JP2011068537A - 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス - Google Patents

Abstract

【課題】電圧を印加することにより光の透過率が変化し、導電膜に対する密着性に優れる合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記エレクトロクロミック層は、エレクトロクロミック化合物１００重量部に対して、ポリビニルアセタール樹脂を３〜１００重量部含有するものであり、前記ポリビニルアセタール樹脂は、水酸基含有率が２０〜５０モル％である合わせガラス用中間膜。
【選択図】なし

Description

本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、導電膜に対する密着性に優れる合わせガラス用中間膜に関する。また、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。

電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光体は、広く用いられている。
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光が少ないという特徴がある。

エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。

近年、自動車等の車内の温度を制御するために、調光体を合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いることにより、合わせガラスの光線透過率を制御することができると考えられている。
合わせガラスは、安全性を確保する為に高い耐貫通性を有することが必要である。合わせガラスに高い耐貫通性を付与するために、合わせガラス用中間膜とガラス板との高い密着性が要求される。しかしながら、従来の調光体は、ガラス板に対する密着性が低い。そのため、従来の調光体を用いた合わせガラスは、高い耐貫通性が得られないという問題がある。

特開２００４−０６２０３０号公報 特開２００５−０６２７７２号公報 特表２００２−５２６８０１号公報 特表２００４−５３１７７０号公報

本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、導電膜に対する密着性に優れる合わせガラス用中間膜を提供することを目的とする。また、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。

本発明は、電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック層とを有する合わせガラス用中間膜であって、前記エレクトロクロミック層は、エレクトロクロミック化合物１００重量部に対して、ポリビニルアセタール樹脂を３〜１００重量部含有するものであり、前記ポリビニルアセタール樹脂は、水酸基含有率が２０〜５０モル％である合わせガラス用中間膜である。
以下に本発明を詳述する。

本発明の合わせガラス用中間膜は、電解質層とエレクトロクロミック層とが積層されている。上記エレクトロクロミック層は、上記電解質層の片面のみに積層されていてもよく、上記電解質層の両面に積層されていてもよい。

上記エレクトロクロミック層は、エレクトロクロミック化合物と水酸基の含有率が特定範囲であるポリビニルアセタール樹脂とを含有する。水酸基の含有率が特定範囲であるポリビニルアセタール樹脂をエレクトロクロミック化合物と併用することにより、上記エレクトロクロミック層は、ガラス板や導電膜に対する高い密着性を発揮することができる。また、適度な柔軟性が付与されることから、曲面を有する合わせガラス等に適用しても、合わせガラス用中間膜が破損することがない。

上記エレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物として、例えば、Ｍｏ_２Ｏ_３、Ｉｒ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、Ｖ_２Ｏ_５、ＷＯ_３等が挙げられる。
上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物として、例えば、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリエチレンジオキシチオフェン、金属フタロシアニン、ビオロゲン、ビオロゲン塩、フェロセン、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレンが好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレンがより好ましい。

上記芳香族側鎖を有するポリアセチレンは、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレンを用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレンは、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。

上記芳香族側鎖を有するポリアセチレンは特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン等が好適である。

上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。

上記エレクトロクロミック層はポリビニルアセタール樹脂を含有する。
上記ポリビニルアセタール樹脂は、水酸基の含有率の下限が２０モル％、上限が５０モル％である。上記水酸基の含有率が２０モル％未満であると、エレクトロクロミック層のガラス板や導電膜に対する密着性向上効果が得られない。上記水酸基の含有率が５０モル％を超えると、エレクトロクロミック層が硬くなり柔軟性を失ったり、エレクトロクロミック層を成形できなかったりする。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率の好ましい下限は２２モル％、好ましい上限は３６モル％である。
なお、ポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率は、水酸基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率である。水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ６７２６「ポリビニルアルコール試験方法」を用いて原料となるポリビニルアルコールの水酸基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。

上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル化度は特に限定されないが、好ましい下限は０．０１モル％、好ましい上限は４０モル％である。上記アセチル化度のより好ましい下限は０．１モル％、更に好ましい下限は０．５モル％、特に好ましい下限は１モル％であり、より好ましい上限は３８モル％、更に好ましい上限は３６モル％、特に好ましい上限は３４モル％である。
なお、ポリビニルアセタール樹脂のアセチル化度とは、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と、水酸基が結合しているエチレン基量とを差し引いた値を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率である。

上記ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度は特に限定されないが、好ましい下限は４０モル％、好ましい上限は７９モル％である。上記アセタール化度のより好ましい下限は４２モル％、更に好ましい下限は４４モル％、特に好ましい下限は４６モル％であり、より好ましい上限は７８モル％、更に好ましい上限は７７モル％、特に好ましい上限は７６モル％である。
なお、ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度とは、アセタール基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率である。

上記ポリビニルアセタール樹脂の重合度は特に限定されないが、好ましい下限は１５０、好ましい上限は２４００である。上記ポリビニルアセタール樹脂の重合度が１５０未満であると、合わせガラスを加熱した際に、ガラス板を充分に接着することができないことがあり、２４００を超えると、エレクトロクロミック層中に上記ポリビニルアセタール樹脂が充分に分散できないことがある。上記重合度のより好ましい下限は２００、更に好ましい下限は２５０、特に好ましい下限は３００、より好ましい上限は２３８０、更に好ましい上限は２３６０、特に好ましい上限は２３４０である。

上記ポリビニルアセタール樹脂は特に限定されないが、ガラス板や導電膜に対する密着性向上効果が高く、透明性の高いエレクトロクロミック層が得られることから、ポリビニルブチラール樹脂が好適である。

上記エレクトロクロミック層における上記ポリビニルアセタール樹脂の含有量は、上記エレクトロクロミック化合物１００重量部に対して、下限は３重量部、上限は１００重量部である。上記ポリビニルアセタール樹脂の含有量が３重量部未満であると、ガラス板や導電膜に対する密着性向上効果が得られず、１００重量部を超えると、電圧を印加しても光の透過率が変化しない。上記ポリビニルアセタール樹脂の含有量の好ましい下限は５重量部、好ましい上限は５０重量部である。

上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記エレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても充分に光の透過率が変化しないことがあり、２μｍを超えると、合わせガラス用中間膜の透明性が低下することがある。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。

上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加する。その結果、上記エレクトロクロミック層の光の透過率が変化する。
上記電解質層は特に限定されないが、例えば、電解質、溶媒、及び、バインダー樹脂を含有する電解質層が好適である。

上記電解質は特に限定されず、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩や、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩が挙げられる。
また、上記電解質は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。

上記電解質層中における上記電解質の濃度は特に限定されないが、好ましい下限は０．５重量％、好ましい上限は３０重量％である。上記電解質の濃度が０．５重量％未満であると、イオン伝導性が低くなるため、電圧を印加しても上記エレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。上記電解質の濃度が３０重量％を超えると、エレクトロクロミック層の応答性が低くなることがある。上記電解質の濃度のより好ましい下限は１重量％、より好ましい上限は２５重量％である。

上記電解質層に用いられる溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル類や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン類や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル類や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。

また、上記電解質層に用いられる溶媒として、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等の液状可塑剤が挙げられる。上記液状可塑剤を上記溶媒として用いることにより、上記電解質層に柔軟性を付与することができる。

上記電解質層中における上記溶媒の濃度は特に限定されないが、好ましい下限は５重量％、好ましい上限は５５重量％である。上記溶媒の濃度が５重量％未満であると、イオン伝導性が低くなるため、電圧を印加しても上記エレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。上記溶媒の濃度が５５重量％を超えると、上記電解質層が膜形状を維持できないことがある。上記溶媒の濃度のより好ましい下限は１０重量％、より好ましい上限は５０重量％である。

上記電解質層に用いられるバインダー樹脂は特に限定されず、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。
上記電解質層に用いられるバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を用いる場合には、上記エレクトロクロミック層に用いるポリビニルアセタール樹脂と同様のポリビニルアセタール樹脂を用いてもよい。

上記電解質層中における上記バインダー樹脂の濃度は特に限定されないが、好ましい下限は１５重量％、好ましい上限は９４．５重量％である。上記バインダー樹脂の濃度が１５重量％未満であると、上記電解質層が膜形状を維持できないことがある。上記バインダー樹脂の濃度が９４．５重量％を超えると、イオン伝導性が低くなるため、電圧を印加しても上記エレクトロクロミック層の光の透過率が変化しないことがある。

上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。
上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、上記電解質層は、上記電解質と、上記バインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂と、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、及び、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の液状可塑剤とを含有することが好ましい。
例えば、上記液状可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすると、得られる合わせガラスの遮音性を向上させることができる。

上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．１ｍｍ未満であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加しても光の透過率が変化しないことがあり、３．０ｍｍを超えると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合、光の透過率の変化速度が低下することがある。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．３ｍｍ、より好ましい上限は１．０ｍｍである。

上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記電解質を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した後、該混合物を熱プレスする等の方法により電解質層を形成する方法等が挙げられる。

上記電解質層又は上記エレクトロクロミック層は遮熱微粒子を含有してもよい。
上記遮熱微粒子は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化錫微粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛微粒子、六ホウ化ランタン微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
なお、上記遮熱微粒子が含まれるエレクトロクロミック層を用いて得られた合わせガラスは、エレクトロクロミック層の応答速度を向上させることができる。

上記電解質層又は上記エレクトロクロミック層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤として、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられ、なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩であることが好ましい。
具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、２−エチルブタン酸マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、２−エチルヘキサン酸マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。
これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。

本発明の合わせガラス用中間膜は、上記電解質層、上記エレクトロクロミック層以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、遮熱微粒子を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。

また、本発明の合わせガラス用中間膜は、表面にエンボスが形成されていることが好ましい。
上記エンボスの粗さは特に限定されないが、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で定義される十点平均粗さが２０〜５０μｍの範囲内にあることが好ましい。

本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法は特に限定されず、例えば、上記エレクトロクロミック化合物とポリビニルアセタール樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を、上記電解質層上に、コーター等を用いて塗工し、乾燥させる方法や、上記エレクトロクロミック化合物を適当な溶媒に溶解させた溶液とポリビニルアセタール樹脂との混合物を、押出機を用いてエレクトロクロミック層に形成し、上記電解質層上に積層する方法等が挙げられる。

本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
本発明の合わせガラスに用いられるガラス板は導電膜が少なくとも片面に形成されていれば特に限定されず、透明導電膜が少なくとも片面に形成されていることが好ましい。上記透明導電膜として、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜等が挙げられる。

上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類のガラス板を用いてもよい。
例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。
また、上記ガラス板として、２種の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。

本発明の合わせガラスは、本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に挟み込まれており、かつ、本発明の合わせガラス用中間膜と、上記導電膜とが接するように配置されていることが好ましい。

本発明の合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ^２以下であることが好ましい。

本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、フロントガラス、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラス、パノラマガラスとして用いることができる。

本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、導電膜に対する密着性に優れる合わせガラス用中間膜を提供することができる。また、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。

以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。

（実施例１）
（１）電解質層の調製
プロピレンカーボネート４ｇに過塩素酸リチウム０．３ｇを溶解した電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量を、ポリビニルブチラール樹脂１０ｇに添加して混合した後、得られた混合物を熱プレスにて１２０℃、１００ｋｇ／ｃｍ^２の条件で１０分間加圧し、厚み０．８ｍｍの電解質層を得た。

（２）ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）の調製
窒素雰囲気下−５０℃で９−エチニルフェナントレン３ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液３０ｍＬにノルマルブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液を添加した。次いで、−９０℃に冷却後、カリウムターシャリーブトキシド１．８ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液１５ｍＬを添加し、−８０℃で１時間撹拌し、５℃まで昇温した。次いで、−７０℃で１−ヨードオクタデカン５．６ｇを滴下し、−３０℃で１２時間撹拌した。０℃で水１００ｍＬを滴下し、ヘキサンを加え、生成した化合物を抽出した。このヘキサン層を蒸留水３００ｍＬで３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで１時間乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。カラム精製後溶媒を留去し、ヘキサンを展開溶媒としてカラム精製することにより３．５ｇの９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンを得た。
得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンについて^１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）により分析を行ったところ、δ８．７（２Ｈ）、８．５（１Ｈ）、８．１（１Ｈ）、７．７（４Ｈ）、３．７（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、１．６（３０Ｈ）、１．０（３Ｈ）のピークが認められた。

得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン０．３５ｇをＷＣｌ_６触媒を用いて重合させ、ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）０．２７ｇを得た。

（３）合わせガラス用中間膜の製造
得られたポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）１０ｍｇとポリビニルブチラール樹脂（平均重合度１７００、ブチラール化度７４モル％、水酸基の含有率２０モル％、アセチル化度６モル％）０．３ｍｇとをトルエン０．６ｍＬに溶解し、上記電解質層上に乾燥後の厚さが０．５μｍとなるようにコントロールコーターで塗布した後、乾燥して合わせガラス用中間膜を得た。

（実施例２〜５）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例６）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度２３００、ブチラール化度６５モル％、水酸基の含有率２２モル％、アセチル化度１３モル％）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例７〜１０）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例６と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例１１）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度１７２０、ブチラール化度５７モル％、水酸基の含有率３０モル％、アセチル化度１３モル％）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例１２〜１６）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例１７）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度３１０、ブチラール化度６３モル％、水酸基の含有率３６モル％、アセチル化度３モル％）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例１８〜２２）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１７と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例２３）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度８００、ブチラール化度４７モル％、水酸基の含有率５０モル％、アセチル化度３モル％）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（実施例２４〜２７）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例２３と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例１）
ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）１０ｍｇをトルエン０．６ｍＬに溶解し、上記電解質層上に乾燥後の厚さが０．５μｍとなるようにコントロールコーターで塗布した後、乾燥した以外は実施例１と同様の方法により合わせガラス用中間膜を得た。

（比較例２）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例３）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例６と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例４）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１１と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例５）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例１７と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例６）
合わせガラス用中間膜の製造において、表１の組成に変更したこと以外は実施例２３と同様にして、合わせガラス用中間膜を作製した。

（比較例７）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度８００、ブチラール化度７６モル％、水酸基の含有率１８モル％、アセチル化度６モル％）に変更し、表１の組成に変更したこと以外は実施例１と同様にしたが、エレクトロクロミック層を形成することができなかった。

（比較例８）
合わせガラス用中間膜の製造において、実施例１のポリビニルブチラール樹脂をポリビニルブチラール樹脂（平均重合度８００、ブチラール化度４２モル％、水酸基の含有率５２モル％、アセチル化度６モル％）に変更し、表１の組成に変更したこと以外は実施例１と同様にしたが、エレクトロクロミック層を形成することができなかった。

実施例１〜２７及び比較例１〜８で得られた合わせガラス用中間膜を、ＩＴＯ透明導電膜が形成された、２枚のガラス（表面抵抗１００Ω／□、縦５ｃｍ、横５ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）の間に挟み込み、１３０℃の真空ラミネーターで圧着して合わせガラスとした。なお、合わせガラス用中間膜とＩＴＯ透明導電膜とが接触するように積層し、合わせガラスを得た。

（評価）
実施例及び比較例で得た合わせガラス用中間膜、合わせガラスについて、以下の方法で評価を行った。結果を表１に示した。

（１）エレクトロクロミック性の評価
得られた合わせガラスの電極に＋２Ｖの直流電圧を印加してから、青色の合わせガラスが目視にて無色に変化するまでの時間を測定した。直流電圧を印加してから、青色の合わせガラスが目視にて無色に変化するまでの時間が１時間以下の場合を「○」、１時間を超え２時間以下の場合を「△」、２時間を越えても合わせガラスの色が無色に変化しなかった場合を「×」と評価した。

（２）透明導電膜との接着力の評価
得られた合わせガラス用中間膜を、エレクトロクロミック層側が、ＩＴＯ透明導電膜が形成されたガラス（表面抵抗１００Ω／□）側に、電解質層側がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム側になるようにしてガラスとＰＥＴフィルムとの間に挟み込み、１３０℃の真空ラミネーターで圧着した。その後ＰＥＴフィルムのみをはがしてピール試験用のサンプル（縦２０ｍｍ、横１１０ｍｍ）を作製した。

引張試験機（島津製作所社製「オートグラフ」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ６８５４−２「はく離接着強さ試験方法」に準拠したピール試験を行い、透明導電膜と合わせガラス用中間膜のエレクトロクロミック層側との接着力を評価した。試験条件は、剥離角度を１８０度、温度を２５℃、剥離速度を２００ｍｍ／分とした。

本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、導電膜に対する密着性に優れる合わせガラス用中間膜を提供することができる。また、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。

Claims (5)

1. 電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック層とを有する合わせガラス用中間膜であって、
   前記エレクトロクロミック層は、エレクトロクロミック化合物１００重量部に対して、ポリビニルアセタール樹脂を３〜１００重量部含有するものであり、
   前記ポリビニルアセタール樹脂は、水酸基含有率が２０〜５０モル％である
   ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
2. ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂であることを特徴とする請求項１記載の合わせガラス用中間膜。
3. エレクトロクロミック化合物は、芳香族側鎖を有するポリアセチレンであることを特徴とする請求項１又は２記載の合わせガラス用中間膜。
4. 電解質層は、電解質、溶媒、及び、バインダー樹脂を含有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の合わせガラス用中間膜。
5. 請求項１、２、３又は４記載の合わせガラス用中間膜が、一対の導電膜が形成されているガラス板の間に挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。