JP2003181890A - Method and apparatus for manufacturing substrate for magnetic recording medium - Google Patents
Method and apparatus for manufacturing substrate for magnetic recording mediumInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの外部
記憶装置を初めとする各種磁気記録装置に搭載される磁
気記録媒体及びその製造方法と、それを用いた磁気記録
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium mounted in various magnetic recording devices such as an external storage device of a computer, a method of manufacturing the same, and a magnetic recording device using the magnetic recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】高度な表面精度を要求される磁気記録媒
体用の磁気ディスク基板として、従来の非磁性金属基板
(アルミニウム等)を使用した場合には、高度な精密加
工が要求され、従来の非磁性金属基板は、たとえば以下
のようにして作製される。2. Description of the Related Art When a conventional non-magnetic metal substrate (aluminum or the like) is used as a magnetic disk substrate for a magnetic recording medium which requires a high degree of surface precision, a high degree of precision processing is required. The nonmagnetic metal substrate is manufactured, for example, as follows.
【0003】最初に加熱溶融した金属材料を圧延、加熱
焼鈍した後に、規定の寸法に加工が行われたブランク材
を作製し、次に内外径の処理が行われる。さらに、表面
精度の向上のためにラッピング加工が行われた後、表面
硬度向上などの目的のためにNi-Pメッキ層を13μ
m形成し、その表面をポリッシュ加工して表面粗さがR
a=1.0nm(10Å)以下になるように研磨し、そ
してダイヤモンドスラリーを使用する最終ラッピング加
工(テクスチュアリング)を行う。その後にCSS(コ
ンタクト・スタート・ストップ)ゾーンに、たとえばバ
ンプバイトが19.0nm(190Å)であり、30μ
m平方に1個のバンプの密度になるようにレーザーゾー
ンテクスチャー加工を施し、その後精密洗浄することに
より、一般的なハードディスク用磁気ディスク基板が得
られる。First, a heat-melted metal material is rolled and heat-annealed, and then a blank material having a prescribed size is manufactured, and then the inner and outer diameters are processed. Furthermore, after lapping is performed to improve the surface accuracy, the Ni-P plating layer is 13 μm for the purpose of improving the surface hardness.
The surface roughness is R
Polish to a = 1.0 nm (10 Å) or less, and perform final lapping (texturing) using diamond slurry. After that, in the CSS (contact start / stop) zone, for example, the bump bite is 19.0 nm (190 Å) and 30μ
A general magnetic disk substrate for a hard disk is obtained by performing laser zone texture processing so that the density of one bump per m square and then performing precision cleaning.
【0004】前述のように得られた磁気ディスク基板上
に、Cr下地層50nm(500Å、CoCrTa磁性
層(Co:Cr:Ta=82:14:4)30nm(3
00Å)、およびカーボン保護層8.0nm(80Å)
を、DCスパッタ法により順次形成し、さらにスパッタ
後の表面にテープバニッシュを行う。最後に、ディップ
コートまたはスピンコート法によりフッ素系潤滑層2.
0nm(20Å)を形成し、ハードディスク用磁気記録
媒体が得られる。ただし、ディスク基板および各種の記
録媒体の作製方法および構成は、上記のものに限定され
るものではない。On the magnetic disk substrate obtained as described above, a Cr underlayer 50 nm (500 Å, CoCrTa magnetic layer (Co: Cr: Ta = 82: 14: 4) 30 nm (3
00Å), and carbon protective layer 8.0 nm (80Å)
Are sequentially formed by the DC sputtering method, and tape burnishing is further performed on the surface after the sputtering. Finally, the fluorine-based lubricating layer by dip coating or spin coating 2.
By forming 0 nm (20 Å), a magnetic recording medium for hard disk can be obtained. However, the manufacturing method and configuration of the disk substrate and various recording media are not limited to the above.
【0005】上記のような従来の磁気ディスク基板およ
び磁気記録媒体の作製方法は、近年の高記録密度化の伸
長とともにますます複雑化してきている。一方、高い性
能を維持したままで、従来以上に安価な磁気ディスク基
板および磁気記録媒体が求められている。この相反する
要求を満たす新規な磁気ディスク基板として、熱可塑性
樹脂(プラスチック)を用いた磁気ディスク基板および
磁気記録媒体が提案されている。The conventional methods for manufacturing the magnetic disk substrate and the magnetic recording medium as described above have become more and more complicated with the recent increase in recording density. On the other hand, there is a demand for a magnetic disk substrate and a magnetic recording medium that are cheaper than before while maintaining high performance. As a new magnetic disk substrate satisfying these contradictory requirements, a magnetic disk substrate and a magnetic recording medium using a thermoplastic resin (plastic) have been proposed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、高度な形状安
定性および表面精度が要求されている磁気ディスク基板
をプラスチックの射出成形により作製する場合には、金
属、ガラスあるいはセラミック基板から作製する場合と
比較して、機械的強度が低いために仕上げ研磨(ラッピ
ング、ポリッシュ、バニッシュ等)ができない。したが
って、射出成形終了時に、磁気ディスク基板として必要
なレベルの表面精度(真直度、うねり、粗さ等)を整え
る必要がある。しかしながら、樹脂成形に際しては、ス
タンパー表面を鏡面化させると、スタンパーと基板との
密着性が高くなるため、スタンパーからの離型時に基板
自体を変形させることがあり平坦度を低下させるという
問題点があった。However, when a magnetic disk substrate, which is required to have a high degree of shape stability and surface accuracy, is manufactured by injection molding of plastic, it is different from the case of manufacturing it from a metal, glass or ceramic substrate. In comparison, since the mechanical strength is low, finish polishing (lapping, polishing, vanishing, etc.) cannot be performed. Therefore, it is necessary to adjust the surface accuracy (straightness, waviness, roughness, etc.) of a level required for the magnetic disk substrate at the end of injection molding. However, in resin molding, if the surface of the stamper is made to be a mirror surface, the adhesion between the stamper and the substrate becomes high, so the substrate itself may be deformed at the time of release from the stamper, and the flatness is lowered. there were.
【0007】記録密度の向上のために基板上数十nmの
高さを磁気ヘッドが浮上移動するハードディスクのよう
に、非常に高い表面精度が要求される記録媒体において
は、低い平坦度(劣悪な表面精度)を有する基板を用い
ると、磁気ヘッドと記録媒体との間の所定の距離を維持
することができず、最悪の場合には磁気ヘッドが浮上せ
ず、実際の読み書きを行うことができないという問題を
引き起こす。In a recording medium that requires very high surface accuracy, such as a hard disk in which a magnetic head floats and moves a height of several tens of nm on a substrate to improve recording density, low flatness (poor) If a substrate having a surface accuracy) is used, a predetermined distance between the magnetic head and the recording medium cannot be maintained, and in the worst case, the magnetic head does not float and actual reading / writing cannot be performed. Causes the problem.
【0008】本発明は、係る従来の実状を鑑みてなされ
たものであり、プラスチック基板をスタンパーから離型
する際の密着性を制御することで高い平坦度を実現し、
ヘッドの浮上特性に優れた磁気記録媒体用基板および磁
気記録媒体を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such a conventional situation, and realizes high flatness by controlling the adhesiveness when releasing a plastic substrate from a stamper,
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium substrate and a magnetic recording medium having excellent head flying characteristics.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意検討した結果、金型に用いるスタ
ンパー表面の保護膜の表面粗さを、0.2nm〜2.0
nmの範囲内とすることで射出成形時のスタンパーから
の離型性を向上し、基板形状が大幅に改善され、磁気ヘ
ッドの最低浮上高さを安定して5nm以下まで低下させ
ることが出来ることを見出した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the surface roughness of the protective film on the stamper surface used in the mold is 0.2 nm to 2.0 nm.
Within the range of nm, the mold releasability from the stamper during injection molding is improved, the substrate shape is significantly improved, and the minimum flying height of the magnetic head can be stably lowered to 5 nm or less. Found.
【0010】また、保護膜の厚さとしては、0.01μ
m〜9μmの範囲内であることが好ましく、製造コスト
等を勘案すると、保護膜の厚さは、さらに0.01μm
〜5μmの範囲内であることが好ましい。The thickness of the protective film is 0.01 μm.
The thickness is preferably in the range of m to 9 μm, and when the manufacturing cost and the like are taken into consideration, the thickness of the protective film is further 0.01 μm.
It is preferably in the range of ˜5 μm.
【0011】本発明の磁気記録媒体用基板の製造方法
は、熱可塑性樹脂を成形金型内に射出して成形する磁気
記録媒体用基板の製造方法において、前記成形金型にお
ける少なくとも基板記録領域に対応する領域の成形面に
カーボンコーティングを施し、該カーボンコーティング
の層の厚さが0.01μm〜9μmの範囲内であって、
該層の表面粗さを0.2nm〜2.0nmの範囲内と
し、前記成形金型を用いて射出成形を行うことを特徴と
する。The method for producing a substrate for a magnetic recording medium of the present invention is a method for producing a substrate for a magnetic recording medium in which a thermoplastic resin is injected into a molding die for molding, in which at least the substrate recording area in the molding die is used. A carbon coating is applied to the molding surface of the corresponding region, and the thickness of the layer of the carbon coating is within a range of 0.01 μm to 9 μm,
The surface roughness of the layer is in the range of 0.2 nm to 2.0 nm, and injection molding is performed using the molding die.
【0012】また、本発明の磁気記録媒体用基板の製造
方法は、さらに、前記カーボンコーティングを施した層
の厚さが、0.01μm〜5μmの範囲内であることを
特徴とする。The method for producing a substrate for a magnetic recording medium of the present invention is further characterized in that the thickness of the carbon-coated layer is within the range of 0.01 μm to 5 μm.
【0013】本発明の磁気記録媒体用基板の製造装置
は、熱可塑性樹脂を成形金型内に射出して成形する磁気
記録媒体用基板の製造装置において、前記成形金型にお
ける少なくとも基板記録領域に対応する領域の成形面に
カーボンコーティングが施され、該カーボンコーティン
グの層の厚さが0.01μm〜9μmの範囲内であっ
て、該層の表面粗さが0.2nm〜2.0nmの範囲内
であることを特徴とする。A magnetic recording medium substrate manufacturing apparatus according to the present invention is a magnetic recording medium substrate manufacturing apparatus in which a thermoplastic resin is injected into a molding die for molding. A carbon coating is applied to the molding surface of the corresponding region, the layer thickness of the carbon coating is in the range of 0.01 μm to 9 μm, and the surface roughness of the layer is in the range of 0.2 nm to 2.0 nm. It is characterized by being inside.
【0014】また、本発明の磁気記録媒体用基板の製造
装置は、前記カーボンコーティング層の厚さが、0.0
1μm〜5μmの範囲内であることを特徴とする。In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium substrate of the present invention, the carbon coating layer has a thickness of 0.0.
It is characterized in that it is in the range of 1 μm to 5 μm.
【0015】さらに、本発明の磁気記録媒体用基板の製
造装置は、前記成形面をスタンパーに形成したことを特
徴とする。Further, the magnetic recording medium substrate manufacturing apparatus of the present invention is characterized in that the molding surface is formed as a stamper.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】本発明のスタンパー表面保護膜の
成膜装置としてはDCスパッタ装置、もしくはプラズマ
CVD処理装置を用いることができ、この装置を用いて
スタンパーへのカーボン保護膜の成膜を行いつつ、保護
膜厚さ、成膜条件により表面粗さをコントロールするこ
とができ、その時の表面粗さ〔Ra〕は0.2nm〜
2.0nmの範囲、好ましくは0.2nm〜1.0nm
とすることができる。また、保護膜の表面粗さを制御す
る方法として、上記以外にも、保護膜の下に密着層とし
て、例えば、Ti,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,C
u,Zn,Mo等をDCスパッタ法により成膜すること
で、必要な表面粗さの制御をより簡便にすることが可能
となる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a film forming apparatus for a stamper surface protective film of the present invention, a DC sputtering apparatus or a plasma CVD processing apparatus can be used, and this apparatus is used to form a carbon protective film on a stamper. While performing, the surface roughness can be controlled by the protective film thickness and the film forming conditions, and the surface roughness [Ra] at that time is 0.2 nm to
Range of 2.0 nm, preferably 0.2 nm to 1.0 nm
Can be As a method of controlling the surface roughness of the protective film, other than the above, as an adhesion layer below the protective film, for example, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, C is used.
By forming a film of u, Zn, Mo, etc. by the DC sputtering method, it becomes possible to more easily control the required surface roughness.
【0017】本明細書中で、「平坦度」とはディスク基
板全面における基板表面垂直方向の最大変位量である。In the present specification, the "flatness" is the maximum displacement of the entire surface of the disk substrate in the direction perpendicular to the substrate surface.
【0018】また「磁気ヘッド最低浮上高さ」とは、あ
る回転数以上で回転させた基板表面に浮上している磁気
ヘッドにおいて、基板回転数を徐々に減速させること
で、磁気ヘッド(一般にピエゾヘッドが用いられる)が
基板に接触した時の電気信号が1V以上に到達した時
の、基板回転数(速度)から算出される高さのことであ
り、その高さが低いほど良質な基板であることを意味す
る。Further, the "minimum flying height of the magnetic head" means that the magnetic head (generally, a piezo actuator) is a magnetic head which is levitated on the surface of a substrate which is rotated at a certain rotational speed or more, by gradually reducing the rotational speed of the substrate. (The head is used) is the height calculated from the rotation speed (speed) of the substrate when the electrical signal when it contacts the substrate reaches 1 V or higher. The lower the height, the better the substrate. Means there is.
【0019】本発明のスタンパーを用いて製造された磁
気ディスク基板は、10μm以下の平坦度及び5nm以
下の磁気ヘッド最低浮上高さを有する。A magnetic disk substrate manufactured using the stamper of the present invention has a flatness of 10 μm or less and a minimum flying height of the magnetic head of 5 nm or less.
【0020】本発明において作製される磁気ディスク基
板は、中心部に円形の孔を有する円板の形状を有するこ
とができる。中心部円形孔は、該磁気ディスク基板を用
いた磁気記録媒体を磁気記録装置中に設置する際に、ス
ピンドルモータを取り付けるために用いられる。ここ
で、中心部円形孔および円板の径は、磁気記録装置の設
計に依存する。The magnetic disk substrate manufactured in the present invention may have a disk shape having a circular hole in the center. The central circular hole is used for mounting a spindle motor when a magnetic recording medium using the magnetic disk substrate is set in a magnetic recording device. Here, the diameters of the central circular hole and the circular plate depend on the design of the magnetic recording device.
【0021】本発明において用いる射出成形は、当該技
術において知られている射出成形装置を用いることがで
きる。樹脂の均一性を高めるためにスクリュー式の射出
成形装置を使用することが好ましい。樹脂の溶融および
計量をスクリューを用いて行い、樹脂の射出をプランジ
ャーを用いて行うことも可能であるが、溶融、計量およ
び射出の機能を集約したインラインスクリュー式の射出
成形装置を使用することが好ましい。The injection molding used in the present invention can use an injection molding apparatus known in the art. It is preferable to use a screw type injection molding apparatus in order to improve the homogeneity of the resin. Although it is possible to use a screw to melt and measure the resin and a plunger to inject the resin, use an in-line screw injection molding machine that integrates the functions of melting, measuring, and injection. Is preferred.
【0022】本発明で用いることができるインラインス
クリュー式射出成形装置の模式的断面図を図1に示す。
このインラインスクリュー式射出成形装置は、加熱手段
14および金型に対する射出口16を具えた加熱シリン
ダ13と、該加熱シリンダ13内にあり、樹脂の溶融、
計量および射出を行うための(可動)スクリュー11
と、スクリュー11に対して樹脂を供給する供給手段1
5(ホッパなど)と、スクリュー11の計量および射出
駆動を行うためのスクリュー駆動手段12とを具える。
金型としては、分離可能な2つの部分(固定部17およ
び可動部18)からなる金型を用い、さらに金型に型締
め圧力を与え、可動部18を駆動するための駆動手段1
9を具えることが好ましいが、それに限定されるもので
はない。この金型内部に鏡面化された、あるいはパター
ンを有する保護膜が成膜されたスタンパー24,25が
セットされている。A schematic sectional view of an in-line screw type injection molding apparatus which can be used in the present invention is shown in FIG.
This in-line screw type injection molding apparatus has a heating cylinder 13 having a heating means 14 and an injection port 16 for a mold, and a resin inside the heating cylinder 13 for melting a resin,
(Movable) screw 11 for metering and injection
And a supply means 1 for supplying resin to the screw 11.
5 (such as a hopper) and screw driving means 12 for driving the screw 11 for weighing and injection.
As the mold, a mold composed of two separable parts (a fixed part 17 and a movable part 18) is used, and a driving means 1 for driving the movable part 18 by further applying a mold clamping pressure to the mold.
It is preferable to include 9 but is not limited thereto. Inside the mold, stampers 24 and 25 that are mirror-finished or have a protective film having a pattern formed thereon are set.
【0023】なお、このスタンパーは、成形基板の用途
等に応じて、固定側若しくは可動側のいずれか一方に設
けてもよい。また、記録領域成形面に対応する金型面に
直接パターンを有する保護膜を設けてもよい。The stamper may be provided on either the fixed side or the movable side depending on the application of the molded substrate. Further, a protective film having a pattern may be directly provided on the mold surface corresponding to the recording area molding surface.
【0024】本発明において用いることができる金型の
模式的断面図を図2に示す。図2は、樹脂充填時の金型
を示す。金型は、互いに対向する可動側金型18と固定
側金型17とからなり、可動側金型18及び固定側金型
17の樹脂成形を行う面にはそれぞれ可動側スタンパー
25及び固定側スタンパー26とが設けられている。A schematic sectional view of a mold that can be used in the present invention is shown in FIG. FIG. 2 shows a mold at the time of resin filling. The mold is composed of a movable mold 18 and a fixed mold 17 which face each other, and the movable stamper 25 and the fixed stamper are respectively formed on the surfaces of the movable mold 18 and the fixed mold 17 on which resin is molded. And 26 are provided.
【0025】また、金型は、作製される基板形状に対応
する空間(以後、基板キャビティ22と称する)と、基
板キャビティと射出口16を連絡する空間(以後、スプ
ルー部21と称する)とを有する。さらに、基板キャビ
ティ22とスプルー部21との間に、ゲート23が配置
され、基板キャビティ22に充填された樹脂とスプルー
部21の樹脂とを切り離す(ゲートカットする)ための
ゲートカット手段24が設けられている。The mold has a space corresponding to the shape of the substrate to be manufactured (hereinafter referred to as the substrate cavity 22) and a space connecting the substrate cavity and the injection port 16 (hereinafter referred to as the sprue portion 21). Have. Further, a gate 23 is arranged between the substrate cavity 22 and the sprue portion 21, and a gate cutting means 24 for separating (gate cutting) the resin with which the substrate cavity 22 is filled and the resin of the sprue portion 21 is provided. Has been.
【0026】本発明の磁気ディスク基板を作製する際に
は、スクリュー11を有する射出装置を用いて溶融およ
び計量された樹脂を、射出口16を通して金型へと射出
して、スプルー部21および基板キャビティ22に樹脂
を充填する。その後に、充填された溶融樹脂を金型内で
冷却硬化させる。冷却硬化中に、ゲートカット手段であ
るパンチ24を前進させてスプルー部21と基板キャビ
ティ部22の樹脂を切り離し、さらに冷却硬化させて、
磁気ディスク基板を得ることができる。When manufacturing the magnetic disk substrate of the present invention, the resin melted and measured by using the injection device having the screw 11 is injected into the mold through the injection port 16, and the sprue portion 21 and the substrate are injected. The cavity 22 is filled with resin. After that, the filled molten resin is cooled and hardened in the mold. During cooling and curing, the punch 24, which is a gate cutting means, is moved forward to separate the resin in the sprue portion 21 and the substrate cavity portion 22, and further cooled and cured,
A magnetic disk substrate can be obtained.
【0027】本発明の磁気ディスク基板は、金型内部に
適切な膜厚、適切な表面粗さに制御されたカーボン保護
膜が成膜されているスタンパーがセットされている金型
を用いて射出成形されたものである。The magnetic disk substrate of the present invention is ejected by using a die in which a stamper having a carbon protective film having an appropriate film thickness and an appropriate surface roughness is formed inside the die is set. It is molded.
【0028】射出成形において平坦度が向上しない原因
の1つとして、スタンパーから基板を剥がす時に物理的
な力を加えて離型させる時の剥がれ易さにより変形度合
いが異なる事が挙げられる。剥がれ難い時には基板はよ
り変形し、剥がれやすい時には安定した形状が得られ
る。本発明者らは、スタンパー表面の保護膜を、より潤
滑性の高いカーボンを用いることで離型性を向上させ、
形状を安定化させることを、また、スタンパー表面の保
護膜粗さについても必要以上に鏡面化させない方が、よ
り離型性が高められることも見出した。そうすること
で、離型性が向上し、更に離型バラツキが低減すること
で基板全体の変形を抑制することが可能となる。One of the reasons why the flatness is not improved in injection molding is that the degree of deformation is different depending on the ease of peeling when a substrate is peeled from a stamper by applying a physical force. When it is difficult to peel off, the substrate is more deformed, and when it is easy to peel off, a stable shape is obtained. The present inventors have improved the releasability by using carbon having higher lubricity for the protective film on the stamper surface,
It was also found that the mold releasability can be further improved by stabilizing the shape and not making the surface roughness of the protective film on the stamper surface more than necessary. By doing so, the releasability is improved, and the variation in the releasability is reduced, so that the deformation of the entire substrate can be suppressed.
【0029】本発明の磁気ディスク基板を作製する際の
スタンパー表面の保護膜厚さは、0.01μmから5μ
mの範囲とし、その保護膜の表面粗さは、0.2nm〜
2.0nmとする。この条件を満たしたスタンパーを用
いて成形を実施する場合、基板離型時の変形を小さく抑
えることが可能となり、基板の平坦度を大幅に向上させ
ることが可能となった。The protective film thickness of the stamper surface when the magnetic disk substrate of the present invention is manufactured is from 0.01 μm to 5 μm.
The surface roughness of the protective film is from 0.2 nm to
It is set to 2.0 nm. When a stamper satisfying this condition is used for molding, it is possible to suppress the deformation when the substrate is released from the mold, and it is possible to significantly improve the flatness of the substrate.
【0030】上記のような、スタンパーを用いて作製さ
れた磁気ディスク基板は、10μm以下、より好ましく
は5μm以下の平坦度を有する。また表面粗さについて
は0.2から2.0nmのRaを有する。The magnetic disk substrate manufactured by using the stamper as described above has a flatness of 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Further, the surface roughness has Ra of 0.2 to 2.0 nm.
【0031】さらに、上記のように作製された磁気ディ
スク基板に対してアニール処理を施すことにより、基板
内に残留する応力を緩和することが好ましい。アニール
処理は、(使用する材料のTg−70)℃以上(使用す
る材料のTg−15)℃以下の温度(Tgは、樹脂のガ
ラス転移温度を意味する)において、0.5時間から4
8時間にわたって行うことが好ましい。樹脂の劣化およ
び基板の局所的形状変化をもたらさないことを条件とし
て、アニール処理温度は可能な限り高いことが好まし
い。アニール処理は、大気雰囲気下あるいは低酸素雰囲
気で行うことができる。また、アニール処理中に基板自
重による撓みが発生することを防止するために、基板を
縦置きしてアニール処理を行うことが好ましい。十分な
アニールを行うことにより残留応力を減少させて、残留
応力の経時的な解放による形状変化を最小限とし、かつ
局所的な変形の発生を防止することができる。Further, it is preferable that the magnetic disk substrate manufactured as described above is annealed to relax the stress remaining in the substrate. The annealing treatment is performed at a temperature of (Tg−70) ° C. or higher of the material used (Tg−15) ° C. or lower (Tg means the glass transition temperature of the resin) for 0.5 hours to 4 hours.
It is preferably carried out for 8 hours. The annealing temperature is preferably as high as possible provided that it does not cause deterioration of the resin and local shape change of the substrate. The annealing treatment can be performed in an air atmosphere or a low oxygen atmosphere. Further, in order to prevent the occurrence of bending due to the weight of the substrate during the annealing process, it is preferable that the substrate is vertically placed and the annealing process is performed. It is possible to reduce the residual stress by performing sufficient annealing, minimize the shape change due to the release of the residual stress with time, and prevent the occurrence of local deformation.
【0032】本発明において用いられる熱可塑性樹脂
は、一般的に光磁気ディスク基板に使用されているポリ
カーボネート樹脂およびポリメチルメタクリレート樹脂
に加えて、ポリオレフィン系樹脂を含む。特に、高耐熱
性でありかつ低吸湿性である剛直構造のポリオレフィン
系樹脂、たとえばノルボルネン系ポリシクロオレフィン
樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂構造に由来す
るTgは、135℃〜190℃の範囲内であり、この範
囲内でTgが高いほど好ましい。The thermoplastic resin used in the present invention contains a polyolefin resin in addition to the polycarbonate resin and polymethylmethacrylate resin generally used for magneto-optical disk substrates. In particular, it is preferable to use a rigid structure polyolefin-based resin having high heat resistance and low hygroscopicity, for example, norbornene-based polycycloolefin resin. The Tg derived from the resin structure is in the range of 135 ° C to 190 ° C, and the higher the Tg within this range, the more preferable.
【0033】上記のように作製した磁気ディスク基板を
用いて磁気記録媒体を作製する際には、少なくとも該基
板上に磁気記録層を積層する。また、必要に応じて下地
層、保護層、潤滑層等を設けることができる。さらに、
用途に応じて、前述のような層を磁気ディスク基板の片
面または両面上に設けて、それぞれ片面および両面型磁
気記録媒体を得ることができる。When a magnetic recording medium is manufactured using the magnetic disk substrate manufactured as described above, at least a magnetic recording layer is laminated on the substrate. Further, a base layer, a protective layer, a lubricating layer and the like can be provided as needed. further,
Depending on the application, the layers as described above can be provided on one side or both sides of the magnetic disk substrate to obtain a single-sided and double-sided magnetic recording medium, respectively.
【0034】ハードディスク装置などに従来一般に用い
られている水平記録方式の磁気記録媒体を作製する場合
には、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に
設けることが好ましい。磁気記録層の性能向上などを目
的として、下地層と磁気記録層との間に、中間層を設け
てもよい。また、記録密度向上の可能性等によって近年
注目を集めている垂直記録方式の磁気記録媒体を作製す
る場合には、下地層、軟磁性裏打ち層、磁性記録層、保
護層、潤滑層をこの順に設けることが好ましい。この場
合にも、記録特性などの向上を目的として、下地層と軟
磁性裏打ち層との間、及び/又は軟磁性裏打ち層と磁性
記録層との間に、中問層を設けてもよい。When a magnetic recording medium of a horizontal recording system which has been generally used in a hard disk drive or the like is manufactured, it is preferable to provide an underlayer, a magnetic recording layer, a protective layer and a lubricating layer in this order. An intermediate layer may be provided between the underlayer and the magnetic recording layer for the purpose of improving the performance of the magnetic recording layer. Further, when manufacturing a perpendicular recording type magnetic recording medium, which has been attracting attention in recent years due to the possibility of improving the recording density, etc., an underlayer, a soft magnetic backing layer, a magnetic recording layer, a protective layer, and a lubricating layer are arranged in this order. It is preferable to provide. Also in this case, an intermediate layer may be provided between the underlayer and the soft magnetic backing layer and / or between the soft magnetic backing layer and the magnetic recording layer for the purpose of improving recording characteristics and the like.
【0035】上記の各層は、当該技術において知られて
いる任意の材料から作製することができる。たとえば下
地層はCrまたはCrを主とする合金の非磁性金属材料
から作製することができ、磁性記録層はCoおよびCr
を主とする合金のような磁性材料から作製することがで
き、および保護層は炭素(特にダイヤモンド様炭素)等
から作製することができる。さらに潤滑層は、含フッ素
ポリエーテルのような液体潤滑剤から作製することがで
き、軟磁性裏打ち層は、非品質Co合金、NiFe合
金、あるいはセンダスト(FeSiAl)合金などを用
いて作製することができる。中間層として、Tiまたは
TiCr合金などの材料を用いてもよい。Each of the above layers can be made from any material known in the art. For example, the underlayer can be made of a non-magnetic metal material of Cr or an alloy mainly containing Cr, and the magnetic recording layer can be made of Co and Cr.
Can be made of a magnetic material such as an alloy mainly containing, and the protective layer can be made of carbon (especially diamond-like carbon) or the like. Further, the lubricating layer can be made of a liquid lubricant such as fluorinated polyether, and the soft magnetic backing layer can be made of a non-quality Co alloy, NiFe alloy, or sendust (FeSiAl) alloy. it can. A material such as Ti or TiCr alloy may be used as the intermediate layer.
【0036】潤滑層を除く上記の各層は、スパッタ法、
蒸着法、CVD法などの従来知られている方法によって
磁気ディスク基板上に積層することができる。特に、ス
パッタ法を用いることが好ましい。また、潤滑層は、デ
ィップコート、スピンコート、吹付などの方法により作
成することができる。Each of the above layers except the lubricating layer is formed by the sputtering method,
It can be laminated on the magnetic disk substrate by a conventionally known method such as a vapor deposition method or a CVD method. In particular, it is preferable to use the sputtering method. Moreover, the lubricating layer can be formed by a method such as dip coating, spin coating, or spraying.
【0037】高耐熱性熱可塑性樹脂を用い、本発明の条
件を満たして射出成形することにより、基板の平坦度を
大幅に向上し、これにより磁気ヘッド浮上性が向上した
磁気ディスク基板を作製することができる。また、該磁
気ディスク基板を用いることにより、ヘッドの浮上特性
に優れた磁気記録媒体を提供することが可能となる。By using a high heat resistant thermoplastic resin and performing injection molding satisfying the conditions of the present invention, the flatness of the substrate is significantly improved, and thereby a magnetic disk substrate with improved magnetic head flying property is manufactured. be able to. Further, by using the magnetic disk substrate, it is possible to provide a magnetic recording medium having excellent head flying characteristics.
【0038】[実施例]以下に、本発明を適用した実施例
を、図面を参照しながら詳細に説明する。[Embodiment] An embodiment to which the present invention is applied will be described below in detail with reference to the drawings.
【0039】(実施例1)市販されている最大射出成形
圧力70tの射出成形装置に、スタンパーを固定した金
型を装着した。スタンパー表面には、DLC(ダイアモ
ンド・ライク・カーボン)が保護膜として成膜されてお
り、この時の膜厚は0.5μm、AFM(原子間力顕微
鏡)を用いて測定した表面粗さ〔Ra〕が0.5nmの
状態のものを用いた。但し、この場合、表面粗さを一定
にするためカーボン保護膜の下地にCr層を3μm設け
た。樹脂としてはノルボルネン系ポリオレフィン樹脂
(Tg=138℃)を用いて、樹脂温度320℃、射出
速度120mm/s、型締め圧力120kg/cm
2(約11.8MPa)、金型温度(固定側/可動側)
110℃/110℃、ゲートカットのタイミングが樹脂
充填終了後0.2秒という条件にて射出成形を行った。
その後1時間以内に、大気雰囲気下で、基板を縦置きに
保持した状態で、10時間にわたって90℃においてア
ニールを行い、直径25mmの中心部円形孔を有し、直
径95mm、厚さ1.27mmの寸法を有する円盤状の
ディスク基板を得た。Example 1 A mold having a fixed stamper was mounted on a commercially available injection molding apparatus having a maximum injection molding pressure of 70 t. DLC (diamond-like carbon) is formed as a protective film on the stamper surface, and the film thickness at this time is 0.5 μm, and the surface roughness [Ra] measured by an AFM (atomic force microscope) is used. ] Of 0.5 nm was used. However, in this case, in order to keep the surface roughness constant, a Cr layer having a thickness of 3 μm was provided under the carbon protective film. A norbornene-based polyolefin resin (Tg = 138 ° C.) is used as the resin, the resin temperature is 320 ° C., the injection speed is 120 mm / s, and the mold clamping pressure is 120 kg / cm.
2 (about 11.8 MPa), mold temperature (fixed side / movable side)
Injection molding was performed under the conditions of 110 ° C./110° C. and a gate cut timing of 0.2 seconds after completion of resin filling.
Within one hour, annealing is performed at 90 ° C. for 10 hours in a state where the substrate is held vertically in an air atmosphere, and a central circular hole having a diameter of 25 mm is formed, a diameter of 95 mm, and a thickness of 1.27 mm. A disk-shaped disk substrate having the dimensions of was obtained.
【0040】(実施例2)カーボン保護膜の厚さを0.
01μmとした以外は、実施例1と同様にしてディスク
基板を得た。(Example 2) The thickness of the carbon protective film was set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 01 μm.
【0041】(実施例3)カーボン保護膜の厚さを0.
05μmとした以外は、実施例1と同様にしてディスク
基板を得た。(Example 3) The thickness of the carbon protective film was set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 05 μm.
【0042】(実施例4)カーボン保護膜の厚さを0.
1μmとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基
板を得た。(Embodiment 4) The thickness of the carbon protective film is set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 1 μm.
【0043】(実施例5)カーボン保護膜の厚さを1μ
mとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基板を
得た。(Embodiment 5) The thickness of the carbon protective film is set to 1 μm.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was set.
【0044】(実施例6)カーボン保護膜の厚さを3μ
mとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基板を
得た。(Embodiment 6) The thickness of the carbon protective film is 3 μm.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was set.
【0045】(実施例7)カーボン保護膜の厚さを5μ
mとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基板を
得た。(Embodiment 7) The thickness of the carbon protective film is 5 μm.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was set.
【0046】(実施例8)カーボン保護膜の厚さを7μ
mとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基板を
得た。(Embodiment 8) The thickness of the carbon protective film is set to 7 μm.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was set.
【0047】(実施例9)カーボン保護膜の厚さを9μ
mとした以外は、実施例1と同様にしてディスク基板を
得た。(Embodiment 9) The thickness of the carbon protective film is set to 9 μm.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was set.
【0048】(比較例1)カーボン保護膜の厚さを0.
001μmとした以外は、実施例1と同様にしてディス
ク基板を得た。(Comparative Example 1) The thickness of the carbon protective film was set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 001 μm.
【0049】(比較例2)カーボン保護膜の厚さを0.
003μmとした以外は、実施例1と同様にしてディス
ク基板を得た。(Comparative Example 2) The thickness of the carbon protective film was set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 003 μm.
【0050】(比較例3)カーボン保護膜の厚さを0.
005μmとした以外は、実施例1と同様にしてディス
ク基板を得た。(Comparative Example 3) The thickness of the carbon protective film was set to 0.
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 005 μm.
【0051】(実施例10)市販されている最大射出成
形圧力70tの射出成形装置に、スタンパーを固定した
金型を装着した。スタンパー表面には、DLC(ダイア
モンド・ライク・カーボン)が保護膜として成膜されて
おり、この時の膜厚は5μm,AFM(原子間力顕微
鏡)を用いて測定した表面粗さ〔Ra〕が0.5nmの
状態のものを用いた。樹脂としてはノルボルネン系ポリ
オレフィン樹脂(Tg=138℃)を用いて、樹脂温度
320℃、射出速度120mm/s、型締め圧力120
kg/cm2(約11.8MPa)、金型温度(固定側
/可動側)110℃/110℃、ゲートカットのタイミ
ングが樹脂充填終了後0.2秒という条件にて射出成形
を行った。その後1時間以内に、大気雰囲気下で、基板
を縦置きに保持した状態で、10時間にわたって90℃
においてアニールを行い、直径25mmの中心部円形孔
を有し、直径95mm、厚さ1.27mmの寸法を有す
る円盤状のディスク基板を得た。Example 10 A mold having a fixed stamper was mounted on a commercially available injection molding apparatus having a maximum injection molding pressure of 70 t. DLC (diamond like carbon) is formed as a protective film on the stamper surface, and the film thickness at this time is 5 μm, and the surface roughness [Ra] measured using an AFM (atomic force microscope) is The one in the state of 0.5 nm was used. A norbornene-based polyolefin resin (Tg = 138 ° C.) is used as the resin, the resin temperature is 320 ° C., the injection speed is 120 mm / s, and the mold clamping pressure is 120.
Injection molding was carried out under the conditions of kg / cm 2 (about 11.8 MPa), mold temperature (fixed side / movable side) 110 ° C./110° C., and gate cutting timing 0.2 seconds after completion of resin filling. Within 1 hour, 90 ° C for 10 hours with the substrate held vertically in the atmosphere.
Annealing was performed to obtain a disk-shaped disk substrate having a central circular hole with a diameter of 25 mm, a diameter of 95 mm, and a thickness of 1.27 mm.
【0052】(実施例11)カーボン保護膜の表面粗さ
を0.2nmとした以外は、実施例10と同様にしてデ
ィスク基板を得た。(Example 11) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 0.2 nm.
【0053】(実施例12)カーボン保護膜の表面粗さ
を0.8nmとした以外は、実施例10と同様にしてデ
ィスク基板を得た。(Example 12) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 0.8 nm.
【0054】(実施例13)カーボン保護膜の表面粗さ
を1nmとした以外は、実施例10と同様にしてディス
ク基板を得た。(Example 13) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 1 nm.
【0055】(実施例14)カーボン保護膜の表面粗さ
を1.5nmとした以外は、実施例10と同様にしてデ
ィスク基板を得た。(Example 14) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 1.5 nm.
【0056】(実施例15)カーボン保護膜の表面粗さ
を2nmとした以外は、実施例10と同様にしてディス
ク基板を得た。(Example 15) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 2 nm.
【0057】(比較例4)カーボン保護膜の表面粗さを
0.1nmとした以外は、実施例10と同様にしてディ
スク基板を得た。Comparative Example 4 The surface roughness of the carbon protective film was
A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the thickness was 0.1 nm.
【0058】(比較例5)カーボン保護膜の表面粗さを
3nmとした以外は、実施例10と同様にしてディスク
基板を得た。Comparative Example 5 A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 3 nm.
【0059】(比較例6)カーボン保護膜の表面粗さを
5nmとした以外は、実施例10と同様にしてディスク
基板を得た。(Comparative Example 6) A disk substrate was obtained in the same manner as in Example 10 except that the surface roughness of the carbon protective film was 5 nm.
【0060】(評価方法)基板表面の平坦度〔Flat
ness〕についてはNidek製FlatnessT
esterFT−12にて測定し変位量を導出した。一
条件につき5枚を測定し、平均値をその時の平坦度とし
た。表面粗さ〔Ra〕に関しては原子間力顕微鏡〔AM
F〕にて測定しRa(中心線平均粗さ)を導出した。表面
粗さに関しては、1つの基板面につき90度おきに4カ所
の測定を行い、その平均値をその基板面の粗さとした。(Evaluation method) Flatness of the substrate surface [Flat
Ness] for Flatness T made by Nidec
The amount of displacement was derived by measuring with esterFT-12. Five sheets were measured for each condition, and the average value was defined as the flatness at that time. Atomic force microscope [AM
F] to measure Ra (center line average roughness). Regarding the surface roughness, one substrate surface was measured at four 90 ° intervals, and the average value was taken as the roughness of the substrate surface.
【0061】(評価結果)スタンパー保護膜厚さと、磁
気ヘッド浮上性(Take off Height)、お
よび平坦度の関係を図3に、またスタンパー保護膜表面
粗さと、磁気ヘッド浮上性(Take off Heig
ht)、および平坦度の関係を図4に示す。(Evaluation Results) FIG. 3 shows the relationship between the stamper protective film thickness, the magnetic head flying property (Take off Height), and the flatness, and the stamper protective film surface roughness and the magnetic head flying property (Take off Heig).
FIG. 4 shows the relationship between ht) and flatness.
【0062】図3から明らかなように、スタンパー保護
膜厚さが厚いほど磁気ヘッド浮上特性は良好となり、平
坦度も向上した。As is clear from FIG. 3, the thicker the stamper protective film, the better the flying characteristics of the magnetic head and the improved flatness.
【0063】また図4から明らかなように、スタンパー
保護膜表面粗さが0.2nmから2nmの範囲では磁気
ヘッド浮上特性と平坦度は良好な結果を示した。Further, as is clear from FIG. 4, when the surface roughness of the stamper protective film was in the range of 0.2 nm to 2 nm, the magnetic head flying characteristics and flatness were good.
【0064】基板の平坦度、および表面粗さは、ヘッド
の浮上特性に大きく関わるものであることがよく知られ
ており、本発明によりヘッドの浮上特性に優れた磁気デ
ィスク基板あるいは該基板を用いた磁気記録媒体の作製
が可能となる。It is well known that the flatness and surface roughness of the substrate have a great influence on the flying characteristics of the head. According to the present invention, a magnetic disk substrate excellent in the flying characteristics of the head or the substrate is used. It is possible to manufacture the conventional magnetic recording medium.
【0065】[0065]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るディスク基板は、カーボン保護膜が成膜されたス
タンパーを用いる射出成形により作製され、該カーボン
保護膜厚さを0.01μm以上、また表面粗さは0.2
nmから2.0nmの範囲とすることで、基板の平坦度
を10μm以下とし、磁気ヘッド浮上特性も5nm以下
とすることができる。したがって、本発明により、ヘッ
ドの浮上特性に優れた磁気ディスク基板および該基板を
用いた磁気記録媒体の作製が可能となる。As is apparent from the above description, the disk substrate according to the present invention is manufactured by injection molding using a stamper having a carbon protective film formed thereon, and the carbon protective film thickness is 0.01 μm or more. , And the surface roughness is 0.2
By setting the thickness in the range of nm to 2.0 nm, the flatness of the substrate can be set to 10 μm or less and the magnetic head flying characteristic can be set to 5 nm or less. Therefore, according to the present invention, it becomes possible to manufacture a magnetic disk substrate having excellent head flying characteristics and a magnetic recording medium using the substrate.
【0066】また、本発明の方法により、形状特性に優
れたプラスチック製磁気ディスク基板を大量かつ安価に
生産することが可能となり、ひいてはプラスチック製磁
気ディスク基板を用いた磁気記録媒体および磁気記録再
生装置を大量かつ安価に製造することを可能にする。Further, according to the method of the present invention, it becomes possible to mass-produce a plastic magnetic disk substrate excellent in shape characteristics at a low cost, and thus a magnetic recording medium and a magnetic recording / reproducing apparatus using the plastic magnetic disk substrate. Makes it possible to manufacture in large quantities and at low cost.
【0067】上述したように、本発明によればスタンパ
ー表面にカーボンを成膜し、膜厚、表面粗さを制御する
ことで、成形後基板および、アニール後の基板形状を制
御することができ、磁気ヘッドに対する浮上性を従来の
アルミ基板並みに安定化させることが出来る。As described above, according to the present invention, by forming a carbon film on the stamper surface and controlling the film thickness and the surface roughness, the shape of the molded substrate and the shape of the substrate after annealing can be controlled. It is possible to stabilize the levitation of the magnetic head to the same level as conventional aluminum substrates.
【図1】本発明の磁気ディスク基板の作製に用いること
ができる射出成形装置の一例を示す概念的断面図であ
る。FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an injection molding apparatus that can be used for producing a magnetic disk substrate of the present invention.
【図2】本発明の磁気ディスク基板の作製に用いること
ができる金型の一例を示す概念的断面図である。FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view showing an example of a mold that can be used for producing the magnetic disk substrate of the present invention.
【図3】各実施例および比較例において作製された磁気
ディスク基板の浮上特性とカーボン保護膜厚さとの関係
及び平坦度とカーボン保護膜厚さとの関係を示すグラフ
である。FIG. 3 is a graph showing the relationship between the levitation characteristics and the carbon protective film thickness and the relationship between the flatness and the carbon protective film thickness of the magnetic disk substrates manufactured in each example and comparative example.
【図4】各実施例および比較例により作製された磁気デ
ィスク基板の浮上特性とカーボン保護膜表面粗さとの関
係及び平坦度とカーボン保護膜表面粗さの関係を示すグ
ラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the levitation characteristics and the surface roughness of the carbon protective film and the relationship between the flatness and the surface roughness of the carbon protective film of the magnetic disk substrates manufactured in the respective examples and comparative examples.
11 スクリュー 12 スクリュー駆動手段 13 加熱シリンダ 14 加熱手段 15 供給手段 16 射出口 17 金型の固定部 18 金型の可動部 19 可動部駆動手段 21 スプルー部 22 基板キャビティ 23 ゲート 24 パンチ 25 可動部スタンパー 26 固定部スタンパー 11 screw 12 Screw drive means 13 Heating cylinder 14 Heating means 15 Supplying means 16 Exit 17 Mold fixing part 18 Movable part of mold 19 Movable part driving means 21 Sprue 22 Substrate cavity 23 gates 24 punch 25 Moving part stamper 26 Fixed part stamper
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 克紀 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 関口 功 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 Fターム(参考) 4F202 AF01 AG19 AH38 AJ01 AJ09 AJ11 AR12 AR13 CA11 CB01 CK03 CK11 5D006 CB01 DA03 FA00 5D112 AA02 BA01 BA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Katsunori Suzuki 1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Within Fuji Electric Co., Ltd. (72) Inventor Isao Sekiguchi 1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Within Fuji Electric Co., Ltd. F-term (reference) 4F202 AF01 AG19 AH38 AJ01 AJ09 AJ11 AR12 AR13 CA11 CB01 CK03 CK11 5D006 CB01 DA03 FA00 5D112 AA02 BA01 BA10
Claims (10)
形する磁気記録媒体用基板の製造方法において、 前記成形金型における少なくとも基板記録領域に対応す
る領域の成形面にカーボンコーティングを施し、該カー
ボンコーティングの層の厚さが0.01μm〜9μmの
範囲内であって、該層の表面粗さを0.2nm〜2.0
nmの範囲内とし、 前記成形金型を用いて射出成形を行うことを特徴とする
磁気記録媒体用基板の製造方法。1. A method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, comprising molding a thermoplastic resin by injecting it into a molding die, wherein a carbon coating is applied to at least a molding surface of the molding die in a region corresponding to a substrate recording region. The thickness of the carbon coating layer is in the range of 0.01 μm to 9 μm, and the surface roughness of the layer is 0.2 nm to 2.0 μm.
The method for producing a substrate for a magnetic recording medium is characterized in that it is within a range of nm and injection molding is performed using the molding die.
厚さが、0.01μm〜5μmの範囲内であることを特
徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用基板の製造方
法。2. The method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the layer coated with carbon is in the range of 0.01 μm to 5 μm.
を特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体用基
板の製造方法。3. The method of manufacturing a substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the molding surface is formed on a stamper.
方法により成形されたことを特徴とする磁気記録媒体用
基板。4. A substrate for a magnetic recording medium, which is formed by the method according to any one of claims 1 to 3.
を特徴とする磁気記録媒体。5. A magnetic recording medium comprising the substrate according to claim 4.
形する磁気記録媒体用基板の製造装置において、 前記成形金型における少なくとも基板記録領域に対応す
る領域の成形面にカーボンコーティングが施され、該カ
ーボンコーティングの層の厚さが0.01μm〜9μm
の範囲内であって、該層の表面粗さが0.2nm〜2.
0nmの範囲内であることを特徴とする磁気記録媒体用
基板の製造装置。6. A magnetic recording medium substrate manufacturing apparatus for injecting and molding a thermoplastic resin into a molding die, wherein a carbon coating is applied to a molding surface of at least a region corresponding to the substrate recording region in the molding die. The carbon coating layer has a thickness of 0.01 μm to 9 μm.
And the surface roughness of the layer is 0.2 nm to 2.
An apparatus for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, which is in the range of 0 nm.
0.01μm〜5μmの範囲内であることを特徴とする
請求項6に記載の磁気記録媒体用基板の製造装置。7. The thickness of the carbon coating layer is
The apparatus for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium according to claim 6, wherein the thickness is in the range of 0.01 μm to 5 μm.
を特徴とする請求項6又は7に記載の磁気記録媒体用基
板の製造装置。8. The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium substrate according to claim 6, wherein the molding surface is formed on a stamper.
装置により成形されたことを特徴とする磁気記録媒体用
基板。9. A substrate for a magnetic recording medium, which is molded by the apparatus according to any one of claims 6 to 8.
とを特徴とする磁気記録媒体。10. A magnetic recording medium comprising the substrate according to claim 9.
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KR101530557B1 (en) * | 2008-07-22 | 2015-06-22 | 가부시키가이샤 알박 | Magnetic recording medium manufacturing device |
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- 2001-12-13 JP JP2001380402A patent/JP3807607B2/en not_active Expired - Fee Related
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