10 or less And may be a 5-membered heterocyclic group, a cyano group, a fluorine atom, a chlorine atom, or a hydrogen atom.
X1およびX6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも1種類の原子を合計3以上有する1価の基である。
X1およびX6としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子のうち少なくとも1種類の原子が鎖状に3以上連結した基が好ましい。ここで、鎖状に3以上連結した基とは、ベンゼン環に結合した原子から数えて3以上の原子を含む鎖状の基、またはベンゼン環に結合した原子を含めて4以上の原子を含む環状の基を意味する。
X 1 and X 6 are monovalent groups having a total of 3 or more of at least one kind selected from a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a silicon atom.
X 1 and X 6 are preferably groups in which at least one kind of carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom and silicon atom is linked in a chain. Here, the group connected 3 or more in a chain form includes a chain group containing 3 or more atoms counted from atoms bonded to the benzene ring, or 4 or more atoms including atoms bonded to the benzene ring. Means a cyclic group.
このような基としては、例えば脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基、オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、置換基を有するアミノ基、および置換基を有するシリル基等が挙げられる。
上記脂肪族炭化水素基としては、n−プロピル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−ブチル基、3−ペンチル基、ネオペンチル基、2−メチルブチル基、2−エチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素基、より好ましくは、炭素数3〜10程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素基が挙げられる。
Examples of such a group include an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, a heterocyclic group, an oxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a substituted amino group, and a substituted silyl group. It is done.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group include n-propyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-butyl group, 3-pentyl group, neopentyl group, 2-methylbutyl group and 2-ethylbutyl. Linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups such as a group, 3-methylbutyl group, cyclohexyl group, and cyclohexylmethyl group, more preferably a linear or branched chain fatty acid having about 3 to 10 carbon atoms Group hydrocarbon group.
上記アリール基としては、フェニル基、p−トリル基、ベンジル基、フェニルエチル基、3,4−キシリル基、2−エチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基等のアリール基、より好ましくは、炭素数6〜12程度の単環式アリール基が挙げられる。
上記複素環基としては、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基などの複素環基、より好ましくは、炭素数5〜10程度の単環式複素環基が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl group, p-tolyl group, benzyl group, phenylethyl group, 3,4-xylyl group, 2-ethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,4,6- An aryl group such as a trimethylphenyl group, more preferably a monocyclic aryl group having about 6 to 12 carbon atoms.
Examples of the heterocyclic group include heterocyclic groups such as thienyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, and indoleyl group, and more preferably a monocyclic heterocyclic ring having about 5 to 10 carbon atoms. Groups.
上記脂肪族炭化水素オキシ基としては、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、2−ブトキシ基、アミルオキシ基、t−ブトキシ基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の脂肪族炭化水素オキシ基、より好ましくは、炭素数2〜10程度の直鎖状、分岐鎖状脂肪族炭化水素オキシ基が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon oxy group include ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, n-hexyloxy group, isopropoxy group, cyclohexyloxy group, 2-butoxy group, amyloxy group, and t-butoxy group. And a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon oxy group, more preferably a linear or branched aliphatic hydrocarbon oxy group having about 2 to 10 carbon atoms.
上記アリールオキシ基としては、(−OR)のRが先にあげたアリール基の具体例と同様のものがあげられる。
上記複素環オキシ基としては、(−OR)のRが先にあげた複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
上記置換基を有するアミノ基としては、(−NRR’)のR、R’が先にあげた脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基の具体例と同様のものがあげられる。
Examples of the aryloxy group include those similar to the specific examples of the aryl group described above for R of (—OR).
Examples of the heterocyclic oxy group include those similar to the specific examples of the heterocyclic group described above for R of (—OR).
Examples of the amino group having a substituent include the same as the specific examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group described above for R and R ′ of (—NRR ′).
上記置換基を有するシリル基としては、トリエチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、n−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、トリイソプリピルシリル基などのシリル基が挙げられ、好ましくは炭素数2〜18程度のシリル基があげられる。
これらの中でも特に好ましくは、総炭素数3〜10程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数6〜12程度の置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数2〜10程度の置換基を有しても良いアルコキシ基、総炭素数6〜12程度の置換基を有しても良いアリールオキシ基である。
Examples of the silyl group having a substituent include a triethylsilyl group, a t-butyldiphenylsilyl group, an n-butyldimethylsilyl group, a dimethylethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, and a triisopropylsilyl group. And a silyl group having about 2 to 18 carbon atoms is preferred.
Among these, particularly preferably, an alkyl group which may have a substituent having about 3 to 10 total carbon atoms, or a monocyclic aryl group which may have a substituent having about 6 to 12 total carbon atoms, Alternatively, it is an alkoxy group which may have a substituent having about 2 to 10 total carbon atoms, or an aryloxy group which may have a substituent having about 6 to 12 total carbon atoms.
X2〜X5及びX7〜X10はそれぞれ独立に1価の基であり、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。
該1価の基としては、金属錯体の安定性に悪影響を及ぼさない基であれば特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。
X 2 to X 5 and X 7 to X 10 are each independently a monovalent group, and adjacent groups may be bonded via a linking group.
The monovalent group is not particularly limited as long as it does not adversely affect the stability of the metal complex. For example, a halogen atom, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl Group, heteroaryl group, alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heteroarylthio group, amino group, acyl group, aminoacyl group, ureido group, sulfonamide group, carbamoyl group, sulfamoyl group , Sulfamoylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, heteroarylsulfonyl group, imide group, silyl group and the like.
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数1〜6程度のアルキル基;エチニル基、プロピレニル基などの炭素数1〜6程度のアルケニル基;アセチレニル基など炭素数1〜6程度のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜20程度のアリール基;チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリール基;エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1〜6程度のアルコキシ基;フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6〜20程度のアリールオキシ基;ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6程度のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6〜20程度のアリールチオ基;ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1〜20程度の置換基を有していても良いアミノ基;アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2〜20程度のアシル基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜20程度のアシルアミノ基;3−メチルウレイド基などの炭素数2〜20程度のウレイド基;メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1〜20程度のスルホンアミド基;ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1〜20程度のカルバモイル基;エチルスルファモイル基などの炭素数1〜20程度のスルファモイル基;ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1〜20程度のスルファモイルアミノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2〜6程度のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数7〜20程度のアリールオキシカルボニル基;ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6〜20程度のヘテロアリールオキシカルボニル基;メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1〜6程度のアルキルスルホニル基;ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6〜20程度のアリールスルホニル基;チエニルスルホニル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシスルホニル基;フタルイミドなどの炭素数4〜20程度のイミド基;又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で3置換されているシリル基などが挙げられる。 Specifically, an alkyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; an alkenyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an ethynyl group or a propylenyl group; an alkynyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an acetylenyl group An aryl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group; a heteroaryl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienyl group, a furyl group or a pyridyl group; 1 to 1 carbon atoms such as an ethoxy group or a propoxy group; An alkoxy group of about 6; an aryloxy group of about 6 to 20 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; a heteroaryloxy group of about 3 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxy group and a thienyloxy group; a methylthio group; Alkylthio group having about 1 to 6 carbon atoms such as ethylthio group; aryl having about 6 to 20 carbon atoms such as phenylthio group and naphthylthio group O group; heteroarylthio group having about 3 to 20 carbon atoms such as pyridylthio group and thienylthio group; amino optionally having a substituent having about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylamino group and diphenylamino group; An acyl group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetyl group and a pivaloyl group; an acylamino group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetylamino group and a propionylamino group; and 2 to 20 carbon atoms such as a 3-methylureido group About 1 to 20 carbon atoms such as methanesulfonamide group and benzenesulfonamide group; about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylcarbamoyl group and ethylcarbamoyl group; ethylsulfamoyl group A sulfamoyl group having about 1 to 20 carbon atoms such as a dimethylsulfamoylamino group A sulfamoylamino group having about 1 to 20 prime atoms; an alkoxycarbonyl group having about 2 to 6 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; an aryl having about 7 to 20 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group and a naphthoxycarbonyl group An oxycarbonyl group; a heteroaryloxycarbonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxycarbonyl group; an alkylsulfonyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, and a fluoromethanesulfonyl group; benzene An arylsulfonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a sulfonyl group or a monofluorobenzenesulfonyl group; a heteroaryloxysulfonyl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienylsulfonyl group; an imide having about 4 to 20 carbon atoms such as phthalimide Group; also Includes a silyl group that is trisubstituted with a substituent selected from the group consisting of an alkyl group and an aryl group.
隣り合う基が連結基を介して結合した結果形成される基としては、−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH(Ph)−CH2−、−CH(Me)−CH2−等で置換されていても良いアルキレン基;−CH=CH−、−C(Me)=CH−、−CH=CH−CH2−CH2−CH=CH−等の、置換されていても良いアルケニレン基;−CH2−S−CH2−、−CH2−O−CH2−、−CH2−C(=O)−CH2−、−CH2−CH2−S−CH2−CH2−、−CH2−CH2−O−CH2−CH2−等が好ましく挙げられる。 The group adjacent groups is formed result of coupling through a linking group, -CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -, CH 2 -CH 2 -CH2-CH 2 -, An alkylene group optionally substituted by —CH (Ph) —CH 2 —, —CH (Me) —CH 2 — and the like; —CH═CH—, —C (Me) ═CH—, —CH═CH— An optionally substituted alkenylene group such as CH 2 —CH 2 —CH═CH—; —CH 2 —S—CH 2 —, —CH 2 —O—CH 2 —, —CH 2 —C (═O ) -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -S-CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - , and the like preferably.
これらの中でも、X2および/またはX4、ならびにX7および/またはX10が、炭素原子、酸素原子、窒素原子、およびケイ素原子のうち少なくとも1種類以上の原子を合計2以上有する基であるのが好ましい。
これらは、ベンゼン環上を立体的にかさ高くすることで、配位子交換反応を起こりにくくすると同時に、有機溶媒への溶解性を向上させることを可能にする基である。
Among these, X 2 and / or X 4 , and X 7 and / or X 10 are groups having a total of two or more atoms of at least one of carbon atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, and silicon atoms. Is preferred.
These are groups that make it possible to improve the solubility in an organic solvent at the same time as making the ligand exchange reaction difficult by making the benzene ring bulky.
なかでも該原子を合計3以上有する基であるのがより好ましい。具体的には、X1およびX6であげた基が挙げられる。
特に好ましくは、総炭素数2〜10程度の置換基を有していても良いアルキル基、又は、総炭素数10以下の置換基を有しても良いアルコキシ基である。
上記X3及びX8として特に好ましくは、総炭素数10以下の置換基を有しても良いアルキル基、又は、ハロアルキル基、総炭素数10以下の置換基を有しても良いアルキルチオ基、又は、総炭素数12以下置換基を有しても良い単環アリール基、又は、総炭素数12以下置換基を有しても良い単環アリールチオ基、又は、総炭素数10以下の置換基を有していても良い5員環複素環基、又は、シアノ基、又は、フッ素原子、又は、塩素原子、又は、水素原子である。
Among these, a group having 3 or more atoms in total is more preferable. Specific examples include the groups listed for X 1 and X 6 .
Particularly preferred is an alkyl group which may have a substituent having a total carbon number of about 2 to 10, or an alkoxy group which may have a substituent having a total carbon number of 10 or less.
Particularly preferably as X 3 and X 8 , an alkyl group which may have a substituent having a total carbon number of 10 or less, or a haloalkyl group, an alkylthio group which may have a substituent having a total carbon number of 10 or less, Or a monocyclic aryl group which may have a substituent having a total carbon number of 12 or less, or a monocyclic arylthio group which may have a substituent having a total carbon number of 12 or less, or a substituent having a total carbon number of 10 or less It may be a 5-membered ring heterocyclic group, a cyano group, a fluorine atom, a chlorine atom, or a hydrogen atom.
X1〜X10の中で、置換基を有してもよい基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などが挙げられる。 Examples of the substituent of the group which may have a substituent among X 1 to X 10 include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a hetero group Aryl group, alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heteroarylthio group, amino group, acyl group, aminoacyl group, ureido group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfa Examples include moylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, heteroarylsulfonyl group, imide group and silyl group.
具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数1〜6程度のアルキル基;エチニル基、プロピレニル基などの炭素数1〜6程度のアルケニル基;アセチレニル基など炭素数1〜6程度のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜20程度のアリール基;チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリール基;エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1〜6程度のアルコキシ基;フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6〜20程度のアリールオキシ基;ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6程度のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6〜20程度のアリールチオ基;ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1〜20程度の置換基を有していても良いアミノ基;アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2〜20程度のアシル基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜20程度のアシルアミノ基;3−メチルウレイド基などの炭素数2〜20程度のウレイド基;メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1〜20程度のスルホンアミド基;ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1〜20程度のカルバモイル基;エチルスルファモイル基などの炭素数1〜20程度のスルファモイル基;ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1〜20程度のスルファモイルアミノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2〜6程度のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数7〜20程度のアリールオキシカルボニル基;ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6〜20程度のヘテロアリールオキシカルボニル基;メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1〜6程度のアルキルスルホニル基;ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6〜20程度のアリールスルホニル基;チエニルスルホニル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシスルホニル基;フタルイミドなどの炭素数4〜20程度のイミド基;又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で3置換されているシリル基などが挙げられる。 Specifically, an alkyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; an alkenyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an ethynyl group or a propylenyl group; an alkynyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as an acetylenyl group An aryl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group; a heteroaryl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienyl group, a furyl group or a pyridyl group; 1 to 1 carbon atoms such as an ethoxy group or a propoxy group; An alkoxy group of about 6; an aryloxy group of about 6 to 20 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; a heteroaryloxy group of about 3 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxy group and a thienyloxy group; a methylthio group; Alkylthio group having about 1 to 6 carbon atoms such as ethylthio group; aryl having about 6 to 20 carbon atoms such as phenylthio group and naphthylthio group O group; heteroarylthio group having about 3 to 20 carbon atoms such as pyridylthio group and thienylthio group; amino optionally having a substituent having about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylamino group and diphenylamino group; An acyl group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetyl group and a pivaloyl group; an acylamino group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetylamino group and a propionylamino group; and 2 to 20 carbon atoms such as a 3-methylureido group About 1 to 20 carbon atoms such as methanesulfonamide group and benzenesulfonamide group; about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylcarbamoyl group and ethylcarbamoyl group; ethylsulfamoyl group A sulfamoyl group having about 1 to 20 carbon atoms such as a dimethylsulfamoylamino group A sulfamoylamino group having about 1 to 20 prime atoms; an alkoxycarbonyl group having about 2 to 6 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; an aryl having about 7 to 20 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group and a naphthoxycarbonyl group An oxycarbonyl group; a heteroaryloxycarbonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxycarbonyl group; an alkylsulfonyl group having about 1 to 6 carbon atoms such as a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, and a fluoromethanesulfonyl group; benzene An arylsulfonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a sulfonyl group or a monofluorobenzenesulfonyl group; a heteroaryloxysulfonyl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienylsulfonyl group; an imide having about 4 to 20 carbon atoms such as phthalimide Group; also Includes a silyl group that is trisubstituted with a substituent selected from the group consisting of an alkyl group and an aryl group.
また、上記一般式(1)で表される化合物において、R1及びR2、X2〜X5及びX7〜X10のうち、特には、それぞれ同一でも異なっていても良いが、同一である方がより好ましい。
M1は、4配位の形態をとりうる金属原子であれば特に限定されないが、好ましくはNi、Pd又はPtの10族金属原子;Co;Fe;Cu;Au;Cr又はMnが挙げられ、より好ましくは10族金属原子であり、特に好ましくはNi又はPdである。
In the compound represented by the general formula (1), among R 1 and R 2 , X 2 to X 5 and X 7 to X 10 , in particular, they may be the same or different, but they are the same. Some are more preferred.
M 1 is not particularly limited as long as it is a metal atom that can take a tetracoordinated form, and preferably includes a
ここで、上記一般式(1)の、リガンド部分の分子量は通常1000以下、好ましくは600以下である。また、モル吸光係数は、通常8000以上、好ましくは10000以上の物である。
加えて、上記一般式(1)で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常0.1%以上、好ましくは0.5%以上である。
Here, the molecular weight of the ligand moiety in the general formula (1) is usually 1000 or less, preferably 600 or less. The molar extinction coefficient is usually 8000 or more, preferably 10,000 or more.
In addition, the solubility of the compound represented by the general formula (1) in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, an ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and a solvent selected from a ketone solvent such as methyl ethyl ketone is usually It is 0.1% or more, preferably 0.5% or more.
本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる化合物の好ましい具体例としては、例えば、以下に例示されるものが挙げられる。ただし、以下の化合物に限定されるものではない。 Preferable specific examples of the compound used in the near infrared absorption filter of the present invention include, for example, those exemplified below. However, it is not limited to the following compounds.
このような一般式(1)で表される化合物は、例えば、Mol. Cryst. Liq. Crst.(Lett), 56巻、249頁(1980年)記載の公知の方法などで1,3−ジチオール−2−オン誘導体を得た後、含金属化し、対称型金属錯体を得ることができる。また、その吸収極大波長が750nm〜980nm程度のものである。
2.一般式(2)〜(9)で表される近赤外線吸収化合物)
本発明の近赤外線吸収フィルターには、さらに下記一般式(2)〜(9)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を少なくとも1種類以上含有することにより、750〜1050nmの範囲の近赤外線領域を幅広く吸収できるため、特に電子ディスプレイ用フィルターに用いる場合には好ましい。
Such a compound represented by the general formula (1) is obtained by a known method described in, for example, Mol. Cryst. Liq. Crst. (Lett), 56, 249 (1980). After obtaining a 2-one derivative, it can be metallized to obtain a symmetric metal complex. The absorption maximum wavelength is about 750 nm to 980 nm.
2. Near-infrared absorbing compounds represented by general formulas (2) to (9))
The near-infrared absorption filter of the present invention further contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (2) to (9), so that the near-infrared filter in the range of 750 to 1050 nm can be obtained. Since it can absorb a wide infrared region, it is particularly preferred when used for a filter for an electronic display.
特に(5)、(6)および(8)の色素と混合するときに従来の色素に対して配位子交換しづらいので好ましい。 In particular, when mixed with the dyes of (5), (6) and (8), it is difficult to exchange ligands with respect to conventional dyes, which is preferable.
前記一般式(2)において、A及びA’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R5とR6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。M2は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
In the general formula (2), A and A ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a heteroaryl that may have a substituent. Indicates a group. Here, R 5 and R 6 may be linked directly or via a linking group. M 2 can be the same metal as described for M 1 .
上記A及びA’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のような単環又は2員環式アリール基である。 The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of A and A ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and a monocyclic or 2-membered cyclic aryl group such as a benzene ring and a naphthalene ring is more preferable.
上記A及びA’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of A and A ′ include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8. , A nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent Examples thereof include an alkoxy group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group A halogen atom such as benzyl group, phenethyl group, trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl group or tolyl group; A heteroaryl group having 4 to 8 carbon atoms such as a group or a thienyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a t-butoxy group, or an n-butoxy group; Aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, diphenylamine Amino group, alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.
また、A及びA’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R5とR6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下の1級又は2級アルキル基、特に好ましくは炭素数10以下の1級アルキル基である。
上記R5とR6のアルキル基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、特に好ましくは,無置換、ハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)、シアノ基、アルコキシ基及びアリール基である。
上記R5とR6のアリール基及びヘテロアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等の5員又は6員単環若しくはそれらの縮合環が挙げられる。このうち好ましくは、置換基を有していても良いアリール基、より好ましくは、置換基を有していても良いフェニル基である。
Further, two adjacent substituents on A and A ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
Examples of the alkyl group of R 5 and R 6 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, cyclohexylmethyl group, and neopentyl group. , A linear, branched or cyclic alkyl group such as 2-ethylbutyl group, isopropyl group, 2-butyl group, cyclohexyl group, 3-pentyl group, 1,1-dimethylpropyl group. Among these, a primary or secondary alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferable, and a primary alkyl group having 10 or less carbon atoms is particularly preferable.
Examples of the substituent of the alkyl group of R 5 and R 6 include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8 , and particularly preferably an unsubstituted, halogen atom (especially Preferably a fluorine atom), a cyano group, an alkoxy group and an aryl group.
The aryl group and heteroaryl group of R 5 and R 6 include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, pyrenyl group or fluorenyl group, thienyl group, furyl group, pyridyl group, imidazolyl group, pyrazinyl group or pyrazolyl group. 5-membered or 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Of these, an aryl group which may have a substituent is preferable, and a phenyl group which may have a substituent is more preferable.
さらに、置換基を有しても良いフェニル基のうち、特に好ましくは、上記R5及びR6が結合している窒素原子と結合する炭素原子に隣接する炭素原子が、置換基R43及びR44を有する場合である。R43及びR44は、1価の置換基を示す。上記R43及びR44としては、色素の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、より好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いアリールオキシ基、置換基を有しても良い複素環基、置換基を有しても良い複素環オキシ基、置換されていても良いアルキルチオ基、置換されていても良いアリールチオ基及び置換されていても良い複素環チオ基からなる群より選ばれる置換基のように立体障害性の高い基であるか、または、Hammettの置換基定数smが0.00<sm<0.90となるような電子吸引性基が挙げられる。
上記電子吸引性基としては、例えば、J.Med.Chem.,16,1207(1973)やJ.Med.Chem.,20,304(1977)に記載されているようなものが挙げられるが、より具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、ハロアリールスルホニル基等が挙げられる。
Furthermore, among the phenyl groups which may have a substituent, particularly preferably, the carbon atom adjacent to the carbon atom bonded to the nitrogen atom to which R 5 and R 6 are bonded is the substituent R 43 and R This is the case with 44 . R 43 and R 44 represent a monovalent substituent. R 43 and R 44 are not particularly limited as long as they are groups that do not adversely affect the stability of the dye. More preferably, they may have an alkyl group that may have a substituent or a substituent. Alkoxy group, aryl group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, heterocyclic group which may have a substituent, heterocyclic oxy group which may have a substituent A group having a high steric hindrance such as a substituent selected from the group consisting of an optionally substituted alkylthio group, an optionally substituted arylthio group and an optionally substituted heterocyclic thio group, Alternatively, an electron-withdrawing group having a Hammett substituent constant sm of 0.00 <sm <0.90 can be given.
Examples of the electron-withdrawing group include J.I. Med. Chem. 16, 1207 (1973) and J.A. Med. Chem. , 20, 304 (1977), more specifically, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, haloalkyl groups, haloalkoxy groups, haloaryloxy groups, acyl groups, Examples include an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a haloalkylsulfonyl group, a haloarylsulfonyl group, and the like.
R5及びR6が芳香環の場合、芳香環上の置換基同士は、隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
In the case where R 5 and R 6 are aromatic rings, the substituents on the aromatic ring are formed by combining two adjacent substituents, such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —. An alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms, an alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.
一般式(2)で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が上げられる。 Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (2) include compounds represented by the following structural formula.
前記一般式(3)において、B及びB’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
R7及びR8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R7とR8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。M3は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
In the general formula (3), B and B ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heteroaryl which may have a substituent. Indicates a group. Here, R 7 and R 8 may be connected to each other directly or via a linking group. M 3 can be the same metal as described for M 1 .
上記B及びB’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。 The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of B and B ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.
上記B及びB’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of B and B ′ include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8. , A nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include an alkoxy group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group A halogen atom such as benzyl group, phenethyl group, trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl group or tolyl group; A heteroaryl group having 4 to 8 carbon atoms such as a group or a thienyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a t-butoxy group, or an n-butoxy group; Aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, diphenylamine Amino group, alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.
また、B及びB’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R7及びR8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては、先のR5及びR6のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記R7及びR8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
Also, two adjacent substituents on B and B ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Examples of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group for R 7 and R 8 include the same groups as those described above for the alkyl group, aryl group or heteroaryl group for R 5 and R 6 . Examples of the substituent of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 7 and R 8 include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8 . A halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group and an aryloxy group;
R7及びR8は、直接、あるいは、連結基を介して互いに結ばれていても良いが、特に下図のような場合が好ましい。 R 7 and R 8 may be linked to each other directly or via a linking group, but the case as shown in the figure below is particularly preferred.
R45〜R54として好ましい具体例としては、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;水酸基;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などのアルキル基で置換されていても良い炭素数6〜10のアリールオキシ基が挙げられる。R45〜R54の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。 Specific preferred examples of R 45 to R 54 include hydrogen atom; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; hydroxyl group; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, Halogen atom or aryl group such as i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-pentyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, phenethyl group, etc. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; a phenyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a t-butoxy group and an n-butoxy group; a phenoxy group and a methylphenoxy group And an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms which may be substituted with an alkyl group. Two adjacent substituents of R 45 to R 54 are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as — or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
このうち好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基等の電子吸引性基、もしくは、水素原子が挙げられ、R45〜R54の中で、少なくともひとつは水素原子でないものである。さらにはR45〜R54の少なくとも1つがフッ素原子、塩素原子またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが好ましい。 Among these, preferably, an electron-withdrawing group such as a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a haloalkyl group, a haloalkoxy group, a haloaryloxy group, or a hydrogen atom is used. Among R 45 to R 54 , at least One is not a hydrogen atom. Furthermore, it is preferable that at least one of R 45 to R 54 is a fluorine atom, a chlorine atom or a cyano group, and the rest are hydrogen atoms.
Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。 X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式(3)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (3) include those represented by the following structural formula.
前記一般式(4)において、C及びC’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
R3、R4、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R3とR4、及び、R9とR10は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。M4は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
In the general formula (4), C and C ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 3 , R 4 , R 9 and R 10 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. The heteroaryl group which may be present is shown. Here, R 3 and R 4 , and R 9 and R 10 may be connected to each other directly or via a linking group. M 4 can be the same metal as described for M 1 .
上記C及びC’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。 The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of C and C ′ is a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group Or an aryl group such as a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.
上記C及びC’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of C and C ′ include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8. , A cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include an alkoxy group, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group A halogen atom such as benzyl group, phenethyl group, trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl group or tolyl group; A heteroaryl group having 4 to 8 carbon atoms such as a group or a thienyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a t-butoxy group, or an n-butoxy group; Aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, diphenylamine Amino group, alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.
また、C及びC’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R3、R4、R9及びR10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては
、先のX3及びX8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記R3、R4、R9及びR10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
Further, two adjacent substituents on C and C ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
Examples of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 3 , R 4 , R 9 and R 10 are the same as those described above for the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of X 3 and X 8. Can be given. Examples of the substituent of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 3 , R 4 , R 9 and R 10 include the same substituents as those described above as the substituents of X 3 and X 8. Are particularly preferably a halogen atom, an alkyl group, a nitro group, an alkoxy group, an aryl group and an aryloxy group.
また、式(4)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。 Further, formula (4) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式(4)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (4) include those represented by the following structural formula.
前記一般式(5)において、D及びD’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。
M5は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記D及びD’のアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基が挙げられる。より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
In the general formula (5), D and D ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent.
M 5 can be the same metal as described for M 1 .
The skeleton constituting the aryl group of D and D ′ is preferably a 6-membered monocycle or a condensed ring thereof, and specifically includes a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a pyrenyl group. It is done. More preferred is an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring.
上記D及びD’のアリール基の置換基としては、先のX3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group of D and D ′ include the same substituents as those mentioned as the substituents of X 3 and X 8 above. Among them, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, A cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, an alkoxy which may have a substituent Group, an aryloxy group which may have a substituent, or an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.
また、D及びD’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式(5)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
Further, two adjacent substituents on D and D ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
Formula (5) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
一般式(5)は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式(5)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
In general formula (5), those forming a salt and those not forming a salt are preferred.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (5) include those represented by the following structural formula.
前記一般式(6)において、R11〜R14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、置換されていても良いカルボニル基、置換されていても良いアルキル基、置換されていても良いアリール基、又は、置換されていてもよいヘテロアリール基である。特に好ましくは、水素原子、置換されていても良いアリール基である。M6は、上記M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。 In the general formula (6), R 11 to R 14 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, an optionally substituted carbonyl group, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted group. An aryl group or an optionally substituted heteroaryl group. Particularly preferred are a hydrogen atom and an optionally substituted aryl group. M 6 may be the same metal as described in M 1 above.
上記アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及びカルボニル基の置換基としては、上記X3及びX8で記載したのと同様の基が挙げられる。
また、上記R11〜R14の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基が、一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Examples of the substituent for the alkyl group, aryl group, heteroaryl group and carbonyl group include the same groups as those described above for X 3 and X 8 .
In addition, the aliphatic hydrocarbon group of R 11 to R 14 and the substituents of the aryl group and heteroaryl group are combined to form a carbon number such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —. An alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms, an alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
また、式(6)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。 Formula (6) may form a salt form, and X represents a Group 15 atom, and particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
一般式(6)は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式(6)で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が挙げられる。
In general formula (6), those forming a salt and those not forming a salt are preferred.
Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (6) include compounds represented by the following structural formula.
一般式(7)において、R15〜R30は、任意の置換基を表し、本発明の化合物の基本的性能を損なわない限り特に制限は無いが、例えば、R15〜R30の置換基としてあげたものと同様の基があげられる。
上記一般式(7)におけるM7は、フタロシアニン骨格と錯体を形成出来る元素であれ
ば、特に限定されないが、好ましくは銅原子、バナジウムオキシ基又は塩化スズ基が挙げられる。
In the general formula (7), R 15 ~R 30 represents an optional substituent is not particularly limited as long as they do not impair the basic performance of the compounds of the present invention, for example, as a substituent of R 15 to R 30 The same groups as those mentioned can be mentioned.
M 7 in the general formula (7) is not particularly limited as long as it is an element capable of forming a complex with the phthalocyanine skeleton, and preferably includes a copper atom, a vanadium oxy group, or a tin chloride group.
上記一般式(7)で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平10−78509号公報、特開平11−116826号公報、特開平11−65463号公報及び特開2000−26748号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、下記に記載したような含フッ素フタロシアニン系化合物が好ましい。 Of the compounds represented by the general formula (7), preferred specific examples include JP-A-10-78509, JP-A-11-116826, JP-A-11-65463, and JP-A 2000-26748. Those described in the publication can be mentioned, and among them, fluorine-containing phthalocyanine compounds as described below are preferable.
前記一般式(8)において、R31とR32、及び、R33とR34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は、置換されていても良いヘテロアリール基を示す。M8は、M1で記載したものと同様の金属を用いることができる。上記R31〜R34の脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基としては、X3及びX8であげたものと同様のものがあげられるが、より具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基;2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2,4−ペンタジエニル基等のアルケニル基;エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下の1級又は2級アルキル基である。上記アリール基としては、フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。上記へテロアリール基としては、チエニル基、フリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基などがあげられる。
該R31〜R34の脂肪族炭化水素基及びアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、X3及びX8であげたものと同様のものがあげられる。
In the general formula (8), R 31 and R 32 and R 33 and R 34 are each independently an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group or an optionally substituted aryl group, The heteroaryl group which may be substituted is shown. M 8 can be the same metal as described for M 1 . Examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group, and heteroaryl group for R 31 to R 34 are the same as those described for X 3 and X 8 , and more specifically, methyl group, ethyl group, and the like. Group, n-propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, cyclohexylmethyl group, neopentyl group, 2-ethylbutyl group, isopropyl group, 2-butyl group, cyclohexyl group A linear, branched or cyclic alkyl group such as 3-pentyl group, tert-butyl group, 1,1-dimethylpropyl group; 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2, Examples thereof include alkenyl groups such as 4-pentadienyl group; alkynyl groups such as ethynyl group. Of these, a primary or secondary alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferred. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heteroaryl group include thienyl group, furyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group and the like.
Examples of the substituent for the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heteroaryl group of R 31 to R 34 are the same as those described for X 3 and X 8 .
また、上記R31とR32、及び、R33とR34が一体となって−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、−CH2−CF2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH(Ph)−CH2−、−CH(Me)−CH2−等の置換されていても良いアルキレン基;−CH=CH−、−C(Me)=CH−、−CH=CH−CH2−CH2−CH=CH−等の置換されていても良いアルケニレン基;−CH2−S−CH2−、−CH2−O−CH2−、−CH2−C(=O)−CH2−、−CH2−CH2−S−CH2−CH2−、−CH2−CH2−O−CH2−CH2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い。 Moreover, the R 31 and R 32, and, R 33 and R 34 together form -CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CF 2 -CH 2 - , -CH 2 -CH 2 -CH2-CH 2 -, - CH (Ph) -CH 2 -, - CH (Me) -CH 2 - optionally substituted alkylene group such as; -CH = CH-, An optionally substituted alkenylene group such as —C (Me) ═CH—, —CH═CH—CH 2 —CH 2 —CH═CH—, etc .; —CH 2 —S—CH 2 —, —CH 2 —O -CH 2 -, - CH 2 -C (= O) -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -S-CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 - An alkylene group containing a linking group such as may be formed.
上記R31及びR32、R33及びR34として好ましくは無置換のアルキル基、または、置換基を有していても良いアルキル基、特に好ましくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)、シアノ基、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良いアルキル基である。
また、式(8)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R’、R''、R''’、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、X3及びX8の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R’、R''、R''’、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
R 31 and R 32 , R 33 and R 34 are preferably unsubstituted alkyl groups or optionally substituted alkyl groups, particularly preferably unsubstituted alkyl groups, halogen atoms (particularly preferably A fluorine atom), a cyano group, an alkyl group and an aryl group which may have a substituent selected from the group consisting of an aryl group.
Formula (8) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ each independently represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group. Examples of the substituent include the same substituents as those mentioned as the substituents for X 3 and X 8 . R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, i-butyl group, n-butyl group, n-hexyl. Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
一般式(8)は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。一般式(8)で表される色素の好ましい具体例として、下記で表されるものがあげられる。 In the general formula (8), those not forming a salt are more preferable than those forming a salt. Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (8) include those represented by the following.
一般式(9)において、R35〜R42は、それぞれ独立に置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示し、ここで、R35〜R42は隣り合う2つの置換基同士が連結基を介して結合で結ばれていても良い。R35〜R42の置換基として、具体的には、一般式(1)のX3及びX8の説明で述べたものと同様の基が選ばれる。 In the general formula (9), R 35 to R 42 are each independently an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a heteroaryl group that may have a substituent. Here, in R 35 to R 42, two adjacent substituents may be bonded to each other through a linking group. Specific examples of the substituent for R 35 to R 42 are the same as those described in the description of X 3 and X 8 in the general formula (1).
また、R35〜R42は隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH2)3−又は−(CH2)4−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH2)2O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Xは陰イオンを示し、具体的には、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、過塩素酸アニオン、6フッ化アンチモン酸イオン、硝酸アニオン、ヘキサフルオロフォスフェイトアニオン、テトラフルオロボレートアニオンで表される1価の陰イオンを示す。
R 35 to R 42 are an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —; An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
X represents an anion, specifically, fluorine anion, chlorine anion, bromine anion, iodine anion, perchlorate anion, hexafluoroantimonate ion, nitrate anion, hexafluorophosphate anion, tetrafluoroborate anion. The monovalent anion represented is shown.
上記一般式(9)で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平10−18092号公報、特開平11−170700号公報、特開2000−80071号公報、特開2000−81511号公報及び特開2001−174626号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、日本化薬社製「kayasorb IRG022」及び「kayasorb IRG023」として市販されているような色素、並びに、日本カーリット社製「CIR1080」、「CIR1081」、「CIR1083」及び「CIR1085」として市販されているような色素が好ましい。 Of the compounds represented by the general formula (9), preferred specific examples include JP-A Nos. 10-18092, 11-170700, 2000-80071, and 2000-81511. And those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-174626, among others, such as “Kayasorb IRG022” and “kayasarb IRG023” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and Nippon Carlit Dyes such as those commercially available as “CIR1080”, “CIR1081”, “CIR1083” and “CIR1085” are preferred.
ここで、上記一般式(2)〜(6)、(8)で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常800以下、好ましくは500以下の物である。
また、上記一般式(2)〜(6)、(8)で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常5000以上、好ましくは8000以上の物である。
一般式(7)に記載のフタロシアニン化合物としては、分子量900〜3000、好ましくは、1000〜2500のものである。
Here, the compounds represented by the general formulas (2) to (6) and (8) are those having a molecular weight of the ligand moiety of usually 800 or less, preferably 500 or less.
The molar extinction coefficient of the compounds represented by the general formulas (2) to (6) and (8) is usually 5000 or more, preferably 8000 or more.
The phthalocyanine compound described in the general formula (7) has a molecular weight of 900 to 3000, preferably 1000 to 2500.
また、上記一般式(7)で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常5000以上、好ましくは8000以上の物である。
一般式(9)に記載のジインモニウム化合物としては、分子量600〜3000、好ましくは、900〜2100のものである。
また、上記一般式(9)で表される化合物のモル吸光係数は、通常70000以上、好ましくは90000以上の物である。
Further, the molar extinction coefficient of the compound represented by the general formula (7) is usually 5000 or more, preferably 8000 or more.
The diimmonium compound described in the general formula (9) has a molecular weight of 600 to 3000, preferably 900 to 2100.
The molar extinction coefficient of the compound represented by the general formula (9) is usually 70000 or more, preferably 90000 or more.
加えて、上記一般式(2)〜(9)で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常0.1%以上、好ましくは0.5%以上である。
尚、上記化合物(2)は、例えば、Russ. J. Gen. Chem., 66巻、1842頁(1996年)に記載の方法で合成でき、上記化合物(3)は、例えば、特開2001−89492号公報に記載の方法で合成でき、化合物(4)は例えば、J.Am.Chem.Soc.,88卷、5201頁(1966年)により合成でき、化合物(5)は、例えば、J.Am.Chem.Soc.,88卷、43頁及び4870頁(1966年)に記載の方法で合成でき、化合物(6)は、例えば、J.Am.Chem.Soc.,87卷、1483頁(1965年)に記載の方法で合成でき、化合物(7)は、例えば、The Porphyrin Handbook(2003)に記載の方法で合成でき、化合物(8)は、例えば、J.Mater.Chem.,1861頁(1994)に記載の合成方法で合成でき、化合物(9)は、例えば、特開昭61−246391号公報に記載の方法で合成できる。
In addition, the solubility of the compounds represented by the above general formulas (2) to (9) in a solvent selected from an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, an ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and a ketone solvent such as methyl ethyl ketone. Is usually 0.1% or more, preferably 0.5% or more.
The compound (2) can be synthesized, for example, by the method described in Russ. J. Gen. Chem., 66, 1842 (1996). The compound (4) can be synthesized by the method described in Japanese Patent No. 89492. Am. Chem. Soc. 88, p. 5201 (1966). Compound (5) can be synthesized, for example, according to J. Am. Am. Chem. Soc. , 88 卷, p. 43 and p. 4870 (1966). Compound (6) can be synthesized, for example, according to J. Am. Am. Chem. Soc. 87, 1483 (1965). Compound (7) can be synthesized, for example, by the method described in The Porphyrin Handbook (2003), and compound (8) can be synthesized by, for example, J. Chem. Mater. Chem. , P. 1861 (1994), and compound (9) can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-61-246391.
(近赤外線吸収フィルター)
本願の近赤外線吸収フィルターは、上記一般式(1)で表される化合物を用いることにより、800〜980nm付近に極大吸収を有し、さらに、上記(2)〜(11)で表される化合物と組み合わせて用いることにより、750〜1050nmの波長域をカバーする近赤外線吸収フィルターを効率的に得ることができる。
(Near infrared absorption filter)
The near-infrared absorption filter of the present application has a maximum absorption in the vicinity of 800 to 980 nm by using the compound represented by the general formula (1), and further, the compounds represented by the above (2) to (11) By using in combination, a near-infrared absorption filter that covers a wavelength range of 750 to 1050 nm can be efficiently obtained.
加えて、プラズマディスプレイパネルにおいては、820〜825nm、880nm、980nm近辺の近赤外線発光が特に強いため、この部分の光線透過率が15%以下とするのが好ましい。
また、可視光透過率が、特には400〜450nmにおける平均透過率が45%以上であり、加えて、550〜600nmにおける透過率が60%以上、好ましくは70%以上であるため、車窓ガラスに用いた場合の景色の色再現性(明るさ)やディスプレイの画面の明るさ等を確保することもできるものである。
In addition, in the plasma display panel, near infrared emission around 820 to 825 nm, 880 nm, and 980 nm is particularly strong, and thus the light transmittance of this portion is preferably 15% or less.
Further, since the visible light transmittance is particularly 45% or more at an average transmittance of 400 to 450 nm, and the transmittance at 550 to 600 nm is 60% or more, preferably 70% or more, When used, the color reproducibility (brightness) of the scenery and the brightness of the display screen can be ensured.
本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐熱性も優れたものであり、80℃の恒温槽での500時間耐熱試験後に可視光領域に新たなピークが出ることもない。
本願フィルターとして好ましくは、上記耐熱試験での色素残存率が60%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは85%以上となるものである。ここで、色素残存率は、750〜1050nmの領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。
The near-infrared absorption filter of the present invention has excellent heat resistance, and a new peak does not appear in the visible light region after a 500-hour heat test in a thermostat at 80 ° C.
The filter of the present application preferably has a dye residual ratio in the heat resistance test of 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 85% or more. Here, the dye residual ratio is determined from the degree of decrease in absorption intensity before and after the test in the region of 750 to 1050 nm.
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐光性富士フィルム(株)社製UVカットフィルターを装着した状態でのキセノンランプによる280時間耐光性試験後の色素残存率も優れたものであり、好ましくは色素残存率が70%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上となるものである。
(フィルターの製造方法)
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液をコーティングする方法、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂と溶融混錬してフィルム状に成形する方法などが挙られるが、近赤外線吸収色素に対する負荷を低減するため、塗工液をコーティングする方法の方が好ましい。
Furthermore, the near-infrared absorption filter of the present invention has an excellent dye residual rate after a 280-hour light resistance test using a xenon lamp with a UV-resistant filter manufactured by Fuji Film Co., Ltd. The dye residual ratio is 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more.
(Filter manufacturing method)
Examples of the method for producing the infrared absorbing filter of the present invention include a method of coating a transparent substrate with a coating liquid containing a near infrared absorbing dye, a method of melting and kneading a near infrared absorbing dye with a binder resin, and forming a film. In order to reduce the load on the near-infrared absorbing dye, the method of coating the coating liquid is preferred.
以下に、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について詳細に説明する。
(基板)
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基材であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
Below, the method of apply | coating the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye to a transparent substrate and manufacturing an infrared rays absorption filter is demonstrated in detail.
(substrate)
The transparent substrate constituting the infrared absorption filter of the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate that is substantially transparent and does not significantly absorb and scatter. Specific examples include glass, polyolefin resin, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, poly Examples include arylate resin and polyethersulfone resin. Among these, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polyarylate resin, and polyethersulfone resin are particularly preferable.
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
These resins should contain known additives such as phenolic and phosphorous antioxidants, halogen and phosphoric acid flame retardants, heat aging inhibitors, ultraviolet absorbers, lubricants, antistatic agents and the like. Can do.
The transparent substrate is obtained by molding these resins into a film using a molding method such as injection molding, T-die molding, calender molding, compression molding, or a method of dissolving and casting in an organic solvent. Used. The resin formed into a film may be stretched or unstretched. Moreover, the film which consists of a different material may be laminated | stacked.
透明基板の厚みは、目的に応じて通常10μm〜5mmの範囲から選択される。
更に、透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
(近赤外線吸収色素層)
近赤外線吸収色素を含む塗工液は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解又は分散させることにより、調製することができる。また、分散させる場合、近赤外線吸収色素を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常0.1〜3μmに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調製することもできる。
The thickness of the transparent substrate is usually selected from the range of 10 μm to 5 mm depending on the purpose.
Further, the transparent substrate may be subjected to surface treatment by a conventionally known method such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, chemical treatment, or coating with an anchor coating agent or a primer. Good.
(Near-infrared absorbing dye layer)
The coating liquid containing a near infrared absorbing dye can be prepared by dissolving or dispersing the near infrared absorbing dye together with a binder resin in a solvent. Moreover, when making it disperse | distribute, a near-infrared absorption pigment | dye can also be prepared by making a particle size into 0.1-3 micrometers normally using a dispersing agent as needed, and making it disperse | distribute to a solvent with a binder.
このとき溶剤に溶解又は分散される近赤外線吸収色素、分散剤、およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常5〜50重量%である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、近赤吸収色素トータルとして通常0.1〜50重量%、好ましくは0.2〜30重量%である。また、一般式(1)で表される化合物の他に一般式(2)〜(11)で表される化合物を併用する場合においては、同一層に併存させても良いし、別層として積層させても良いが、一般式(1)で表される化合物に対する一般式(2)〜(11)で表される化合物の総量の比としては、1:0.1〜1:10、好ましくは、1:0.2〜1:5である。 At this time, the concentration of the total solid content such as near-infrared absorbing dye, dispersant, and binder resin dissolved or dispersed in the solvent is usually 5 to 50% by weight. Moreover, the density | concentration of the metal complex with respect to the total solid is 0.1 to 50 weight% normally as a near red absorption pigment | dye total, Preferably it is 0.2 to 30 weight%. Moreover, when using together the compound represented by General formula (2)-(11) other than the compound represented by General formula (1), you may coexist in the same layer, or it laminates | stacks as another layer The ratio of the total amount of the compounds represented by the general formulas (2) to (11) to the compound represented by the general formula (1) is 1: 0.1 to 1:10, preferably 1: 0.2-1: 5.
尚、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収剤の濃度としては、当然のことながら、近赤外線吸収フィルターの膜厚にも依存するため、溶融混練してフィルム状に成形するような場合には、上述の色濃度よりは低くなる。
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常0〜100重量%、好ましくは0〜70重量%である。
The concentration of the near-infrared absorber with respect to the binder resin naturally depends on the film thickness of the near-infrared absorption filter. It becomes lower than the concentration.
Examples of the dispersant include polyvinyl butyral resin, phenoxy resin, rosin-modified phenol resin, petroleum resin, cured rosin, rosin ester, maleated rosin, and polyurethane resin. The amount of its use is 0-100 weight% normally with respect to a metal complex compound, Preferably it is 0-70 weight%.
バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、バインダーに対して金属錯体化合物が、0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜10重量%である。
溶媒としては、1,2,3−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン(以下「THF」という)、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
Examples of the binder include polymethyl methacrylate resin, polyethyl acrylate resin, polycarbonate resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, and polyester resin. The amount of the metal complex compound used is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder.
As the solvent, halogenated aliphatic hydrocarbons such as 1,2,3-trichloropropane, tetrachloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1,2-dichloroethane, methanol, ethanol, propanol, butanol , Alcohols such as pentanol, hexanol, cyclohexanol and octanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters cyclohexane such as ethyl acetate, methyl propionate, methyl enanthate, methyl linoleate and methyl stearate , Aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, squalane, dimethyl sulfoxide, sulfora Sulfoxides such as N, N-dimethylformamide, amides such as N, N, N ′, N′-tetramethylurea, tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”), dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol Ethers such as dimethyl ether and tetraethylene glycol dimethyl ether, or a mixture thereof can be used.
また、近赤外線吸収色素を含む塗工液には、必要に応じて、上記以外の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表4A、5Aまたは6A族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。 Moreover, you may add near-infrared absorbers other than the above to the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye as needed. Other near-infrared absorbers include organic substances such as nitroso compounds and their metal complexes, cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triallylmethane compounds, and immonium compounds. Compound, diimmonium compound, naphthoquinone compound, anthraquinone compound, amino compound, aminium salt compound, inorganic carbon black, indium tin oxide, antimony tin oxide, periodic table 4A, 5A or 6A group Examples thereof include metal oxides, carbides, borides, and the like.
金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常0.1〜30μm、好ましくは0.5〜10μmとなるように塗布される。
Coating on a transparent substrate with a coating solution containing a metal complex is a known dipping method, flow coating method, spray method, bar coating method, gravure coating method, roll coating method, blade coating method, air knife coating method, etc. It is performed by the coating method.
The layer containing the metal complex is applied so that the film thickness after drying is usually 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 10 μm.
(紫外線カット層)
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、400nm以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであり、350nmの波長の光を70%以上吸収できることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム(紫外線カットフィルム)が好ましい。
(UV cut layer)
The infrared absorption filter of the present invention can significantly improve the light resistance of the infrared absorption filter due to the synergistic effect with the metal complex by further providing an ultraviolet cut layer. The ultraviolet cut layer is capable of efficiently cutting ultraviolet rays having a wavelength of 400 nm or less, and preferably absorbs 70% or more of light having a wavelength of 350 nm. The type of the ultraviolet cut layer is not particularly limited, but a resin film (ultraviolet cut film) containing an ultraviolet absorber is preferable.
紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、300〜400nmの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。 As an ultraviolet absorber used for the ultraviolet cut layer, any organic or inorganic compound can be used without particular limitation as long as it has a maximum absorption between 300 to 400 nm and can efficiently cut light in the region. be able to. For example, the organic UV absorbers include benzotriazole UV absorbers, benzophenone UV absorbers, salicylic acid ester UV absorbers, triazine UV absorbers, paraaminobenzoic acid UV absorbers, and cinnamic acid UV absorbers. Acrylate ultraviolet absorbers, hindered amine ultraviolet absorbers and the like, and inorganic ultraviolet grade agents include titanium oxide ultraviolet absorbers, zinc oxide ultraviolet absorbers, and particulate iron oxide ultraviolet absorbers. In the case of inorganic ultraviolet absorbers, organic ultraviolet absorbers are preferred because they exist in the form of fine particles in the ultraviolet cut layer and may impair the efficiency of the infrared absorption filter.
このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー(株)のチヌビンP、チヌビン120、213、234、320、326、327、328、329、384、400、571、住友化学(株)のスミソーブ250、300、577、共同薬品(株)バイオソーブ582、550、591、城北化学(株)のJFー86、79、78、80、旭電化(株)のアデカスタブLA−32,LA−36,LA−34、シプロ化成(株)のシーソルブ100、101、101S、102、103、501、201、202、612NH、大塚化学(株)のRUVA93、30M、30S、BASF(株)のユービナール3039等が挙げられる。
Examples of such an ultraviolet absorber include Tinuvin P, Tinuvin P,
これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー(株)のユービテックスOB,OB−P等の蛍光増白剤も利用できる。
また、紫外線カットフィルムは、市販のUVカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム(株)のSC−38、SC−39、SC−42、三菱レーヨン(株)のアクリプレン等が挙げられる。上記のUVカットフィルター、SC−39、アクリプレンは、ともに350nmの波長を99%以上吸収する紫外線カットフィルムである。
These ultraviolet absorbers may be used alone or in combination. In addition, fluorescent whitening agents such as Ubitex OB and OB-P manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd. that absorb ultraviolet rays and convert the wavelength into the visible region can also be used.
The UV cut film may be a commercially available UV cut filter, such as SC-38, SC-39, SC-42 from Fuji Film Co., Ltd., acrylene from Mitsubishi Rayon Co., Ltd. or the like. . The UV cut filter, SC-39, and acrylene are both UV cut films that absorb 99% or more of the wavelength of 350 nm.
このように紫外線吸収槽を設けた本発明の近赤外線吸収フィルターは、Xeランプを200時間照射することによる耐光性試験後の色素残存率が80%以上、好ましくは85%以上、特に好ましくは90%以上となり、可視光領域に新たな吸収ピークが出てくることもない。ここで、色素残存率は、800〜1100nm領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。 Thus, the near-infrared absorption filter of the present invention provided with the ultraviolet ray absorption tank has a dye residual ratio of 80% or more, preferably 85% or more, particularly preferably 90 after the light resistance test by irradiating the Xe lamp for 200 hours. %, And no new absorption peak appears in the visible light region. Here, the dye residual ratio is determined from the degree of decrease in absorption intensity before and after the test in the 800 to 1100 nm region.
上記近赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いてもよい。
また、本発明により得られる近赤外線吸収フィルターは、本発明のディスプレイパネル用フィルター以外にも、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
The near-infrared absorption filter may be used alone or as a laminate laminated with transparent glass or other transparent resin plate.
In addition to the display panel filter of the present invention, the near-infrared absorption filter obtained by the present invention can be used in a wide range of applications such as a heat ray blocking film, sunglasses, protective glasses, and a remote control receiver.
3.電子ディスプレイ用フィルター
さらに、本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層(ノングレア層)、色調補正層を設け、電子ディスプレイ用、より好ましくはプラズマディスプレイパネル用フィルターとして使用することができる。
3. Filter for electronic display Further, the infrared absorption filter of the present invention includes an electromagnetic wave cut layer, an antireflection layer for preventing reflection of external light such as a fluorescent lamp on the surface, and an antiglare layer (non-glare layer) as necessary. Further, a color tone correction layer is provided, and it can be used as a filter for an electronic display, more preferably a plasma display panel.
本発明の電子ディスプレイ用フィルターは、上記近赤外線吸収フィルターを用いている他は、通常、用いられる構成や製造方法等を任意にとることができ、特に限定されるものではないが、以下にプラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いる場合を代表例として説明する。
(電磁波カット層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる電磁波カット層としては、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ(ITO)が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで1000nm以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より3層、5層、7層あるいは11層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
The filter for electronic display of the present invention is not particularly limited except that the near-infrared absorption filter is used, and the configuration and manufacturing method used can be arbitrarily selected. A case where the filter is used as a display panel filter will be described as a representative example.
(Electromagnetic wave cut layer)
As an electromagnetic wave cut layer used in the filter for a plasma display panel of the present invention, vapor deposition of metal oxide or the like, a sputtering method, and the like can be used. Usually, indium tin oxide (ITO) is common, but light of 1000 nm or more can also be cut by alternately laminating a derivative layer and a metal layer on a substrate by sputtering or the like. The dielectric layer is a transparent metal oxide such as indium oxide or zinc oxide, and the metal layer is generally silver or a silver-palladium alloy. Usually, the dielectric layer has three, five, and seven layers. Laminate about 11 layers. As the substrate, the infrared absorption filter of the present invention may be used as it is, or after deposition or sputtering on a resin film or glass to provide an electromagnetic wave cut layer, it may be bonded to the infrared absorption filter of the present invention. good.
(反射防止層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる反射防止層としては、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
(Antireflection layer)
The antireflection layer used in the plasma display panel filter of the present invention includes a metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride in order to suppress reflection on the surface and improve the transmittance of the filter. In addition, a method of laminating inorganic substances such as sulfides in a single layer or multiple layers by vacuum deposition, sputtering, ion plating, ion beam assist, etc., single layers of resins having different refractive indexes such as acrylic resins and fluororesins Alternatively, there is a method of laminating in multiple layers. Moreover, the film which gave the antireflection process can also be affixed on this filter.
(色調補正層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる色調補正層としては、プラズマディスプレイから発せられる590〜600nmの波長域のネオンオレンジ光をカットできれば特に限定されず、公知のスクアリリウム系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、ピロメテン系化合物、ジピロメテン系化合物等の化合物を含有させる。また、消光時のディスプレイの色がニュートラルグレーになるようにその他の色素を添加することもある。
(Color tone correction layer)
The color tone correction layer used in the plasma display panel filter of the present invention is not particularly limited as long as it can cut neon orange light in the wavelength range of 590 to 600 nm emitted from the plasma display, and is well-known squarylium compound, tetraazaporphyrin type Compounds such as compounds, cyanine compounds, methine compounds, pyromethene compounds, and dipyrromethene compounds are included. In addition, other dyes may be added so that the color of the display at the time of extinction becomes neutral gray.
(ノングレア層)
また、上述の各層の他にぎらつき防止層(ノングレア層)も設けてもよい。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
(Non-glare layer)
In addition to the above layers, a glare prevention layer (non-glare layer) may be provided. In order to scatter the transmitted light, the non-glare layer may be formed by coating fine powders such as silica, melamine, and acrylic and coating the surface in order to scatter transmitted light. The ink can be cured by thermal curing or photocuring. Further, a non-glare-treated film can be stuck on the filter. If necessary, a hard coat layer can be provided.
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
実施例1
下式に示す化合物(A)(34.3mg)をトルエン0.80gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のMEK/トルエン(=1/1)溶液(樹脂濃度25重量%)3.2gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
Embodiments of the present invention will be described below by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.
Example 1
Compound (A) represented by the following formula (34.3 mg) was added to 0.80 g of toluene, and an MEK / toluene (= 1/1) solution of acrylic resin (Optreso OZ1100) (resin concentration: 25% by weight). ) Add 3.2 g, dissolve by applying ultrasonic waves, and after filtration, apply this coating solution to a polyethylene terephthalate film with a bar coater (No. 18; manufactured by Eto Kikai Co., Ltd.) and dry. As a result, a near-infrared absorption filter was obtained.
このフィルターのλmaxは851nmであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験(851nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率(試験後の強度÷試験前の強度×100)はそれぞれ、85.6%及び98.9%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Λmax of this filter was 851 nm.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and moist heat resistance, put it in a constant temperature bath at 80 ° C. and a constant temperature layer at 60 ° C. and 90% humidity for 500 hours to test heat resistance and moist heat resistance (measurement of absorption strength before and after the test at 851 nm). ), The residual ratio of the dye (strength after the test ÷ strength before the test × 100) was 85.6% and 98.9%, respectively, indicating good heat resistance and moist heat resistance, and the color change of the filter was There wasn't.
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−39)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、851nmにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率(照射後の強度÷照射前の強度×100)は96.6%と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。 A UV cut filter (SC-39) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When the absorption intensity before and after irradiation at 851 nm was measured, the residual dye ratio (intensity after irradiation ÷ intensity before irradiation × 100) was very good at 96.6%, and there was no change in filter color.
実施例2
実施例1において、化合物(A)にかえて下式に示す化合物(B)を用いた以外は実施例1と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 2
In Example 1, a near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound (B) represented by the following formula was used instead of the compound (A).
このフィルターのλmaxは855nmであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験(855nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率(試験後の強度÷試験前の強度×100)はそれぞれこのフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−3、97.4%及び100.0%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。9)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、855nmにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率(照射後の強度÷照射前の強度×100)は95.1%と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。
This filter had a λmax of 855 nm.
Furthermore, in order to evaluate the heat resistance and the heat and humidity resistance, the test was conducted for 500 hours in a constant temperature bath at 80 ° C. and a constant temperature layer at 60 ° C. and 90% humidity (measurement of absorption strength before and after the test at 855 nm). ), The residual pigment ratio (strength after the test ÷ strength before the test × 100) was applied to this filter, and UV cut filters (SC-3, 97.4% and 100.100%) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., respectively. 0% good heat resistance and moist heat resistance, no color change of the filter 9) Wearing xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (Suga Test Instruments Co., Ltd.) When the absorption intensity before and after irradiation at 855 nm was measured after irradiation for 280 hours, the residual ratio of the dye (intensity after irradiation ÷ intensity before irradiation × 100) was 95.1%, which was not In is good, there was no filter color change.
実施例3
下記に示す化合物(C)(34.3mg)をTHF(テトラヒドロフラン)1.0gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のTHF溶液(樹脂濃度30重量%)3.0gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 3
Compound (C) (34.3 mg) shown below was added to 1.0 g of THF (tetrahydrofuran), and 3.0 g of an acrylic resin (Optreso OZ1100) in THF (resin concentration: 30% by weight) was added thereto. Then, it was dissolved by applying ultrasonic waves, and after filtration, this coating solution was applied to a polyethylene terephthalate film with a bar coater (No. 18; manufactured by Eto Kikai Co., Ltd.) and dried to absorb near infrared rays. A filter was obtained.
このフィルターのλmaxは856nmであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験(856nmにおける耐久試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率(試験後の強度÷試験前の強度×100)はそれぞれ、96.2%及び99.0%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This filter had a λmax of 856 nm.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and heat-and-moisture resistance, it is placed in a thermostatic bath at 80 ° C. and a constant-temperature layer at 60 ° C. and 90% humidity for 500 hours to conduct a heat and moisture heat resistance test (absorption strength before and after the durability test at 856 nm). Measurement), the residual ratio of dye (strength after test ÷ strength before test × 100) was 96.2% and 99.0%, respectively, indicating good heat resistance and moist heat resistance, and the color change of the filter There was no.
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−39)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、856nmにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率(照射後の強度÷照射前の強度×100)は96.7%と非常に良好であり、フィルター色変化はなかった。 A UV cut filter (SC-39) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When the absorption intensity before and after irradiation at 856 nm was measured, the residual dye ratio (intensity after irradiation ÷ intensity before irradiation × 100) was very good at 96.7%, and there was no filter color change.
以下の実施例および比較例は、2種の近赤外線吸収色素を混合した近赤外線吸収フィルターを製造するものであるが、近赤外線吸収フィルターの825nm、880nm、980nmでの透過率が20%以下になるように近赤外線吸収色素の量を調節して製造した。 In the following examples and comparative examples, a near-infrared absorbing filter in which two kinds of near-infrared absorbing dyes are mixed is manufactured, but the transmittance of the near-infrared absorbing filter at 825 nm, 880 nm, and 980 nm is 20% or less. The amount of the near-infrared absorbing dye was adjusted so as to be manufactured.
実施例4
下式に示す化合物(A)(0.099g)、下式(D)に示す化合物(0.0684g)をトルエン2.0gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のMEK/トルエン(=1/1)溶液(樹脂濃度25重量%)8.0gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 4
A compound (A) (0.099 g) represented by the following formula and a compound (0.0684 g) represented by the following formula (D) were added to 2.0 g of toluene, and an MEK / acrylic resin (Optreso OZ1100) MEK / Toluene (= 1/1) solution (resin concentration: 25% by weight) (8.0 g) was added, dissolved by applying ultrasonic waves, filtered, and the coating solution was added to bar coater (No. 18; Eto Kikai Co., Ltd.). The product was coated on a polyethylene terephthalate film and dried to obtain a near infrared absorption filter.
この近赤外線吸収フィルターは、825nm、880nm、980nmでの透過率が20%以下であり、PDP本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図1(耐熱性結果)、図2(耐湿熱性結果)と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This near-infrared absorption filter had a transmittance of 20% or less at 825 nm, 880 nm, and 980 nm, and effectively shielded light emission from the PDP main body.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and moist heat resistance, a heat resistance and moist heat resistance test was conducted for 500 hours in a constant temperature bath at 80 ° C. and a constant temperature layer at 60 ° C. and 90% humidity. Results), FIG. 2 (results of moist heat resistance) and good heat resistance and moist heat resistance, and there was no color change of the filter.
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−42)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図3に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。 A UV cut filter (SC-42) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When the absorption intensity before and after irradiation was measured, it was good as shown in FIG. 3, and there was no change in filter color.
実施例5
化合物(A)に変えて下式に示す化合物(B)を用いた以外は実施例4と同様の方法により、下式に示す化合物(B)および下式(D)に示す化合物(0.0684g)を含有する近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 5
A compound (B) represented by the following formula and a compound (0.0684 g) represented by the following formula (D) were prepared in the same manner as in Example 4 except that the compound (B) represented by the following formula was used instead of the compound (A). ) Containing a near infrared absorption filter.
この近赤外線吸収フィルターは、825nm、880nm、980nmでの透過率が20%以下であり、PDP本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図4(耐熱性結果)、図5(耐湿熱性結果)と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This near-infrared absorption filter had a transmittance of 20% or less at 825 nm, 880 nm, and 980 nm, and effectively shielded light emission from the PDP main body.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and heat and humidity resistance, a heat resistance and heat and humidity resistance test was conducted for 500 hours in a constant temperature bath of 80 ° C. and a constant temperature layer of 60 ° C. and 90% humidity. Results), FIG. 5 (result of moist heat resistance) and good heat resistance and moist heat resistance, and there was no color change of the filter.
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−42)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図6に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。 A UV cut filter (SC-42) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When the absorption intensity before and after irradiation was measured, it was good as shown in FIG. 6, and there was no change in filter color.
実施例6
下式に示す化合物(C)(0.099g)、下式(D)に示す化合物(0.0684g)をTHF3.0gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のTHF(樹脂濃度30重量%)8.0gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 6
A compound (C) (0.099 g) represented by the following formula and a compound (0.0684 g) represented by the following formula (D) were added to 3.0 g of THF, and an acrylic resin (Optreso OZ1100) THF (resin) was added thereto. 8.0 g (
この近赤外線吸収フィルターは、825nm、880nm、980nmでの透過率が20%以下であり、PDP本体からの発光を有効に遮蔽するものであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を実施したところ、図7(耐熱性結果)、図8(耐湿熱性結果)と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This near-infrared absorption filter had a transmittance of 20% or less at 825 nm, 880 nm, and 980 nm, and effectively shielded light emission from the PDP main body.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and heat and humidity resistance, a test for heat resistance and moist heat resistance was carried out for 500 hours in a constant temperature bath of 80 ° C. and a constant temperature layer of 60 ° C. and 90% humidity. Results), FIG. 8 (wet heat and heat resistance results) and good heat resistance and moist heat resistance, showing no color change of the filter.
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−42)を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、照射前後の吸収強度を測定したところ、図9に示すように良好であり、フィルター色変化はなかった。
以下の表1〜3に、実施例4〜6の近赤外線吸収フィルター耐熱性、耐湿熱性、および耐光性試験前後(試験前に対する試験後)の825nm、880nm、980nmにおける透過率の変化を、図1〜9に試験前後の透過スペクトルを示す。
A UV cut filter (SC-42) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When the absorption intensity before and after irradiation was measured, it was good as shown in FIG. 9, and there was no change in filter color.
Tables 1 to 3 below show changes in transmittance at 825 nm, 880 nm, and 980 nm before and after the tests of the near-infrared absorption filters of Examples 4 to 6, heat resistance, moist heat resistance, and light resistance (after the test before the test). 1-9 show the transmission spectra before and after the test.
実施例1〜6により、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐熱性、耐湿熱性、および耐光性に優れていることが明らかである。 By Examples 1-6, it is clear that the near-infrared absorption filter of this invention is excellent in heat resistance, heat-and-moisture resistance, and light resistance.
実施例7
実施例4と同様の方法で調製したインク液を7日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。(図10)
実施例8
実施例5と同様の方法で調製したインク液を7日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。(図11)
実施例9
実施例6と同様の方法で調製したインク液を7日間室温で、放置し、その前後の透過スペクトルを測定したところスペクトル形状に変化はなかった。(図12)
以下の表4に、実施例7〜9のインク液を7日間室温で、放置する前後(放置前に対する放置後)の825nm、880nm、980nmにおける透過率の変化を示す。
Example 7
The ink liquid prepared in the same manner as in Example 4 was allowed to stand at room temperature for 7 days, and the transmission spectrum before and after the measurement was measured. As a result, there was no change in the spectrum shape. (Fig. 10)
Example 8
The ink liquid prepared by the same method as in Example 5 was allowed to stand at room temperature for 7 days, and the transmission spectrum before and after the measurement was measured. As a result, there was no change in the spectrum shape. (Fig. 11)
Example 9
The ink liquid prepared by the same method as in Example 6 was allowed to stand at room temperature for 7 days, and the transmission spectrum before and after the measurement was measured. As a result, there was no change in the spectrum shape. (Fig. 12)
Table 4 below shows changes in transmittance at 825 nm, 880 nm, and 980 nm before and after the ink solutions of Examples 7 to 9 were left at room temperature for 7 days (after being left unattended).
比較例1
下式に示す化合物(E)(0.0686g)、下式(D)に示す化合物(0.0740g)をトルエン1.6gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のMEK/トルエン(=1/1)溶液(樹脂濃度25重量%)6.4を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製した。
Comparative Example 1
A compound (E) (0.0686 g) represented by the following formula and a compound (0.0740 g) represented by the following formula (D) were added to 1.6 g of toluene, and MEK / acrylic resin (Optreso OZ1100) was added to these. Toluene (= 1/1) solution (resin concentration 25% by weight) 6.4 was added and dissolved by applying ultrasonic waves to prepare a coating solution.
この塗工液を室温で、7日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。(図13)
比較例2
下式に示す化合物(F)(0.0686g)、下式(D)に示す化合物(0.0740g)をTHF2.0gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のTHF溶液(樹脂濃度30重量%)8.0を添加し、超音波をかけて溶解させ塗工液を調製し、塗工液をろ過した。
When this coating solution was allowed to stand at room temperature for 7 days and the transmission spectrum before and after the observation was observed, there was a marked change in the spectrum shape, and this coating solution was unstable. (Fig. 13)
Comparative Example 2
A compound (F) (0.0686 g) represented by the following formula and a compound (0.0740 g) represented by the following formula (D) were added to 2.0 g of THF, and an acrylic resin (Optreso OZ1100) in THF solution ( 8.0 (resin concentration: 30% by weight) was added and dissolved by applying ultrasonic waves to prepare a coating solution, and the coating solution was filtered.
この塗工液を室温で、7日間放置し、その前後の透過スペクトルを観察したところ、スペクトル形状に顕著な変化があり、この塗工液は、不安定であった。(図14)
実施例7〜9と、比較例1および2とを対比することにより、本発明の近赤外線吸収フィルターは、他の近赤外線吸収色素と混合した場合に、従来のジチオレート系色素と対比して経時的なスペクトルの変化が非常に少なく、安定した近赤外線吸収フィルターであることが明らかである。
When this coating solution was allowed to stand at room temperature for 7 days and the transmission spectrum before and after the observation was observed, there was a marked change in the spectrum shape, and this coating solution was unstable. (Fig. 14)
By comparing Examples 7 to 9 with Comparative Examples 1 and 2, the near-infrared absorbing filter of the present invention was mixed with other near-infrared absorbing dyes over time compared with conventional dithiolate dyes. It is clear that this is a stable near-infrared absorption filter with a very small spectral change.
Claims (5)
X1およびX6は炭素原子、酸素原子、窒素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも1種類の原子を合計3以上有する1価の基である。
X2〜X5及びX7〜X10はそれぞれ独立に1価の基であって、隣り合う基が連結基を介して結合してもよい。M1は金属原子を示す。)で表される化合物を少なくとも一種類以上含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター。 The following general formula (1)
X 1 and X 6 are monovalent groups having a total of 3 or more of at least one kind selected from a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a silicon atom.
X 2 to X 5 and X 7 to X 10 are each independently a monovalent group, and adjacent groups may be bonded via a linking group. M 1 represents a metal atom. A near-infrared absorption filter having a layer containing at least one compound represented by
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- 2010-07-12 JP JP2010157694A patent/JP2011018048A/en active Pending
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