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JP2000214140A - Sensor - Google Patents

Sensor

Info

Publication number
JP2000214140A
JP2000214140A JP11011925A JP1192599A JP2000214140A JP 2000214140 A JP2000214140 A JP 2000214140A JP 11011925 A JP11011925 A JP 11011925A JP 1192599 A JP1192599 A JP 1192599A JP 2000214140 A JP2000214140 A JP 2000214140A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface acoustic
acoustic wave
piezoelectric film
film
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11011925A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Nozu
栄治 野洲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kubota Corp
Original Assignee
Kubota Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kubota Corp filed Critical Kubota Corp
Priority to JP11011925A priority Critical patent/JP2000214140A/en
Publication of JP2000214140A publication Critical patent/JP2000214140A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028Material parameters
    • G01N2291/02809Concentration of a compound, e.g. measured by a surface mass change
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028Material parameters
    • G01N2291/02845Humidity, wetness

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面弾性波発振器を利用したセンサであっ
て、高速応答性と高精度を兼ね備え、且つ、回路構成の
簡単なセンサを提供する。 【解決手段】 圧電性膜4をその圧電性膜4より表面弾
性波の伝搬速度が速い高速伝搬体3上に形成し、圧電性
膜4上に1組以上の二つのすだれ状電極トランスデュー
サ5、6を形成し、各組のすだれ状電極トランスデュー
サ5、6において一方のトランスデューサ5を増幅器8
の入力側8aに接続し、増幅器8の出力側8bを他方の
トランスデューサ6に接続して、少なくとも一つの遅延
線型の表面弾性波発振器1を構成し、且つ、各表面弾性
波発振器1の発振周波数を各別に測定する周波数測定手
段9を備えてなる。更に好ましくは、少なくとも一つの
表面弾性波発振器1において、圧電性膜4上の二つのす
だれ状電極トランスデューサ5、6間に所定の被測定量
に感応する感応膜10を形成してなる。
(57) [Problem] To provide a sensor using a surface acoustic wave oscillator, which has both high-speed response and high accuracy and has a simple circuit configuration. SOLUTION: A piezoelectric film 4 is formed on a high-speed propagator 3 having a higher propagation speed of surface acoustic waves than the piezoelectric film 4, and one or more sets of two interdigital transducers 5 are provided on the piezoelectric film 4. 6 and one transducer 5 in each set of interdigital transducers 5, 6 is connected to an amplifier 8.
And the output side 8b of the amplifier 8 is connected to the other transducer 6 to form at least one delay line type surface acoustic wave oscillator 1, and the oscillation frequency of each surface acoustic wave oscillator 1 Is separately provided. More preferably, in at least one surface acoustic wave oscillator 1, a sensitive film 10 sensitive to a predetermined measured quantity is formed between two interdigital transducers 5 and 6 on the piezoelectric film 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、圧電性膜上に二つ
のすだれ状電極トランスデューサを形成し、一方のトラ
ンスデューサを増幅器の入力側に接続し、前記増幅器の
出力側を他方のトランスデューサに接続してなる遅延線
型の表面弾性波発振器を利用した、湿度やガス等を検出
するセンサに関する。
The present invention relates to a method of forming two interdigital transducers on a piezoelectric film, one of which is connected to the input of an amplifier, and the output of which is connected to the other. The present invention relates to a sensor for detecting humidity, gas and the like using a delay line type surface acoustic wave oscillator.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、湿度やガス等を検出するセンサ
として被測定量の変化に基づいて電気容量や電気抵抗が
変化するのを検出する半導体センサ等が知られている。
また、上記した遅延線型の表面弾性波発振器を利用した
センサとしては、水晶やLiNbO3 (ニオブ酸リチウ
ム)等の圧電体基板上に一対のすだれ状電極トランスデ
ューサを形成して遅延線型の表面弾性波発振器を構成
し、この一対のすだれ状電極トランスデューサ間の圧電
体基板上にガス感応膜や湿度感応膜を形成したものが知
られている。
2. Description of the Related Art In general, as a sensor for detecting humidity, gas, and the like, a semiconductor sensor or the like for detecting a change in electric capacity or electric resistance based on a change in an amount to be measured is known.
Further, as a sensor using the above-mentioned delay line type surface acoustic wave oscillator, a pair of interdigital transducers are formed on a piezoelectric substrate such as quartz or LiNbO 3 (lithium niobate) to form a delay line type surface acoustic wave. An oscillator is known in which a gas-sensitive film or a humidity-sensitive film is formed on a piezoelectric substrate between a pair of interdigital transducers.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
電気容量や電気抵抗が変化するのを検出する方式の半導
体センサは応答速度が遅く、検出に3秒程また元の状態
に復帰するのに数10秒乃至1分程要していた。更に、
圧電体基板上に作製した表面弾性波発振器を利用したセ
ンサにおいても、発振の中心周波数が約100MHzと
低く、水晶やLiNbO3 等の圧電体の表面弾性波の伝
搬速度が約3000m/sと遅いため、応答速度が遅
く、検出に最速でも3秒程度要していた。また、当該セ
ンサにおいて、発振周波数が高いものほど高精度のセン
サが得られることから、高速応答性に加えて発振周波数
の高周波化も望まれていた。
However, the semiconductor sensor of the above-mentioned type which detects a change in the electric capacity or electric resistance has a slow response speed, and it takes about three seconds to detect the change. It took about 10 seconds to 1 minute. Furthermore,
Also in a sensor using a surface acoustic wave oscillator fabricated on a piezoelectric substrate, the center frequency of oscillation is as low as about 100 MHz, and the propagation speed of surface acoustic waves of a piezoelectric material such as quartz or LiNbO 3 is as slow as about 3000 m / s. Therefore, the response speed is slow, and the detection requires a maximum of about 3 seconds. In addition, in the sensor, a higher-accuracy sensor can be obtained as the oscillating frequency is higher. Therefore, it has been desired to increase the oscillating frequency in addition to high-speed response.

【0004】ところで、本願発明者等は、表面弾性波を
利用したセンサとして、ダイヤモンド薄膜上に圧電性膜
を形成し、その上に一対のすだれ状電極トランスデュー
サを形成し、一方を表面弾性波の発信端とし、他方を表
面弾性波の受信端とし、両トランスデューサ間に形成さ
れる遅延線の弾性的性質に及ぼす被測定量の変化の影響
を受信端に現れる周波数の変化として検出する方式のも
のを、先の特許出願(特願平8−274313号)で提
案している。この提案のセンサは、圧電性膜より表面弾
性波の伝搬速度の速いダイヤモンド薄膜上に圧電性膜を
形成しているため、表面弾性波の周波数として1GHz
以上のものが使用ができ、且つ、遅延線上の伝搬速度も
速いため、高速応答性と高精度を兼ね備えることができ
る。しかしながら、上記提案のセンサは、構成上1GH
z以上の高周波発生源が別途必要となり、センサを有効
に機能させるための外付け回路の作製が困難であった。
As a sensor utilizing surface acoustic waves, the present inventors formed a piezoelectric film on a diamond thin film, formed a pair of interdigital transducers thereon, and placed one on the surface of the surface acoustic wave. A method that detects the effect of a change in the measured quantity on the elastic property of the delay line formed between the two transducers as the transmitting end and the other as the receiving end of the surface acoustic wave as a change in the frequency that appears at the receiving end Has been proposed in an earlier patent application (Japanese Patent Application No. 8-274313). In the sensor of this proposal, since the piezoelectric film is formed on a diamond thin film having a higher propagation speed of the surface acoustic wave than the piezoelectric film, the frequency of the surface acoustic wave is 1 GHz.
Since the above can be used and the propagation speed on the delay line is high, it is possible to provide both high-speed response and high accuracy. However, the sensor proposed above has a configuration of 1 GHz.
Since a high frequency source of z or more is required separately, it is difficult to manufacture an external circuit for making the sensor function effectively.

【0005】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、表面弾性波発振器を利用したセン
サであって、高速応答性と高精度を兼ね備え、且つ、回
路構成の簡単なセンサを提供する点にある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a sensor using a surface acoustic wave oscillator, which has both high-speed response and high accuracy, and has a simple circuit configuration. The point is to provide a sensor.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明に係るセンサの第一の特徴構成は、特許請求の
範囲の欄の請求項1に記載した通り、圧電性膜をその圧
電性膜より表面弾性波の伝搬速度が速い高速伝搬体上に
形成し、前記圧電性膜上に二つのすだれ状電極トランス
デューサを形成し、一方のトランスデューサを増幅器の
入力側に接続し、前記増幅器の出力側を他方のトランス
デューサに接続して遅延線型の表面弾性波発振器を構成
し、且つ、前記表面弾性波発振器の発振周波数を測定す
る周波数測定手段を備えてなる点にある。
According to a first feature of a sensor according to the present invention for achieving this object, as described in claim 1 of the claims, the piezoelectric film is formed by a piezoelectric film. Formed on a high-speed propagator in which the propagation speed of surface acoustic waves is higher than that of the conductive film, two interdigital transducers are formed on the piezoelectric film, and one of the transducers is connected to the input side of the amplifier. The output side is connected to the other transducer to constitute a delay line type surface acoustic wave oscillator, and further comprises frequency measuring means for measuring the oscillation frequency of the surface acoustic wave oscillator.

【0007】同第二の特徴構成は、特許請求の範囲の欄
の請求項2に記載した通り、圧電性膜をその圧電性膜よ
り表面弾性波の伝搬速度が速い高速伝搬体上に形成し、
前記圧電性膜上に複数組の二つのすだれ状電極トランス
デューサを形成し、各組のすだれ状電極トランスデュー
サにおいて一方のトランスデューサを増幅器の入力側に
接続し、前記増幅器の出力側を他方のトランスデューサ
に接続して、複数の遅延線型の表面弾性波発振器を構成
し、且つ、前記各表面弾性波発振器の発振周波数を各別
に測定する周波数測定手段を備えてなる点にある。
The second characteristic configuration is that, as described in claim 2 of the claims, the piezoelectric film is formed on a high-speed propagator whose propagation speed of surface acoustic waves is higher than that of the piezoelectric film. ,
A plurality of sets of two interdigital transducers are formed on the piezoelectric film, and in each set of the interdigital transducers, one transducer is connected to the input of an amplifier, and the output of the amplifier is connected to the other transducer. Then, a plurality of delay line type surface acoustic wave oscillators are configured, and a frequency measuring means for individually measuring the oscillation frequency of each of the surface acoustic wave oscillators is provided.

【0008】同第三の特徴構成は、特許請求の範囲の欄
の請求項3に記載した通り、前述の第一または第二の特
徴構成に加えて、少なくとも一つの前記表面弾性波発振
器において、前記圧電性膜上の前記二つのすだれ状電極
トランスデューサ間に所定の被測定量に感応する感応膜
を形成してなる点にある。
[0008] According to a third aspect of the present invention, in addition to the first or second aspect, at least one of the surface acoustic wave oscillators further comprises: The present invention is characterized in that a sensitive film sensitive to a predetermined measured amount is formed between the two interdigital transducers on the piezoelectric film.

【0009】同第四の特徴構成は、特許請求の範囲の欄
の請求項4に記載した通り、前述の第一、第二または第
三の特徴構成に加えて、前記高速伝搬体を所定の基板上
に形成してなる点にある。
The fourth characteristic configuration is, as described in claim 4 of the claims, in addition to the above-mentioned first, second or third characteristic configuration, the high-speed propagating body is provided with a predetermined speed. The point is that it is formed on a substrate.

【0010】同第五の特徴構成は、特許請求の範囲の欄
の請求項5に記載した通り、前述の第四の特徴構成に加
えて、前記増幅器を前記基板上に形成してなる点にあ
る。
The fifth feature of the present invention is that the amplifier is formed on the substrate in addition to the fourth feature of the present invention, as described in claim 5 of the claims. is there.

【0011】以下に上記特徴構成による作用並びに効果
を説明する。上記第一または第二の特徴構成によれば、
前記圧電性膜を伝搬する表面弾性波が、前記圧電性膜の
下側に形成されている前記高速伝搬体の影響を受けて前
記高速伝搬体における伝搬速度で伝搬するため、前記圧
電性膜の伝搬速度によって制限される前記表面弾性波発
振器の発振周波数の高周波化が図れ、前記圧電性膜に作
用する被測定量の微妙な変化も発振周波数の変化として
高精度に検出できるのである。また、前記圧電性膜を伝
搬する表面弾性波の伝搬速度が上記したように前記高速
伝搬体における伝搬速度まで高速化が図られるため、高
速応答性も達成されるのである。更に、ガスセンサとし
て利用する場合には、高速・高周波性より気体の分子量
の測定も可能となるのである。また、前記表面弾性波発
振器が構成され、高周波の表面弾性波が自己励起される
ため、高周波の表面弾性波を励振するための、別途の高
周波発振器を必要としないため、回路構成の簡単化が図
れるのである。
The operation and effects of the above-mentioned features will be described below. According to the first or second characteristic configuration,
The surface acoustic wave propagating through the piezoelectric film propagates at a propagation speed in the high-speed propagating body under the influence of the high-speed propagating body formed below the piezoelectric film. The oscillation frequency of the surface acoustic wave oscillator, which is limited by the propagation speed, can be increased, and a subtle change in the measured amount acting on the piezoelectric film can be detected with high accuracy as a change in the oscillation frequency. Further, since the propagation speed of the surface acoustic wave propagating through the piezoelectric film is increased to the propagation speed of the high-speed propagating body as described above, high-speed response is also achieved. Further, when used as a gas sensor, it is possible to measure the molecular weight of a gas rather than high speed and high frequency. Further, since the surface acoustic wave oscillator is configured and the high-frequency surface acoustic wave is self-excited, a separate high-frequency oscillator for exciting the high-frequency surface acoustic wave is not required, so that the circuit configuration can be simplified. You can do it.

【0012】更に、上記第二の特徴構成によれば、複数
の表面弾性波発振器が構成されるため、各表面弾性波発
振器毎に、測定対象を異ならせたり、或いは、同じ測定
対象であっても被測定量の範囲を異ならせることができ
るため、一定の雰囲気中において複数の測定対象に対応
できるとともに広範囲な測定が可能な複合的な高機能セ
ンサを提供することができるのである。また、単一基板
上に複数のセンサを実現できることからセンサの感応部
分の小型化も図れるのである。
Further, according to the second characteristic configuration, since a plurality of surface acoustic wave oscillators are configured, the object to be measured may be different for each surface acoustic wave oscillator, or the same object may be measured. Also, since the range of the measured quantity can be made different, it is possible to provide a complex high-performance sensor capable of dealing with a plurality of measurement objects in a certain atmosphere and capable of performing a wide range of measurement. Further, since a plurality of sensors can be realized on a single substrate, the sensitive portion of the sensor can be reduced in size.

【0013】上記第三の特徴構成によれば、圧電性膜単
体では検出できない被測定量やその測定範囲について
も、検出できるようになるのである。特に所定ガス種に
反応する感応膜を付加することで、当該ガス種のガスセ
ンサが容易に作製できるのである。特に、上記第二の特
徴構成と組み合わせることにより、上記した高機能セン
サを容易に作製できるのである。
[0013] According to the third characteristic configuration, it is possible to detect an amount to be measured and a measurement range that cannot be detected by the piezoelectric film alone. In particular, by adding a sensitive film that reacts to a predetermined gas type, a gas sensor of the gas type can be easily manufactured. In particular, the high-performance sensor described above can be easily manufactured by combining it with the second characteristic configuration.

【0014】上記第四の特徴構成によれば、例えばダイ
ヤモンド基板等の高速伝搬体の基板を使用せずに、前記
基板上に高速伝搬体を薄膜状に形成することにより、他
の製品と基板を共用でき、製造コストの低減が図れるの
である。更に、当該基板上に他の周辺回路等を集積化で
き、センサの小型化が図れるのである。
According to the fourth aspect, the high-speed propagator is formed in a thin film on the substrate without using a high-speed propagator such as a diamond substrate. Can be shared, and the manufacturing cost can be reduced. Further, other peripheral circuits and the like can be integrated on the substrate, and the size of the sensor can be reduced.

【0015】上記第五の特徴構成によれば、表面弾性波
発振器の全体を同一基板上に形成できるため、増幅器と
各トランスデューサ間の配線の浮遊容量等の軽減が図
れ、配線遅延及びその間の信号遷移の急峻化が図れ、発
振周波数の高周波化が更に可能となるのである。また、
増幅器を外付けする必要が無くなり、センサの小型化が
図れるのである。
According to the fifth characteristic configuration, since the entire surface acoustic wave oscillator can be formed on the same substrate, the stray capacitance and the like of the wiring between the amplifier and each transducer can be reduced, and the wiring delay and the signal between them can be reduced. The transition can be sharpened, and the oscillation frequency can be further increased. Also,
This eliminates the need to externally attach an amplifier, thereby reducing the size of the sensor.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。本発明に係るセンサの第1実施形
態は、図1に示すように、Si基板2上に、高速伝搬体
であるダイヤモンド薄膜3と圧電性膜4を形成し、その
圧電性膜4上に二つのすだれ状電極トランスデューサ
5、6を設けて両トランスデューサ5、6間に遅延線7
を形成し、一方のトランスデューサ5を高周波増幅器8
の入力側8aに接続し、前記増幅器8の出力側8bを他
方のトランスデューサ6と接続してなる帰還ループによ
り表面弾性波発振器1を形成し、前記高周波増幅器8の
出力側8bから高周波出力信号の一部を分岐させてその
発振周波数を測定する周波数測定手段9を備えた構成と
なっており、本発明に係るセンサの基本的構成である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the first embodiment of the sensor according to the present invention, as shown in FIG. 1, a diamond thin film 3 and a piezoelectric film 4 which are high-speed propagators are formed on a Si substrate 2, and two layers are formed on the piezoelectric film 4. The two interdigital transducers 5 and 6 are provided, and a delay line 7 is provided between the transducers 5 and 6.
And one of the transducers 5 is connected to a high-frequency amplifier 8
The surface acoustic wave oscillator 1 is formed by a feedback loop formed by connecting the input side 8a of the amplifier 8 and the output side 8b of the amplifier 8 to the other transducer 6. The output side 8b of the high-frequency amplifier 8 outputs a high-frequency output signal. The configuration is provided with a frequency measuring means 9 for measuring the oscillation frequency by branching a part, which is a basic configuration of the sensor according to the present invention.

【0017】前記ダイヤモンド薄膜3は前記基板2上に
CVD法で10μm程度の膜厚に成膜したものを5μm
程度にまで研磨して表面を平坦化してある。前記圧電性
膜4として、上記研磨後のダイヤモンド薄膜3上にRF
スパッタリング法で成膜した膜厚0.5〜1.0μm、
より好ましくは膜厚0.6〜0.7μmのZnO膜を使
用する。ZnO膜は膜厚0.5〜1.0μmの範囲内に
おいて圧電膜として正常に機能する。つまり、ZnO膜
の膜厚が0.5μmより薄くなると、圧電変換効率が著
しく低下するとともに、発生した表面弾性波の強度が小
さく、両トランスデューサ5、6間を伝搬する間に減衰
し、発振不能とある。他方、ZnO膜の膜厚が1.0μ
mより厚くなると、ZnO結晶膜の結晶軸が崩れて圧電
体としての機能が損なわれ発振不能となる。
The diamond thin film 3 is formed on the substrate 2 to a thickness of about 10 μm by the CVD method.
The surface is flattened by polishing to the extent. The piezoelectric film 4 is formed on the polished diamond thin film 3 by RF.
A film thickness of 0.5 to 1.0 μm formed by a sputtering method,
More preferably, a ZnO film having a thickness of 0.6 to 0.7 μm is used. The ZnO film normally functions as a piezoelectric film within a thickness range of 0.5 to 1.0 μm. That is, when the thickness of the ZnO film is thinner than 0.5 μm, the piezoelectric conversion efficiency is remarkably reduced, and the intensity of the generated surface acoustic wave is small. a. On the other hand, the thickness of the ZnO film is 1.0 μm.
If the thickness is larger than m, the crystal axis of the ZnO crystal film is broken, the function as a piezoelectric body is impaired, and oscillation becomes impossible.

【0018】前記すだれ状電極トランスデューサ5、6
は、図2及び図3に示すように、AlまたはAl合金か
らなる櫛形の多対電極を二つ組み合わせた形状のいわゆ
るIDT(インターディジタルトランスデューサ)電極
で、前記圧電性膜4上に電極金属膜を蒸着法やスパッタ
リング法等で形成した後、フォトリソグラフィにより不
要な金属膜部分をドライエッチングやリフトオフ等によ
り除去し、電極パターンが形成されている。各トランス
デューサ5、6の電極の幅w及び間隔sは夫々3μmに
形成されており、励振される表面弾性波の波長λは2
(w+s)で求まり12μmとなる。また、櫛形の多対
電極は夫々25対の交差幅300μmの電極からなり、
各トランスデューサ5、6の長さは300μmとなる。
また、両トランスデューサ5、6の間隔は500μmで
ある。この間隔が長くなれば、前記遅延線7における表
面弾性波の減衰が大きくなり、前記高周波増幅器8の増
幅率の大きなものが要求されることになる。ところで、
1GHz以上の高周波で発振する為には、前記高周波増
幅器8の周波数帯域としてそれより十分高いものが要求
されるため、増幅率はできるだけ低く抑えることが好ま
しい。本実施形態では、前記遅延線7の減衰率が30〜
40dB程度であるため、前記高周波増幅器8の増幅率
は70dBのものを使用している。尚、前記高周波増幅
器8は、既存のものを外付けで使用しても、前記Si基
板2上にモノリシックに半導体集積回路として形成した
ものであってもよい。
The interdigital transducers 5, 6
Is a so-called IDT (interdigital transducer) electrode formed by combining two comb-shaped multi-paired electrodes made of Al or an Al alloy, as shown in FIGS. Is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, an unnecessary metal film portion is removed by photolithography by dry etching, lift-off, or the like, thereby forming an electrode pattern. The width w and the interval s of the electrodes of the transducers 5 and 6 are each 3 μm, and the wavelength λ of the surface acoustic wave to be excited is 2 μm.
It is determined by (w + s) to be 12 μm. The comb-shaped multi-pair electrodes are each composed of 25 pairs of electrodes having an intersection width of 300 μm,
The length of each of the transducers 5 and 6 is 300 μm.
The interval between the two transducers 5 and 6 is 500 μm. If this interval becomes longer, the attenuation of the surface acoustic wave in the delay line 7 becomes larger, and a high amplification factor of the high frequency amplifier 8 is required. by the way,
In order to oscillate at a high frequency of 1 GHz or more, the frequency band of the high-frequency amplifier 8 is required to be sufficiently higher than the frequency band. In the present embodiment, the attenuation rate of the delay line 7 is 30 to
Since the gain is about 40 dB, the gain of the high-frequency amplifier 8 is 70 dB. The high-frequency amplifier 8 may be an existing one externally used, or may be a monolithically formed semiconductor integrated circuit on the Si substrate 2.

【0019】前記周波数測定手段9は、周波数カウンタ
や高周波スペクトルアナライザを備えた構成となってお
り、必要に応じて基準周波数発生器を設け、その基準信
号との周波数差を測定する構成であっても構わない。ま
た、前記ダイヤモンド薄膜3における表面弾性波の伝搬
速度の個体差や、後述する感応膜による伝搬速度の変動
による測定周波数と被測定量との関係を補正する補正手
段をマイコン等を使用して設けてある。
The frequency measuring means 9 is provided with a frequency counter and a high-frequency spectrum analyzer, is provided with a reference frequency generator as required, and measures a frequency difference from the reference signal. No problem. Further, a correction means for correcting the individual difference of the propagation speed of the surface acoustic wave in the diamond thin film 3 and the relationship between the measured frequency and the measured amount due to the fluctuation of the propagation speed by the sensitive film described later is provided using a microcomputer or the like. It is.

【0020】以上のような構成において、前記増幅器8
の出力側8bから出力される電気信号が前記トランスデ
ューサ6に入力され、前記圧電性膜4の表面に表面弾性
波が励振される。前記トランスデューサ6において励振
された表面弾性波は、前記遅延線7を前記トランスデュ
ーサ5に向けて、前記圧電性膜4における表面弾性波の
伝搬速度(約3000m/s)より高速の前記圧電性膜
4の下層側に設けられた前記ダイヤモンド薄膜3におけ
る表面弾性波の伝搬速度v(12000〜15000m
/s)で伝搬し、前記トランスデューサ5で検波され電
気信号に変換され、前記増幅器8の入力側8aに入力さ
れ、上記した帰還ループ上において所定周波数fで発振
する。ここで、発振周波数fは、表面弾性波の波長λと
伝搬速度vより関係式f=v/λで決定される。ところ
で、前記圧電性膜4であるZnO膜は湿度感応膜として
作用するため、湿度変化によりZnO膜の弾性的性質が
変化し、その結果、表面弾性波の伝搬速度が変化して前
記発振周波数fが変化する。現象的にはZnO膜表面に
接触する水の分子量の大きさに感応してZnO膜の弾性
的性質が変化するものと考えられる。
In the above configuration, the amplifier 8
An electric signal output from the output side 8b is input to the transducer 6, and a surface acoustic wave is excited on the surface of the piezoelectric film 4. The surface acoustic wave excited by the transducer 6 directs the delay line 7 toward the transducer 5 and causes the piezoelectric film 4 having a speed higher than the propagation speed of the surface acoustic wave in the piezoelectric film 4 (about 3000 m / s). The propagation velocity v of the surface acoustic wave in the diamond thin film 3 provided on the lower layer side (12000 to 15000 m
/ S), is detected by the transducer 5, converted into an electric signal, input to the input side 8a of the amplifier 8, and oscillates at a predetermined frequency f on the above-mentioned feedback loop. Here, the oscillation frequency f is determined by the relational expression f = v / λ from the wavelength λ of the surface acoustic wave and the propagation velocity v. Incidentally, since the ZnO film serving as the piezoelectric film 4 acts as a humidity sensitive film, the elastic property of the ZnO film changes due to a change in humidity. As a result, the propagation speed of the surface acoustic wave changes and the oscillation frequency f Changes. Phenomenonally, it is considered that the elastic properties of the ZnO film change in response to the molecular weight of water in contact with the surface of the ZnO film.

【0021】次に、第1実施形態のセンサの相対湿度セ
ンサとしての特性を測定した測定結果について説明す
る。この測定結果を、横軸を相対湿度、縦軸を前記周波
数測定手段9で測定した前記表面弾性波発振器1の発振
周波数の中心周波数として、図4に示す。これより、前
記表面弾性波発振器1は1GHz以上の発振周波数
(1.0372〜1.0395GHz)で発振している
ことが確認でき、センサの高精度化が図られていること
が分かる。更に、図4より、相対湿度が増加するに伴い
発振周波数fが低下することが分かる。特に、相対湿度
が70%を超えると発振周波数fの低下が大きくなるた
め、相対湿度70%以上の範囲で高感度の測定ができ
る。また、図5に示すように、相対湿度を強制的に35
%と80%の間を周期的に変化させた場合の応答性は、
発振周波数の中心周波数が相対湿度の変化から約0.5
秒遅延して、1.0395GHzと1.0372GHz
の間で遷移しており、従来に比べ6倍以上の応答性の改
善が図られていることが分かる。
Next, the measurement results obtained by measuring the characteristics of the sensor of the first embodiment as a relative humidity sensor will be described. The measurement results are shown in FIG. 4 with the horizontal axis representing relative humidity and the vertical axis representing the center frequency of the oscillation frequency of the surface acoustic wave oscillator 1 measured by the frequency measuring means 9. From this, it can be confirmed that the surface acoustic wave oscillator 1 oscillates at an oscillation frequency of 1 GHz or more (1.0372 to 1.0395 GHz), and it can be seen that the accuracy of the sensor is improved. Furthermore, FIG. 4 shows that the oscillation frequency f decreases as the relative humidity increases. In particular, when the relative humidity exceeds 70%, the oscillation frequency f is greatly reduced, so that high-sensitivity measurement can be performed in the range of 70% or more of the relative humidity. In addition, as shown in FIG.
The responsiveness when periodically changing between% and 80% is
The center frequency of the oscillation frequency is about 0.5
Second delay, 1.0395GHz and 1.0372GHz
It can be seen that the response is improved by a factor of 6 or more as compared with the related art.

【0022】次に、本発明に係るセンサの第2実施形態
について説明する。第2実施形態に係るセンサは、第1
実施形態のセンサの前記圧電性膜4上の前記両トランス
デューサ5、6間に所定の被測定量に感応する感応膜1
0を備えた構成となっている。前記感応膜10として
は、例えば、湿度変化に反応する酢酸セルロースや、表
1に示す所定のガスに反応するSnO2 等が候補として
挙げられる。
Next, a second embodiment of the sensor according to the present invention will be described. The sensor according to the second embodiment includes a first sensor.
The sensitive film 1 which is sensitive to a predetermined measured amount between the transducers 5 and 6 on the piezoelectric film 4 of the sensor of the embodiment.
0 is provided. Examples of the sensitive film 10 include cellulose acetate which reacts to a change in humidity, and SnO 2 which reacts to a predetermined gas shown in Table 1.

【0023】尚、前記感応膜10は各材質に応じた成膜
方法によって適当な膜厚で形成される。一般的に、前記
圧電性膜4上に前記感応膜10を形成することにより、
表面弾性波の伝搬速度が低下するため、反応速度及び精
度が僅かであるが低下する。従って、膜厚は薄い方が反
応速度及び精度の観点からは好ましいが、高濃度ガスの
検出には不適当となり、逆に、膜厚が厚い方が高濃度ガ
スの検出に適する。また、前記感応膜10が導電性の場
合は、前記両トランスデューサ5、6間を短絡させない
ように形成する必要がある。
The sensitive film 10 is formed with an appropriate thickness by a film forming method corresponding to each material. Generally, by forming the sensitive film 10 on the piezoelectric film 4,
Since the propagation speed of the surface acoustic wave is reduced, the reaction speed and accuracy are slightly reduced. Therefore, a thinner film is preferable from the viewpoints of reaction speed and accuracy, but is unsuitable for detecting a high-concentration gas. Conversely, a thicker film is more suitable for detecting a high-concentration gas. If the sensitive film 10 is conductive, it must be formed so as not to short-circuit the two transducers 5 and 6.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】次に、前記感応膜10として湿度感応膜で
ある酢酸セルロース膜をスピナー等で塗布して成膜した
センサについて、その湿度感応特性の測定結果について
説明する。この測定結果を、第1実施形態と同様に、横
軸を相対湿度、縦軸を前記周波数測定手段9で測定した
前記表面弾性波発振器1の発振周波数の中心周波数とし
て、図6に示す。これより、前記表面弾性波発振器1は
1GHz以上の発振周波数(1.0319〜1.033
3GHz)で発振していることが確認でき、センサの高
精度化が図られていることが分かる。また、相対湿度が
増加するに伴い発振周波数が低下することが分かる。
尚、中心周波数の相対湿度の変化に伴う変動域は、第1
実施形態の場合に比べ若干低周波側に移動しているが、
これは、上述したように前記感応膜10の影響による伝
搬速度の低下或いは前記ダイヤモンド薄膜3の伝搬速度
の個体差によるものと考えられる。
Next, the measurement results of the humidity-sensitive characteristics of a sensor formed by applying a cellulose acetate film as a humidity-sensitive film by a spinner or the like as the sensitive film 10 will be described. This measurement result is shown in FIG. 6 as in the first embodiment, with the horizontal axis representing relative humidity and the vertical axis representing the center frequency of the oscillation frequency of the surface acoustic wave oscillator 1 measured by the frequency measuring means 9. Thus, the surface acoustic wave oscillator 1 has an oscillation frequency of 1 GHz or more (1.0319 to 1.033).
(3 GHz), which indicates that the accuracy of the sensor is improved. Also, it can be seen that the oscillation frequency decreases as the relative humidity increases.
The fluctuation range of the center frequency due to the change of the relative humidity is the first range.
Although slightly shifted to the lower frequency side compared to the case of the embodiment,
This is considered to be due to a decrease in the propagation speed due to the influence of the sensitive film 10 or an individual difference in the propagation speed of the diamond thin film 3 as described above.

【0026】尚、本実施形態では、前記圧電性膜4であ
るZnO膜が湿度感応膜として作用するため、前記感応
膜10として前記酢酸セルロース膜を特段設ける必要は
ないが、前記圧電性膜4が湿度に反応しない特性の場合
に、前記酢酸セルロース膜を設けることにより高感度で
高速応答性を有する湿度センサを作製することができ
る。
In this embodiment, since the ZnO film serving as the piezoelectric film 4 functions as a humidity sensitive film, it is not necessary to provide the cellulose acetate film as the sensitive film 10. In the case where is not sensitive to humidity, the humidity sensor having high sensitivity and high-speed response can be manufactured by providing the cellulose acetate film.

【0027】次に、本発明に係るセンサの第3実施形態
について説明する。第3実施形態に係るセンサは、前記
Si基板2上に、前記第1または第2の実施形態のセン
サを複数作製した複合センサである。具体的には、図7
に示すように、前記Si基板2上に、前記ダイヤモンド
薄膜3と前記圧電性膜4を形成し、前記圧電性膜4上に
前記二つのすだれ状電極トランスデューサ5、6を複数
組設け、前記各組のトランスデューサ5、6毎に、各別
に、一方のトランスデューサ5を前記高周波増幅器8の
入力側8aに接続し、前記増幅器8の出力側8bを他方
のトランスデューサ6と接続して前記表面弾性波発振器
1を形成し、前記高周波増幅器8の出力側8bから高周
波出力信号の一部を分岐させて前記周波数測定手段9に
入力する構成となっており、前記複数の表面弾性波発振
器1の内のいくつかの表面弾性波発振器1は、前記圧電
性膜4上の前記両トランスデューサ5、6間に前記感応
膜10を備えている。前記感応膜10は、例えば、前記
表面弾性波発振器1毎に異なるガス種に反応する感応膜
を選択して使用することで、ガスセンサとしてガス識別
能力を向上することができる。従って、本実施形態によ
り、湿度センサと多種のガスを識別できるガスセンサを
単一基板上に形成した多機能センサを構成することがで
きる。更に、前記第1実施形態に係るセンサは、前記圧
電性膜4が振動や歪みにも反応するため、振動センサや
歪みセンサとしても機能する。尚、前記感応膜10は必
ずしも設ける必要はない。
Next, a third embodiment of the sensor according to the present invention will be described. The sensor according to the third embodiment is a composite sensor in which a plurality of the sensors according to the first or second embodiment are formed on the Si substrate 2. Specifically, FIG.
As shown in FIG. 3, the diamond thin film 3 and the piezoelectric film 4 are formed on the Si substrate 2, and a plurality of sets of the two interdigital transducers 5 and 6 are provided on the piezoelectric film 4. For each set of transducers 5, 6, one transducer 5 is connected to the input 8a of the high-frequency amplifier 8 and the output 8b of the amplifier 8 is connected to the other transducer 6, and the surface acoustic wave oscillator is connected. 1, a part of the high-frequency output signal is branched from the output side 8b of the high-frequency amplifier 8 and input to the frequency measuring means 9, and the number of the plurality of surface acoustic wave oscillators 1 The surface acoustic wave oscillator 1 includes the sensitive film 10 between the two transducers 5 and 6 on the piezoelectric film 4. As the sensitive film 10, for example, by selecting and using a sensitive film that reacts to a different gas type for each of the surface acoustic wave oscillators 1, it is possible to improve the gas discrimination ability as a gas sensor. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to configure a multifunctional sensor in which a humidity sensor and a gas sensor capable of distinguishing various kinds of gases are formed on a single substrate. Further, the sensor according to the first embodiment also functions as a vibration sensor or a strain sensor because the piezoelectric film 4 also responds to vibration or strain. Note that the sensitive film 10 is not necessarily provided.

【0028】尚、前記複数の表面弾性波発振器1は表面
弾性波の進行方向に沿って隣接するもの同士が相互に干
渉し合わないように、前記圧電性膜4の成膜後に、前記
表面弾性波発振器1を同方向に分離すべく、前記トラン
スデューサ5、6を形成する領域の境界部分に当たる前
記圧電性膜4、或いは、前記圧電性膜4と前記ダイヤモ
ンド薄膜3をプラズマエッチング等で除去し、当該部分
に表面弾性波の緩衝帯11を形成してある。また、前記
複数の表面弾性波発振器1は各別に完全に分離するよう
にしてもよい。
The plurality of surface acoustic wave oscillators 1 are formed after the piezoelectric film 4 is formed so that adjacent ones along the traveling direction of the surface acoustic wave do not interfere with each other. In order to separate the wave oscillator 1 in the same direction, the piezoelectric film 4 or the piezoelectric film 4 and the diamond thin film 3 corresponding to the boundary portion of the region where the transducers 5 and 6 are formed are removed by plasma etching or the like, A buffer band 11 for surface acoustic waves is formed in this portion. Further, the plurality of surface acoustic wave oscillators 1 may be completely separated from each other.

【0029】以下、本発明の別実施形態を列記する。 〈1〉上記実施の形態では、表面弾性波発振器1の高速
伝搬体として、前記ダイヤモンド薄膜3を前記Si基板
2上に最終的に膜厚5μm程度に成膜したもの使用した
が、膜厚は5μm程度に限らず、2μm程度以上であれ
ばよい。また、高速伝搬体は前記Si基板2上に前記ダ
イヤモンド薄膜3を成膜する構成以外に、単結晶のダイ
ヤモンド基板を使用し、その上に前記圧電性膜4を形成
するようにしても構わない。また、前記基板2はSi基
板に限定されるものではなく、それ以外のものであって
も構わない。
Hereinafter, other embodiments of the present invention will be listed. <1> In the above-described embodiment, the diamond thin film 3 which is finally formed on the Si substrate 2 to a thickness of about 5 μm is used as the high-speed propagator of the surface acoustic wave oscillator 1. The thickness is not limited to about 5 μm and may be about 2 μm or more. In addition to the configuration in which the diamond thin film 3 is formed on the Si substrate 2, a single crystal diamond substrate may be used as the high-speed propagation body, and the piezoelectric film 4 may be formed thereon. . Further, the substrate 2 is not limited to the Si substrate, but may be another substrate.

【0030】〈2〉更に、上記各実施の形態では、高速
伝搬体として前記ダイヤモンド薄膜3や前記ダイヤモン
ド基板9のようにダイヤモンドを使用したが、前記圧電
性膜4に比べて表面弾性波の伝搬速度が十分に速いもの
であれば良く、例えば,サファイアやCNx等の薄膜や
基板を使用しても構わない。
<2> Further, in each of the above-described embodiments, diamond is used as the high-speed propagating member such as the diamond thin film 3 and the diamond substrate 9, but the propagation of surface acoustic waves is larger than that of the piezoelectric film 4. It is sufficient if the speed is sufficiently high. For example, a thin film or substrate such as sapphire or CNx may be used.

【0031】〈3〉上記各実施の形態では、前記圧電性
膜4の材質としてZnOを使用したが、例えば、LiN
bO3 やZnS等の他の圧電性を有する材料のものでも
構わない。
<3> In each of the above embodiments, ZnO is used as the material of the piezoelectric film 4.
Other materials having piezoelectricity such as bO3 and ZnS may be used.

【0032】〈4〉上記各実施の形態において、前記す
だれ状電極トランスデューサ5、6の電極対数や各部の
寸法等は、例示した数値のものに限定されるものではな
く、適宜変更可能である。
<4> In each of the above embodiments, the number of pairs of electrodes of the IDTs 5 and 6 and the dimensions of each part are not limited to those illustrated above, but can be changed as appropriate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るセンサの第1実施形態の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a first embodiment of a sensor according to the present invention.

【図2】表面弾性波発振器のすだれ状電極トランスデュ
ーサの平面図
FIG. 2 is a plan view of an interdigital transducer of a surface acoustic wave oscillator.

【図3】図2に示すすだれ状電極トランスデューサの要
部平面図
FIG. 3 is a plan view of a main part of the interdigital transducer shown in FIG. 2;

【図4】第1実施形態に係るセンサの湿度感応特性を示
す特性図
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a humidity response characteristic of the sensor according to the first embodiment.

【図5】第1実施形態に係るセンサの応答性を示す過渡
応答特性図
FIG. 5 is a transient response characteristic diagram showing the response of the sensor according to the first embodiment.

【図6】第2実施形態に係るセンサの湿度感応特性を示
す特性図
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a humidity response characteristic of the sensor according to the second embodiment.

【図7】本発明に係るセンサの第3実施形態の斜視図FIG. 7 is a perspective view of a third embodiment of the sensor according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 表面弾性波発振器 2 基板 3 高速伝搬体(ダイヤモンド薄膜) 4 圧電性膜 5、6 すだれ状電極トランスデューサ 7 遅延線 8 高周波増幅器 8a 入力側 8b 出力側 9 周波数測定手段 10 感応膜 11 緩衝帯 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Surface acoustic wave oscillator 2 Substrate 3 High-speed propagation body (diamond thin film) 4 Piezoelectric film 5, 6 IDT 7 Delay line 8 High frequency amplifier 8a Input side 8b Output side 9 Frequency measuring means 10 Sensitive film 11 Buffer band

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 圧電性膜をその圧電性膜より表面弾性波
の伝搬速度が速い高速伝搬体上に形成し、前記圧電性膜
上に二つのすだれ状電極トランスデューサを形成し、一
方のトランスデューサを増幅器の入力側に接続し、前記
増幅器の出力側を他方のトランスデューサに接続して遅
延線型の表面弾性波発振器を構成し、且つ、前記表面弾
性波発振器の発振周波数を測定する周波数測定手段を備
えてなるセンサ。
1. A piezoelectric film is formed on a high-speed propagator whose surface acoustic wave propagates faster than the piezoelectric film, and two interdigital transducers are formed on the piezoelectric film. A delay line type surface acoustic wave oscillator is formed by connecting the input side of the amplifier to the input side of the amplifier, and the output side of the amplifier is connected to the other transducer, and frequency measuring means for measuring the oscillation frequency of the surface acoustic wave oscillator is provided. Sensor.
【請求項2】 圧電性膜をその圧電性膜より表面弾性波
の伝搬速度が速い高速伝搬体上に形成し、前記圧電性膜
上に複数組の二つのすだれ状電極トランスデューサを形
成し、各組のすだれ状電極トランスデューサにおいて一
方のトランスデューサを増幅器の入力側に接続し、前記
増幅器の出力側を他方のトランスデューサに接続して、
複数の遅延線型の表面弾性波発振器を構成し、且つ、前
記各表面弾性波発振器の発振周波数を各別に測定する周
波数測定手段を備えてなるセンサ。
2. A piezoelectric film is formed on a high-speed propagator whose surface acoustic wave propagates faster than the piezoelectric film, and a plurality of sets of two interdigital transducers are formed on the piezoelectric film. Connecting one transducer to the input of an amplifier and the output of the amplifier to the other transducer in a set of interdigital transducers;
A sensor comprising a plurality of delay line type surface acoustic wave oscillators and comprising frequency measuring means for individually measuring the oscillation frequency of each of the surface acoustic wave oscillators.
【請求項3】 少なくとも一つの前記表面弾性波発振器
において、前記圧電性膜上の前記二つのすだれ状電極ト
ランスデューサ間に所定の被測定量に感応する感応膜を
形成してなる請求項1または2記載のセンサ。
3. The at least one surface acoustic wave oscillator, wherein a sensitive film sensitive to a predetermined measured quantity is formed between the two interdigital transducers on the piezoelectric film. The sensor as described.
【請求項4】 前記高速伝搬体を所定の基板上に形成し
てなる請求項1、2または3記載のセンサ。
4. The sensor according to claim 1, wherein said high-speed propagation body is formed on a predetermined substrate.
【請求項5】 前記増幅器を前記基板上に形成してなる
請求項4記載のセンサ。
5. The sensor according to claim 4, wherein said amplifier is formed on said substrate.
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