JP2000112132A - Photopolymerizable planographic printing plate - Google Patents
Photopolymerizable planographic printing plateInfo
- Publication number
- JP2000112132A JP2000112132A JP29915398A JP29915398A JP2000112132A JP 2000112132 A JP2000112132 A JP 2000112132A JP 29915398 A JP29915398 A JP 29915398A JP 29915398 A JP29915398 A JP 29915398A JP 2000112132 A JP2000112132 A JP 2000112132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- printing plate
- photopolymerizable
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 45
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 10
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 56
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- -1 alkali metal salts Chemical class 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 10
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 10
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 9
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N strontium nitrate Chemical compound [Sr+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N (Z)-but-2-enedioic acid 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCCOCCOCCO FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N (z)-4-[2-[(z)-3-carboxyprop-2-enoyl]oxyethoxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C(O)=O SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C Chemical compound C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000579895 Chlorostilbon Species 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- RFUZHZOLHOAGIX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-chloroacetic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCl RFUZHZOLHOAGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- MTPLRWPABNCJCY-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-prop-2-enylazanium;4-ethenylbenzoic acid;chloride Chemical compound [Cl-].OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1.C=CC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 MTPLRWPABNCJCY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-prop-2-enylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound CC(O)CCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- WSLQHGMJTGELSF-UHFFFAOYSA-L dipotassium;difluoride Chemical compound [F-].[F-].[K+].[K+] WSLQHGMJTGELSF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052876 emerald Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010976 emerald Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DASJFYAPNPUBGG-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonyl chloride Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)Cl)=CC=CC2=C1 DASJFYAPNPUBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- HHDOORYZQSEMGM-UHFFFAOYSA-L potassium;oxalate;titanium(4+) Chemical compound [K+].[Ti+4].[O-]C(=O)C([O-])=O HHDOORYZQSEMGM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical group O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003470 sulfuric acid monoesters Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光重合性平版印刷版
に関するものである。更に詳しくは、アルゴンレーザー
(488、514.5nm)、半導体レーザーの第2高調
波(SHG−LD、350〜600nm)、SHG−YA
Gレーザー(532nm)等によりフィルム原稿を用いず
に直接製版可能なネガ型平版印刷版に関するものであ
る。[0001] The present invention relates to a photopolymerizable lithographic printing plate. More specifically, argon laser (488, 514.5 nm), second harmonic of semiconductor laser (SHG-LD, 350 to 600 nm), SHG-YA
The present invention relates to a negative type lithographic printing plate which can be directly made by using a G laser (532 nm) without using a film original.
【0002】[0002]
【従来の技術】往来より、ネガ型平版印刷版は広く知ら
れており種々の感光層がある。ジアゾ樹脂含有型、光重
合型、光架橋型等がある。このような平版印刷版を作成
するには、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム
原稿をのせ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的で
あり作業に手間暇がかかっていた。2. Description of the Related Art Negative type lithographic printing plates have been widely known and have various photosensitive layers. There are diazo resin-containing types, photopolymerization types, photocrosslinking types, and the like. In order to prepare such a lithographic printing plate, it is common to place a transparent negative film original on the lithographic printing plate and to perform image exposure using ultraviolet rays, which requires a lot of work.
【0003】そこで感光層にある種の高感度な光重合層
を用いることで、細くビームを絞ったレーザー光をその
版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿などを直接版面
上に形成させ、フィルム原稿を用いず直接製版可能とな
る。[0003] Therefore, by using a kind of high-sensitivity photopolymerization layer in the photosensitive layer, a laser beam with a narrow beam is scanned on the plate surface, and a character document, an image document, and the like are formed directly on the plate surface. Plate making can be performed directly without using a film original.
【0004】しかしながら、従来こうした高感度光重合
性の平版印刷版は、印刷版として使用する時の条件にも
よるが、光重合性感光層と親水性支持体の密着力を十分
得ることが難しく、大部数の印刷を行う際に、画像の欠
落が生じ、耐刷不足が生じ易かった。However, conventionally, such a highly sensitive photopolymerizable lithographic printing plate depends on the conditions when used as a printing plate, but it is difficult to obtain sufficient adhesion between the photopolymerizable photosensitive layer and the hydrophilic support. In addition, when printing a large number of copies, images are missing and printing durability is likely to be insufficient.
【0005】親水性支持体と光重合性感光層間の接着性
を高める技術として、例えば特開平4−161957号
には特定構造のシランカップリング剤を感光層中に含有
させることが開示されているが、この方法では感光性平
版印刷材料を長期保存すると、保存中に、シランカップ
リング剤の反応により、非画像部の現像液溶解性が低下
し、印刷時に非画像部が著しく汚れてしまう。特開平7
−159983号にはラジカル付加重合可能な官能基を
有するシリコーン化合物を含む層を親水性支持体上に設
け、さらにその上に光重合性感光層を設ける技術が開示
されている。このようなシリコーン化合物層による感光
層と親水性支持体との接着は、画像露光により感光層中
に生じるラジカル重合反応により、ラジカル付加重合可
能な官能基を有するシリコーン化合物との間に共有結合
を生じるために向上すると考えられ、これにより画像部
感光層は親水性支持体に強く接着する。一方非画像部で
はこのようなラジカル反応が起こらないため、接着力は
増大しない。しかし、上記のようなラジカル反応性基は
有機基であるため、官能基を有するシリコーン化合物
が、非画像部親水性表面上に多量に残留するとインキ受
容性が高まり、非画像部に印刷汚れを生じる。As a technique for improving the adhesion between a hydrophilic support and a photopolymerizable photosensitive layer, for example, JP-A-4-161957 discloses that a silane coupling agent having a specific structure is contained in a photosensitive layer. However, in this method, when the photosensitive lithographic printing material is stored for a long period of time, the solubility of the developing solution in the non-image area is reduced due to the reaction of the silane coupling agent during storage, and the non-image area is significantly stained during printing. JP 7
No. 159983 discloses a technique in which a layer containing a silicone compound having a functional group capable of radical addition polymerization is provided on a hydrophilic support, and a photopolymerizable photosensitive layer is further provided thereon. Adhesion between the photosensitive layer and the hydrophilic support by the silicone compound layer forms a covalent bond between the silicone compound having a functional group capable of radical addition polymerization by a radical polymerization reaction generated in the photosensitive layer by image exposure. It is believed that the photosensitive layer is strongly adhered to the hydrophilic support. On the other hand, since such a radical reaction does not occur in the non-image portion, the adhesive force does not increase. However, since the radical-reactive group as described above is an organic group, if a large amount of the silicone compound having a functional group remains on the hydrophilic surface of the non-image area, the ink receptivity increases, and printing stains on the non-image area are reduced. Occurs.
【0006】従って親水性支持体とラジカル反応性基を
有するシリコーン化合物との間の接着力はあまり大きく
することはできない。Therefore, the adhesive force between the hydrophilic support and the silicone compound having a radical reactive group cannot be increased so much.
【0007】また、このような平版印刷版において、印
刷時汚れが生じると印刷機上で版面をプレートクリーナ
ーで拭き、インキを除去するが、親水性支持体表面とシ
リコーン化合物との間の接着力はそれほど大きくないた
め、プレートクリーナーで拭くことにより、ハイライト
の小網点や細線の画像が徐々に飛ぶという問題があっ
た。Further, in such a lithographic printing plate, when a stain occurs during printing, the plate surface is wiped with a plate cleaner on a printing press to remove the ink, but the adhesive force between the surface of the hydrophilic support and the silicone compound is removed. Is not so large, and there has been a problem that, by wiping with a plate cleaner, images of small dots and fine lines of highlights gradually fly.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、強固な感光層と支持体の密着力によって、プレート
クリーナーで版面のインキを除去しても、また多量の印
刷を行ってもハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも
優れ、耐刷性のあるレーザー書き込みが可能であり、さ
らに経時保存後においても支持体と感光層の密着力が変
化しにくく、印刷汚れが生じない光重合性平版印刷版を
提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for highlighting even if a plate cleaner is used to remove ink on a plate surface or a large amount of printing is performed due to the strong adhesion between a photosensitive layer and a support. It does not fly, has excellent shadow reproducibility, is capable of laser writing with printing durability, and is hard to change the adhesion between the support and the photosensitive layer even after storage over time, and photopolymerization that does not cause printing stains To provide a lithographic printing plate.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記光重合性平版印刷版により上記の目的を解決
するに至った。 (1) 陽極酸化被膜を設けた後、ケイ酸塩(珪酸塩)
処理を施したアルミニウムまたはアルミニウム合金で形
成された基板上に、酸基を有する構成成分およびオニウ
ム基を有する構成成分を用いて得られた高分子化合物を
含む中間層を有し、この中間層上に、活性光線により重
合可能な少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物と、線状有機高分子重合体と、光重合開始剤と
を含有する光重合性感光層を有する光重合性平版印刷
版。Means for Solving the Problems As a result of earnest studies, the present inventors have solved the above-mentioned object by the following photopolymerizable lithographic printing plate. (1) After providing anodized film, silicate (silicate)
An intermediate layer containing a polymer compound obtained using a component having an acid group and a component having an onium group on a substrate formed of treated aluminum or an aluminum alloy; A photopolymerizable lithographic plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing at least one compound having at least one ethylenically unsaturated bond polymerizable by actinic light, a linear organic polymer, and a photopolymerization initiator. Print version.
【0010】従来、珪酸塩処理等により親水化処理を施
したアルミニウム支持体上に感光層を設けると密着性が
低く、耐刷性能が著しく低かったが、本発明において
は、酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成
分とを重合してなる高分子化合物を含む中間層を設ける
ことにより、密着力が向上し、耐刷性能が著しく向上し
た。また、このような密着力は経時劣化しにくく、印刷
汚れが生じにくい。Conventionally, when a photosensitive layer was provided on an aluminum support which had been subjected to a hydrophilization treatment by silicate treatment or the like, the adhesion was low and the printing durability was remarkably low. By providing an intermediate layer containing a polymer compound obtained by polymerizing the component and a component having an onium group, the adhesion was improved, and the printing durability was remarkably improved. In addition, such adhesion does not easily deteriorate with time, and printing stains are less likely to occur.
【0011】[0011]
【発明の実施の形憑〕以下、本発明を詳細
に説明する。本発明の光重合性平版印刷版は、所定の親
水化処理が施されたアルミニウム等の支持体と、光重合
性感光層との間に中間層が設けられたものである。 【0012】[(A)中間層]本発明の中間層形成に用
いられる高分子化合物について詳しく説明する。本発明
の高分子化合物は、少なくとも酸基を有する構成成分と
少なくともオニウム基を有する構成成分とを重合してな
る高分子化合物である。ここで、酸基として好ましいも
のは酸解離定数(pKa)が7以下の酸基が好ましく、
より好ましくは−COOH,−SO3H,−OSO3H,
−PO3H2,−OPO3H2,−CONHSO2−,−S
O2NHSO2−であり、特に好ましくは−COOHであ
る。また、オニウム基として好ましいものは、周期律表
第5B(15族)あるいは第6B族(16族)の原子か
らなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リ
ン原子あるいはイオウ原子からなるオニウム基であり、
特に好ましくは窒素原子からなるオニウム基である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail. The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention has an intermediate layer provided between a support such as aluminum which has been subjected to a predetermined hydrophilic treatment and a photopolymerizable photosensitive layer. [(A) Intermediate Layer] The polymer compound used for forming the intermediate layer of the present invention will be described in detail. The polymer compound of the present invention is a polymer compound obtained by polymerizing a component having at least an acid group and a component having at least an onium group. Here, a preferable acid group is an acid group having an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less,
More preferably -COOH, -SO 3 H, -OSO 3 H,
-PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - S
O 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH. Preferred as the onium group is an onium group composed of an atom of Group 5B (Group 15) or Group 6B (Group 16) of the Periodic Table, more preferably an onium group composed of a nitrogen atom, a phosphorus atom or a sulfur atom. And
Particularly preferred is an onium group consisting of a nitrogen atom.
【0013】本発明の高分子化合物の中で、好ましく
は、この高分子化合物の主鎖横造がアクリル樹脂やメタ
クリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマーあ
るいはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいはポリ
アミドであることを特徴とするポリマーである。Among the polymer compounds of the present invention, preferably, the main chain structure of the polymer compound is a vinyl-based polymer such as an acrylic resin, a methacrylic resin, or polystyrene, a urethane resin, a polyester, or a polyamide. It is a characteristic polymer.
【0014】より好ましくは、この高分子化合物の主鎖
構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンの
ようなビニル系ポリマーであることを特徴とするポリマ
ーである。More preferably, the polymer is characterized in that the main chain structure of the polymer compound is a vinyl polymer such as an acrylic resin, a methacrylic resin, or polystyrene.
【0015】特に好ましくは、酸基を有する構成成分が
下記の式(1)あるいは式(2)で表される重合可能な
化合物であり、オニウム基を有する構成成分が下記の式
(3)、式(4)あるいは式(5)で表されることを特
徴とするポリマーである。Particularly preferably, the component having an acid group is a polymerizable compound represented by the following formula (1) or (2), and the component having an onium group is a compound represented by the following formula (3): A polymer represented by Formula (4) or Formula (5).
【0016】[0016]
【化1】 Embedded image
【0017】式中、Aは2価の連結基を表す。Bは2価
の芳香族基あるいは置換芳香族基を表す。DおよびEは
それぞれ独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結
基を表す。XおよびX′はそれぞれ独立してpKaが7
以下の酸基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモ
ニウム塩を表す。R1は水素原子、アルキル基またはハ
ロゲン原子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して
0または1を表す。tは1〜3の整数である。In the formula, A represents a divalent linking group. B represents a divalent aromatic group or a substituted aromatic group. D and E each independently represent a divalent linking group. G represents a trivalent linking group. X and X 'each independently have a pKa of 7
The following acid groups or their alkali metal salts or ammonium salts are represented. R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom. a, b, d, and e each independently represent 0 or 1. t is an integer of 1 to 3.
【0018】酸基を有する構成成分の中でより好ましく
は、Aは−COO−または−CONH−を表し、Bはフ
ェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換
基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基である。
DおよびEはそれぞれ独立してアルキレン基あるいは分
子式がCnH2nO、CnH2nSあるいはCnH2n+1Nで表
される2価の連結基を表す。Gは分子式がCnH2n-1、
CnH2n-1O、CnH2n- 1SあるいはCnH2nNで表され
る3価の連結基を表す。但し、ここでnは1〜12の整
数を表す。XおよびX′はそれぞれ独立してカルボン
酸、スルホン酸、ホスホン酸、硫酸モノエステルあるい
は燐酸モノエステルを表す。R1は水素原子またはアル
キル基を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0ま
たは1を表すが、aとbは同時に0ではない。More preferably, A represents -COO- or -CONH-, B represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group, a halogen atom or an alkyl group. It is.
Alkylene group or a molecular formula D and E are each independently represents C n H 2n O, 2 divalent linking group represented by C n H 2n S or C n H 2n + 1 N. G has a molecular formula of C n H 2n-1 ,
C n H 2n-1 O, represents a trivalent linking group represented by C n H 2n- 1 S or C n H 2n N. Here, n represents an integer of 1 to 12. X and X 'each independently represent a carboxylic acid, a sulfonic acid, a phosphonic acid, a sulfuric acid monoester or a phosphoric acid monoester. R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. a, b, d, and e each independently represent 0 or 1, but a and b are not 0 at the same time.
【0019】酸基を有する構成成分の中で特に好ましく
は式(1)で示す化合物であり、Bはフェニレン基ある
いは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基ある
いは炭素数1〜3のアルキル基である。DおよびEはそ
れぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸
素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。
R1は水素原子あるいはメチル基を表す。Xはカルボン
酸基を表す。aは0であり、bは1である。Among the components having an acid group, a compound represented by the formula (1) is particularly preferred, wherein B represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. It is. D and E each independently represent an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom.
R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a carboxylic acid group. a is 0 and b is 1.
【0020】酸基を有する構成成分の具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。Specific examples of the component having an acid group are shown below. However, the present invention is not limited to this specific example.
【0021】(酸基を有する構成成分の具体例)アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸(Specific examples of components having an acid group) Acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride
【0022】[0022]
【化2】 Embedded image
【0023】[0023]
【化3】 Embedded image
【0024】[0024]
【化4】 Embedded image
【0025】次に、オニウム基を有する構成成分として
用いられる式(3)、(4)、(5)で表される重合可
能な化合物について説明する。Next, the polymerizable compounds represented by the formulas (3), (4) and (5) used as the constituent having an onium group will be described.
【0026】[0026]
【化5】 Embedded image
【0027】式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立し
て2価の連結基を表す。Y1は周期律表第5B族(15
族)の原子を表し、Y2は周期律表第6B族(16族)
の原子群を表す。Z-は対アニオンを表す。R2は水素原
子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。R3,R4,
R5,R7はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合によ
っては置換基が結合してもよいアルキル基、芳香族基、
アラルキル基を表し、R6はアルキリジン基あるいは置
換アルキリジンを表すが、R3とR4あるいはR6とR7は
それぞれ結合して環を形成してもよい。j,k,mはそ
れぞれ独立して0または1を表す。uは1〜3の整数を
表す。In the formula, J represents a divalent linking group. K represents an aromatic group or a substituted aromatic group. M each independently represents a divalent linking group. Y 1 is group 5B of the periodic table (15
And Y 2 represents Group 6B (Group 16) of the periodic table.
Represents a group of atoms. And Z - represents a counter anion. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom. R 3 , R 4 ,
R 5 and R 7 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group to which a substituent may be bonded, an aromatic group,
It represents an aralkyl group, and R 6 represents an alkylidine group or a substituted alkylidine, and R 3 and R 4 or R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring. j, k, and m each independently represent 0 or 1. u represents an integer of 1 to 3.
【0028】オニウム基を有する構成成分の中でより好
ましくは、Jは−COO−または−CONH−を表し、
Kはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、そ
の置換基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基で
ある。Mはアルキレン基あるいは分子式がCnH2nO、
CnH2nSあるいはCnH2n+1Nで表される2価の連結
基を表す。但し、ここでnは1〜12の整数を表す。Y
1は窒素原子またはリン原子を表し、Y2はイオウ原子を
表す。Z-はハロゲンイオン、PF6 -、BF4 -あるいは
R8SO3 -(ここでR8はアルキル基、アリール基等を表
す。)R2は水素原子またはアルキル基を表す。R3,R
4,R5,R7はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合
によっては置換基が結合してもよい炭素数1〜10のア
ルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R6は炭素
数1〜10のアルキリジン基あるいは置換アルキリジン
を表すが、R3とR4あるいはR6とR7はそれぞれ結合し
て環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して
0または1を表すが、jとkは同時に0ではない。オニ
ウム基を有する構成成分の中で特に好ましくは、Kはフ
ェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換
基は水酸基あるいは炭素数1〜3のアルキル基である。
Mは炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素原子で連
結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。Z-は塩素
イオンあるいはR8SO3 -を表す。R2は水素原子あるい
はメチル基を表す。jは0であり、kは1である。More preferably, among the components having an onium group, J represents -COO- or -CONH-,
K represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group, a halogen atom or an alkyl group. M is an alkylene group or a molecular formula C n H 2n O,
It represents a divalent linking group represented by C n H 2n S or C n H2 n + 1 N. Here, n represents an integer of 1 to 12. Y
1 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Y 2 represents a sulfur atom. Z - is a halogen ion, PF 6 -, BF 4 - or R 8 SO 3 - (wherein R 8 is an alkyl group, an aryl group.) Represents a R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 , R
4, R 5, R 7 are each independently hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be bonded substituent optionally, an aromatic group, an aralkyl group, R 6 is C 1 -C Represents an alkylidine group of 10 to 10 or a substituted alkylidine, and R 3 and R 4 or R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring. j, k, and m each independently represent 0 or 1, but j and k are not 0 at the same time. Particularly preferably, among the constituent components having an onium group, K represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
M represents an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom. Z - is a chloride ion or R 8 SO 3 - represents a. R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group. j is 0 and k is 1.
【0029】オニウム基を有する構成成分の具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。Specific examples of the constituent having an onium group are shown below. However, the present invention is not limited to this specific example.
【0030】[0030]
【化6】 Embedded image
【0031】[0031]
【化7】 Embedded image
【0032】なお、ここで使用する高分子化合物には酸
基を有する構成成分を20モル%以上、好ましくは40
モル%以上含み、オニウム基を有する構成成分を10モ
ル%以上80モル%以下、好ましくは15モル%以上7
0モル%以下含むことが望ましい。酸基を有する構成成
分が20モル%以上含まれると、アルカリ現像時の溶解
除去が一層促進され、オニウム基を有する構成成分が1
0モル%以上含まれると酸基との相乗効果により密着性
が一層向上するが、80モル%をこえて含まれると非画
像部に汚れが発生しやすくなる。The polymer compound used here contains a component having an acid group in an amount of 20 mol% or more, preferably 40 mol% or more.
At least 10 mol% and not more than 80 mol%, preferably at least 15 mol% and not less than 7 mol%.
It is desirable to contain 0 mol% or less. When the component having an acid group is contained in an amount of 20 mol% or more, dissolution and removal during alkali development are further promoted, and the component having an onium group is contained in an amount of 1%.
When it is contained in an amount of 0 mol% or more, the adhesion is further improved due to a synergistic effect with an acid group.
【0033】また、酸基を有する構成成分は1種類ある
いは2種類以上組み合わせても良く、また、オニウム基
を有する構成成分も1種類あるいは2種類以上組み合わ
せても良い。更に、当該発明に係る高分子化合物は、構
成成分あるいは組成比あるいは分子量の異なるものを2
種類以上混合して用いてもよい。The components having an acid group may be used alone or in combination of two or more. The components having an onium group may be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer compound according to the present invention is a polymer compound having different components or composition ratios or different molecular weights.
You may mix and use more than one type.
【0034】次に、本発明に用いられる高分子化合物の
代表的な例を以下に示す。なお、ポリマー構造の組成比
はモル百分率を表す。Next, typical examples of the polymer compound used in the present invention are shown below. The composition ratio of the polymer structure represents a mole percentage.
【0035】[0035]
【化8】 Embedded image
【0036】[0036]
【化9】 Embedded image
【0037】[0037]
【化10】 Embedded image
【0038】[0038]
【化11】 Embedded image
【0039】本発明に係る高分子化合物は、一般には、
ラジカル連鎖重合法を用いて製造することができる("T
extbook of Polymer Science" 3rd ed.,(1984)F.W.Bill
meyer,A Wiley-Interscience Publication参照)。The polymer compound according to the present invention generally comprises
It can be manufactured using a radical chain polymerization method ("T
extbook of Polymer Science "3rd ed., (1984) FWBill
meyer, A Wiley-Interscience Publication).
【0040】本発明に係る高分子化合物の分子量は広範
囲であってもよいが、光散乱法を用いて測定した時、重
量平均分子量(Mw)が500〜2,000,000であることが好
ましく、また2,000〜600,000の範囲であることが更に好
ましい。また、この高分子化合物中に含まれる未反応モ
ノマー量は広範囲であってもよいが、20wt%以下であ
ることが好ましく、また10wt%以下であることが更に
好ましい。The molecular weight of the polymer compound according to the present invention may be in a wide range, but the weight average molecular weight (Mw) is preferably from 500 to 2,000,000, more preferably from 2,000 to 2,000 as measured by a light scattering method. More preferably, it is in the range of 600,000. Further, the amount of unreacted monomer contained in the polymer compound may be wide, but is preferably 20 wt% or less, and more preferably 10 wt% or less.
【0041】次に、本発明に係る高分子化合物の合成例
を示す。 〔合成例〕 p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロリドとの共重合体(No.1)の合成 p−ビニル安息香酸[北興化学工業(株)製]146.
9g(0.99mol)、ビニルベンジルトリメチルアン
モニウムクロリド44.2g(0.21mol)および2
−メトキシエタノール446gを1L(リットル)の3
口フラスコに取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し7
5℃に保った。次に2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメ
チル2.76g(12mmol)を加え、撹拌を続けた。2
時間後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.7
6g(12mmol)を追加した。更に、2時間後、2,2
−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.76g(12mmo
l)を追加した。2時間撹拌した後、室温まで放冷し
た。この反応液を撹拌下12Lの酢酸エチル中に注い
だ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量は18
9.5gであった。得られた固体は光散乱法で分子量測
定を行った結果、重量平均分子量(Mw)は3.2万で
あった。Next, a synthesis example of the polymer compound according to the present invention will be described. [Synthesis Example] Synthesis of copolymer (No. 1) of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride p-vinylbenzoic acid [manufactured by Hokuko Chemical Industry Co., Ltd.] 146.
9 g (0.99 mol), 44.2 g (0.21 mol) of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and 2
446 g of methoxyethanol in 1 L (liter) of 3
Heat in a flask with stirring while stirring under a nitrogen stream.
It was kept at 5 ° C. Next, 2.76 g (12 mmol) of dimethyl 2,2-azobis (isobutyrate) was added, and stirring was continued. 2
After an hour, 2,2-azobis (isobutyric acid) dimethyl 2.7
An additional 6 g (12 mmol) was added. After another two hours,
2.76 g of dimethyl azobis (isobutyrate) (12 mmo
l) added. After stirring for 2 hours, the mixture was allowed to cool to room temperature. This reaction solution was poured into 12 L of ethyl acetate with stirring. The precipitated solid was collected by filtration and dried. The yield is 18
It was 9.5 g. As a result of measuring the molecular weight of the obtained solid by a light scattering method, the weight average molecular weight (Mw) was 32,000.
【0042】本発明に係る他の高分子化合物も同様の方
法で合成される。Other polymer compounds according to the present invention are synthesized in a similar manner.
【0043】本発明に係る高分子化合物の中間層は、後
述する親水化処理を施したアルミニウム板上に種々の方
法により塗布して設けられる。The intermediate layer of the polymer compound according to the present invention is provided by applying various methods on an aluminum plate which has been subjected to a hydrophilic treatment described later.
【0044】この層は次のような方法で設けることがで
きる。This layer can be provided by the following method.
【0045】メタノール、エタノール、メチルエチルケ
トンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるいは
これら有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る高分子
化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾
燥して設ける方法と、メタノール、エタノール、メチル
エチルケトンなどの有機溶剤あるいはこれら有機溶剤と
水との混合溶剤もしくはそれらの混合溶剤に本発明の高
分子化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬
して高分子化合物を吸着させ、その後、水などによって
洗浄、乾燥して有機中間層を設ける方法である。前者の
方法では、上記高分子化合物の0.005〜10重量%
の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布
などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、
好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜
20分、好ましくは2秒〜1分である。A solution obtained by dissolving the polymer compound of the present invention in an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvents and water is coated on an aluminum plate and dried. The method of providing, and immersing the aluminum plate in a solution obtained by dissolving the polymer compound of the present invention in an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent of these organic solvents and water, or a mixed solvent thereof, polymer In this method, the compound is adsorbed, then washed with water or the like, and dried to provide an organic intermediate layer. In the former method, 0.005 to 10% by weight of the polymer compound is used.
Can be applied in various ways. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C.
Preferably, the temperature is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to
20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
【0046】上記の溶液は、アンモニア、トリエチルア
ミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェ
ニルスルホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマ
ル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々の有機酸
性物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンス
ルホニルクロライドなどの有機クロライド等によりpH
を調整し、pH=0〜12、より好ましくはpH=0〜
5、の範囲で使用することもできる。また、光重合性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。The above solution may be a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide; an inorganic acid such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid or nitric acid; an organic sulfonic acid such as nitrobenzenesulfonic acid or naphthalenesulfonic acid; PH by various organic acidic substances such as organic phosphonic acids such as acids, benzoic acid, coumaric acid, and organic carboxylic acids such as malic acid; and organic chlorides such as naphthalene sulfonyl chloride and benzenesulfonyl chloride.
PH = 0 to 12, more preferably pH = 0 to
5 can be used. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photopolymerizable lithographic printing plate.
【0047】本発明の高分子化合物の乾燥後の被覆量は
平版印刷版1m2当たりで示して、2〜100mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜50mg/m2である。上記被覆
量が少ないと、十分な効果が得られない。また、多くて
も同様である。[0047] The coating amount after drying of the polymer compound of the present invention is shown in the lithographic printing plate 1 m 2 per is suitably 2 to 100 mg / m 2, preferably from 5 to 50 mg / m 2. If the coating amount is small, a sufficient effect cannot be obtained. The same is true for most cases.
【0048】[(B)光重合性感光層]本発明で用いら
れる光重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチ
レン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分
子結合剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重
合禁止剤等の種々の化合物が添加される。[(B) Photopolymerizable Photosensitive Layer] The main components of the photopolymerizable photosensitive layer used in the present invention are a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, and an organic polymer. Various compounds such as a coloring agent, a plasticizer, and a thermal polymerization inhibitor are added as needed.
【0049】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。The compound containing an addition-polymerizable double bond is
The compound can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
【0050】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもっも
のである。For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
【0051】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等があげられる。Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds. And amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.
【0052】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレト、1,4−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate Reto, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetra Acrylate, sol Penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.
【0053】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
【0054】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
【0055】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.
【0056】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
【0057】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
【0058】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。Further, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.
【0059】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.
【0060】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の式(6)で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。As another example, see JP-B-48-417.
08 polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in
A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following formula (6) is added is exemplified.
【0061】 CH2=C(R12)COOCH2CH(R13)OH (6) (ただし、R12およびR13は、HあるいはCH3を示
す。)CH 2 CC (R 12 ) COOCH 2 CH (R 13 ) OH (6) (where R 12 and R 13 represent H or CH 3 )
【0062】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(19
84年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。なお、これら
の使用量は、全成分に対して5〜70重量%(以下%と
も略称する。)、好ましくは10〜50%である。Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193,
64183, JP-B-49-43191, JP-B-52
And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A-30490. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol.20, No.7, 300-308 pages (19
(1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In addition, the use amount of these is 5 to 70% by weight (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 50% with respect to all components.
【0063】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。Examples of the photopolymerization initiator include various photoinitiators known in patents and literatures depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used.
【0064】例えば400nm付近の光を光源として用い
る場合、ベンジル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケ
トン、アントラキノン、チオキサントン、アクリジン、
フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用されている。For example, when light near 400 nm is used as a light source, benzyl, benzoin ether, Michler's ketone, anthraquinone, thioxanthone, acridine,
Phenazine, benzophenone and the like are widely used.
【0065】また、400nm以上の可視光線、Arレー
ザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレ
ーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案さ
れており、例えば、米国特許第2850445号に記載
のある種の感光性染料、染料とアミンの複合開始系(特
公昭44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾ
ールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−
37377号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−
ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47
−2528号、特開昭54−155292号)、環状シ
ス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−
84183号)、環状トリアジンとメロシアニン色素の
系(特開昭54−151024号)、3−ケトクマリン
と活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭5
8−15503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導
体、チオールの系(特開昭59−140203号)、有
機過酸化物と色素の系(特開昭59−140203号、
特開昭59−189340号)、ローダニン骨格の色素
とラジカル発生剤の系(特開平2−244050号)、
チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−
221110号)、チタノセンとキサンテン色素、さら
にアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエ
チレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−2
21958号、特開平4−219756号)、チタノセ
ンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−2950
61号)等を挙げることができる。Various light-initiating systems have also been proposed when using visible light of 400 nm or more, an Ar laser, the second harmonic of a semiconductor laser, or an SHG-YAG laser as a light source. No. 2,850,445, certain photosensitive dyes, a complex initiation system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189), and a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-189).
37377), hexaarylbiimidazole and p-
Dialkylaminobenzylidene ketone system
No. 2528, JP-A-54-155292), and a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-155292).
84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-151024), a system of a 3-ketocoumarin and an activator (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 52-112681 and 5).
8-155503), a system of biimidazole, a styrene derivative, and a thiol (JP-A-59-140203), and a system of an organic peroxide and a dye (JP-A-59-140203).
JP-A-59-189340), a system of a dye having a rhodanine skeleton and a radical generator (JP-A-2-244050),
System of titanocene and 3-ketocoumarin dyes
No. 221110), a system comprising a combination of titanocene and a xanthene dye, and an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing an amino group or a urethane group (Japanese Patent Laid-Open No. 4-2).
21958, JP-A-4-219756), a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-2950)
No. 61) and the like.
【0066】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物100重量部に対し、0.05〜10
0重量部、好ましくは0.1〜70重量部、更に好まし
くは0.2〜50重量部の範囲で用いることができる。These photopolymerization initiators are used in an amount of 0.05 to 10 based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 70 parts by weight, and more preferably 0.2 to 50 parts by weight.
【0067】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て線状有機高分子重合体を含有するが、このような有機
高分子重合体としては、光重合可能なェチレン性不飽和
化合物と相溶性を有している有機高分子重合体である限
り、どれを使用してもかまわない。好ましくは水現像あ
るいは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アル
カリ水可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が選
択される。有機高分子重合体は、光重合性組成物の皮膜
形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有
機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例
えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可
能になる。このような有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59
−44615号、特公昭54−34327号、特公昭5
8−12577号、特公昭54−25957号、特開昭
54−92723号、特開昭59−53836号、特開
昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。The photopolymerizable composition usually contains a linear organic high molecular polymer as a binder. Such an organic high molecular compound has compatibility with a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound. Any organic polymer may be used as long as it has the organic polymer. Preferably, water or weakly alkaline water-soluble or swellable organic high molecular polymers that enable water development or weakly alkaline water development are selected. The organic high-molecular polymer is selected and used not only as a film-forming agent of the photopolymerizable composition but also as a water, weakly alkaline water or organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such an organic high molecular polymer include an addition polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
-44615, JP-B-54-34327, JP-B-5
Nos. 8-12577, JP-B-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymers, There are acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer and the like.
【0068】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル(メタ)
アクリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を
混和させることができる。しかし、90重量%を超える
場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与
えない。好ましくは30〜85重量%である。また光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体
は、重量比で1/9〜9/1の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は2/8〜8/2であり、更に好
ましくは3/7〜7/3である。Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. Particularly, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth)
Acrylate (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer is preferred.
In addition, polyvinyl pyrrolidone and polyethylene oxide are useful as the water-soluble organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, an alcohol-soluble polyamide, a polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These organic high-molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably it is 30 to 85% by weight. Further, the weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 9/1. A more preferred range is 2/8 to 8/2, and still more preferably 3/7 to 7/3.
【0069】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。熱重合
禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜約10重
量%が好ましい。In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of thermal polymerization is inhibited in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to add an agent. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-
Methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl −
6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is about 0.01 to the weight of the whole composition.
% To about 5% is preferred. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. . The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by weight to about 10% by weight of the whole composition.
【0070】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタ
ンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオ
レット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系
染料がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約
0.5重量%〜約5重量%が好ましい。Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. Examples of the coloring agent include phthalocyanine pigments, azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of the dye or pigment added is preferably about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.
【0071】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。In addition, additives such as an inorganic filler and a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added to improve the physical properties of the cured film.
【0072】これらの添加量は全組成物の10重量%以
下が好ましい。The amount of these additives is preferably 10% by weight or less of the total composition.
【0073】本発明の光重合性組成物を支持体上(本発
明では中間層の上)に塗布する際には種々の有機溶剤
(溶媒)に溶かして使用に供される。ここで使用する溶
媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒ
ドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、
ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、
N,N−ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシ
ド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなど
がある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用す
ることができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度
は、1〜50重量%が適当である。When the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a support (on the intermediate layer in the present invention), it is used after being dissolved in various organic solvents (solvents). As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone,
Diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether,
Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate,
N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and the like. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 1 to 50% by weight.
【0074】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。A surfactant can be added to the photopolymerizable composition of the present invention in order to improve the quality of the coated surface.
【0075】その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2
〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.
3〜5g/m2である。更に好ましくは0.7〜3g/m2であ
る。The coating amount is about 0.1 g / m 2 by weight after drying.
Range of about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, 0.
It is 3 to 5 g / m 2 . More preferably, it is 0.7 to 3 g / m 2 .
【0076】[(C)支持体]以下に本発明の光重合性
平版印刷版に使用される支持体およびその処理に関して
説明する。[(C) Support] The support used in the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention and the treatment thereof will be described below.
【0077】(アルミニウム板)本発明において用いら
れるアルミニウム板は、純アルミニウムまたはアルミニ
ウムを主成分とし微量の異原子を含むアルミニウム合金
の板状体である。この異原子には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金組成としては、10重量%
以下の異原子含有率のものである。本発明に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは、精錬技術上製造が困難であるため、でき
るだけ異原子を含まないものがよい。また、上述した程
度の異原子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明
に使用し得る素材ということができる。このように本発
明に使用されるアルミニウム板は、その組成が特に限定
されるものではなく、従来公知、公用の素材のものを適
宜利用することができる。好ましい素材としては、JI
S A 1050、同1100、同1200、同300
3、同3103、同3005材が含まれる。本発明にお
いて用いられるアルミニウム板の厚さは、約0.1mm〜
0.6mm程度である。アルミニウム板を粗面化処理する
に先立ち、表面の圧廷油を除去するための、例えば界面
活性剤またはアルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必
要に応じて行われる。(Aluminum Plate) The aluminum plate used in the present invention is a plate-like body of pure aluminum or an aluminum alloy containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign atoms. The hetero atoms include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. 10% by weight as alloy composition
It has the following heteroatom content. Aluminum that is suitable for the present invention is pure aluminum, but it is preferable that completely pure aluminum contains as little foreign atoms as possible because it is difficult to produce due to refining technology. Further, any aluminum alloy having a different atomic content of the above-described level can be said to be a material that can be used in the present invention. As described above, the composition of the aluminum plate used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known and publicly available materials can be appropriately used. The preferred material is JI
SA 1050, 1100, 1200, 300
3, 3103, and 3005 materials. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is from about 0.1 mm to
It is about 0.6 mm. Prior to the surface roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment, for example, a treatment with a surfactant or an alkaline aqueous solution, for removing the surface pressing oil is performed as necessary.
【0078】(粗面化処理および陽極酸化処理)アルミ
ニウム板の表面を粗面化処理する方法としては、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブ
ラスト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法
を用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報
に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用
することが出来る。(Roughening and Anodizing) The surface of the aluminum plate can be roughened mechanically, electrochemically dissolved and roughened, and chemically. There is a method of selectively dissolving the surface.
As the mechanical method, a known method called a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method, or the like can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
【0079】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理
に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成する
ものならばいかなるものでも使用することができ、一般
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte that forms a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0080】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一既に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流密
度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒
〜5分の範囲にあれば適当である。The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified. However, generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate.
【0081】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適
であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲で
ある。陽極酸化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が
不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易
くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆ
る「傷汚れ」が生じ易くなる。[0081] The amount of the anodized film is 1.0 g / m 2 or more is preferred, more preferably from 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratched portion during printing. "Scratch dirt" is likely to occur.
【0082】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化皮膜
が形成されるのが一般的である。[0082] Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of the lithographic printing plate, the back around the electric lines of force, on the back surface of 0.01 to 3 g / m 2 anode Generally, an oxide film is formed.
【0083】(珪酸塩処理)珪酸塩処理は、上述の処理
を施した後に用いられる親水化処理の1つであり、具体
的には、米国特許第2714066号、同318146
1号、同3280734号、同3902734号に開示
されているようなアルカリ金属珪酸盤(例えば珪酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるか、または
電解処理される。(Silica Treatment) The silicate treatment is one of the hydrophilization treatments used after the above-described treatment, and specifically, US Pat. Nos. 2,714,066 and 318,146.
No. 1, 3,280,734 and 3,902,734, there is an alkali metal silicate plate (for example, sodium silicate aqueous solution) method. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated.
【0084】珪酸塩処理について以下に説明する。The silicate treatment will be described below.
【0085】上述のように処理を施したアルミニウム板
の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30
重量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃
でのpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜8
0℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩
水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0よ
り高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いら
れるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪
酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ
金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水
酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカ
リ土類金属塩もしくは第IVB族(4A族、すなわち4
族)金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩
酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性
の塩があげられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどをあげることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独また
は2以上組み合わせて使用することができる。これらの
金属塩の好ましい範囲は0.01〜10重量%であり、
更に好ましい範囲は0.05〜5.0重量%である。The anodic oxide film of the aluminum plate treated as described above was coated with an alkali metal silicate of 0.1 to 30%.
% By weight, preferably 0.5 to 10% by weight,
Aqueous solution having a pH of 10 to 13, for example, 15 to 8
Immerse at 0 ° C for 0.5-120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution gels, and if it is higher than 13.0, the oxide film is dissolved. As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, alkaline earth metal salts or Group IVB (Group 4A, that is,
Group) metal salts may be blended. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. can give. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium potassium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight,
A more preferred range is from 0.05 to 5.0% by weight.
【0086】珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上
の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非
画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。Since the silicate treatment further improves the hydrophilicity on the aluminum plate surface, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.
【0087】(バックコート)支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。こうしたバックコ
ートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機
高分子化合物および特開平6−35174号公報記載の
有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させ
て得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いら
れる。(Backcoat) On the back surface of the support, a backcoat is provided if necessary. Examples of such a back coat include a coating composed of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used.
【0088】これらの被覆層のうち、Si(OC
H3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si
(OC4H9)4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で
入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐
現像性に優れており特に好ましい。Of these coating layers, Si (OC
H 3) 4, Si (OC 2 H 5) 4, Si (OC 3 H 7) 4, Si
Alkoxy compounds of silicon such as (OC 4 H 9 ) 4 are particularly inexpensive and readily available, and a coating layer of a metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.
【0089】[(D)酸素遮断性保護層]本発明の
(B)光重合性感光層上に必要ならば、更に(D)酸素
遮断性保護層を設けてもかまわない。(D)酸素遮断性
保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリビ
ニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、
およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を付与
するような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含
有するその共重合体があげられる。ポリビニルアルコー
ルとしては、71〜100%加水分解され、重合度が3
00〜2400の範囲のものがあげられる。具体的には
株式会社クラレ製PVA−105,PVA−110,P
VA−117,PVA−117H,PVA−120,P
VA−124,PVA−124H,PVA−CS,PV
A−CST,PVA−HC,PVA−203,PVA−
204,PVA−205,PVA−210,PVA−2
17,PVA−220、PVA−224,PVA−21
7EE,PVA−217E,PVA−220E,PVA
−224E,PVA−405,PVA−420,PVA
−613,L−8等があげられる。上記の共重合体とし
ては、88〜100%加水分解されたポリビニルアセテ
ートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニ
ルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれら
の共重合体があげられる。その他有用な重合体としては
ポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴム等
があげられ、これらは単独または、併用して用いても良
い。[(D) Oxygen-Blocking Protective Layer] If necessary, the (D) oxygen-blocking protective layer may be further provided on the (B) photopolymerizable photosensitive layer of the present invention. (D) Examples of the water-soluble vinyl polymer contained in the oxygen-barrier protective layer include polyvinyl alcohol, and partial esters and ethers thereof.
And acetal, or copolymers thereof containing substantial amounts of unsubstituted vinyl alcohol units to impart the necessary water solubility to them. Polyvinyl alcohol is hydrolyzed by 71 to 100% and has a degree of polymerization of 3
Those having a range of from 00 to 2400 are exemplified. Specifically, Kuraray's PVA-105, PVA-110, P
VA-117, PVA-117H, PVA-120, P
VA-124, PVA-124H, PVA-CS, PV
A-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-
204, PVA-205, PVA-210, PVA-2
17, PVA-220, PVA-224, PVA-21
7EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA
-224E, PVA-405, PVA-420, PVA
-613, L-8 and the like. Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal and polyvinyl acetal, and copolymers thereof. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, and these may be used alone or in combination.
【0090】本発明の酸素遮断性保護層を塗布する際用
いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エ
タノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして
塗布溶液中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当であ
る。The solvent used for coating the oxygen-barrier protective layer of the present invention is preferably pure water, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with pure water. . The concentration of the solid content in the coating solution is suitably from 1 to 20% by weight.
【0091】本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布
性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良す
るための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としては例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、プロピオンアミド、
シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等
がある。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーな
どを添加しても良い。The oxygen-barrier protective layer of the present invention may further contain known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film. Examples of the water-soluble plasticizer include polyethylene glycol, polypropylene glycol, propionamide,
There are cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.
【0092】その被覆量は乾燥後の重量で0.1〜15
g/m2の範囲が適当である。好ましくは0.5〜10g/m2
である。更に好ましくは1〜5g/m2である。The coating amount is 0.1 to 15 by weight after drying.
A range of g / m 2 is appropriate. Preferably 0.5 to 10 g / m 2
It is. More preferably, it is 1 to 5 g / m 2 .
【0093】こうして得られた感光性平版印刷版は、A
rレーザー(488nm、514.5nm)、半導体レーザ
ーの第2高調波(SHG−LD、350〜600nm)、
YAG−SHGレーザ(532nm)等により直接露光さ
れた後、現像処理される。The photosensitive lithographic printing plate thus obtained was
r laser (488 nm, 514.5 nm), second harmonic of semiconductor laser (SHG-LD, 350-600 nm),
After being directly exposed by a YAG-SHG laser (532 nm) or the like, it is developed.
【0094】現像処理に使用される現像液としては従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第ニリン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。As the developing solution used in the developing treatment, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, sodium diphosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate,
Inorganic alkali agents such as potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine,
Diisopropylamine, triisopropylamine, n-
Organic alkali agents such as butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.
【0095】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。上記のアルカリ水溶液の
内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアル
カリ金属ケイ酸塩を含有するpH12以上の水溶液であ
る。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比
率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と
濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開
昭54−62004号公報に開示されているような、S
iO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔Si
O2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5であって、SiO
2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液
や、特公昭57−7427号公報に記載されているよう
な、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち
〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、
SiO2の濃度が1〜4重量%であり、かつこの現像液
がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準
にして少なくとも20%のカリウムを含有していること
とからなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Among the above-mentioned alkaline aqueous solutions, the developing solution in which the effect of the present invention is further exhibited is an aqueous solution containing an alkali metal silicate and having a pH of 12 or more. The aqueous solution of the alkali metal silicate depends on the ratio (generally represented by the molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]) of silicon oxide SiO 2 and the alkali metal oxide M 2 O, which are the components of the silicate, and the concentration. The developing property can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004,
When the molar ratio of iO 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [Si
O 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5, and SiO 2
2 is an aqueous solution of sodium silicate having a content of 1 to 4% by weight, or [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (as described in JP-B-57-7427). That is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5),
The concentration of SiO 2 is from 1 to 4 wt%, and an alkali metal silicate which in the total alkali metal gram atom developing liquid is present therein as a reference consisting of to contain potassium of at least 20% Acid salts are preferably used.
【0096】更に、自動現像機を用いて、光重合性平版
印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の
高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、
長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量
の光重合性平版印刷版を処理することができることが知
られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく
適用される。例えば、特開昭54−62004号公報に
開示されているような現像液の〔SiO2〕/〔Na
2O〕のモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/
〔Na2O〕が1.0〜1.5)であってSiO2の含有
量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用
し、しかも光重合性平版印刷版の処理量に応じて連続的
または断続的にSiO2/Na2Oのモル比が0.5〜
1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が0.5〜1.
5)のケイ酸ナトリウム水溶液(補充液)を現像液に加
える方法、更には、特公昭57−7427号公報に開示
されている、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75
(即ち、〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)で
あって、SiO2の濃度が1〜4重量%であるアルカリ
金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用いるアル
カリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/〔M〕が0.25〜
0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が0.5〜1.
5)であり、かつこのような現像液および補充液のいず
れもがその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を
基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している
こととからなる現像方法が好適に用いられる。Further, when developing a photopolymerizable lithographic printing plate using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is added to the developing solution.
It is known that a large amount of a photopolymerizable lithographic printing plate can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. For example, [SiO 2 ] / [Na] of a developer as disclosed in JP-A-54-62004 is used.
2 O] is 1.0 to 1.5 (ie, [SiO 2 ] /
[Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4% by weight is used. Continuously or intermittently, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is 0.5 to
1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 0.5-1.
5) A method of adding an aqueous solution of sodium silicate (replenisher) to a developer, and further disclosed in JP-B-57-7427, where [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75.
(That is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and a developer of an alkali metal silicate having a SiO 2 concentration of 1 to 4% by weight is replenished. [SiO 2 ] / [M] of the alkali metal silicate used as the solution is 0.25 to 0.25
0.75 (that is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 0.5-1.
5) and wherein both such developer and replenisher contain at least 20% potassium, based on gram atoms of total alkali metal present therein. It is preferably used.
【0097】このようにして現像処理された光重合性平
版印刷版は特開昭54−8002号、同55−1150
45号、同59−58431号等の各公報に記載されて
いるように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の光重合性平版印刷版の後処理には
これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。The photopolymerizable lithographic printing plate thus developed is described in JP-A-54-8002 and JP-A-55-1150.
As described in JP-A Nos. 45 and 59-58431 and the like, post-treatment is carried out with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. . In the post-treatment of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations.
【0098】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用い
られる。The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
【0099】印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプ
レートクリーナーとしては、従来より知られているPS
版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−
1,CL−2,CP,CN−4,CN,CG−1,PC
−1,SR,IC(富士写真フイルム株式会社製)等が
挙げられる。As a plate cleaner used for removing stains on a plate during printing, a conventionally known PS cleaner is used.
A plate cleaner for plates is used, for example, CL-
1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC
-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.
【0100】[0100]
【実施例】次に、太発明の実施例を比較例とともに示
し、詳細に説明する。なお、下記実施例および比較例に
おけるパーセントは、他に指定のない限り、すべて重量
%である。Next, examples of the present invention will be described in detail with reference to comparative examples. All percentages in the following Examples and Comparative Examples are% by weight unless otherwise specified.
【0101】(実施例1〜3、比較例1)厚さ0.24
mmのJIS A1050アルミニウム板の表面をナイロ
ンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチング
した後、流水で水洗後、20%HNO3で中和洗浄、水
洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交
番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で260クーロン
/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その
表面粗さを測定したところ0.45μm (Ra表示)で
あった。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に浸漬
し、55℃で2分間デスマットした後、33℃20%H
2SO4水溶液中で電流密度5A/dm2、陽極酸化皮膜量が
2.5g/m2相当になるように陽極酸化し、水洗して基板
[A]を作成した。(Examples 1 to 3, Comparative Example 1) Thickness 0.24
The surface of a JIS A1050 mm aluminum plate was grained using a nylon brush and an aqueous suspension of pumicestone of 400 mesh, and then thoroughly washed with water. After etching by dipping in a 10% aqueous sodium hydroxide solution at 70 ° C. for 60 seconds, the substrate was washed with running water, washed with 20% HNO 3 for neutralization, and washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution at an anode electricity of 260 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7 V. When the surface roughness was measured, it was 0.45 μm (Ra indication). Subsequently, it was immersed in a 30% aqueous solution of H 2 SO 4 and desmutted at 55 ° C. for 2 minutes.
The substrate [A] was prepared by anodic oxidation in a 2 SO 4 aqueous solution so that the current density was 5 A / dm 2 and the amount of the anodic oxide film was equivalent to 2.5 g / m 2 , followed by washing with water.
【0102】基板[A]を珪酸ナトリウム2.5重量%
水溶液で70℃で10秒処理し、水洗して基板[B]を
作成した。The substrate [A] was prepared by adding 2.5% by weight of sodium silicate.
The substrate was treated with an aqueous solution at 70 ° C. for 10 seconds and washed with water to form a substrate [B].
【0103】このようにして処理された基板[B]の表
面に表1に示した本発明の高分子化合物を塗布し、80
℃で15秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、15mg/m2
であった。The polymer compound of the present invention shown in Table 1 was applied to the surface of the substrate [B] treated in this manner.
Dry at 15 ° C. for 15 seconds. The coating amount after drying is 15 mg / m 2
Met.
【0104】 表1の高分子化合物 0.3g メタノール 100g 水 1gThe polymer compound of Table 1 0.3 g methanol 100 g water 1 g
【0105】このようにして、用いた高分子化合物No.
2、8、11に応じて基板B−1、B−2、B−3を作
成した。また、高分子化合物の中間層を設けない基板B
−4を作成した。Thus, the polymer compound No.
Substrates B-1, B-2, and B-3 were prepared according to 2, 8, and 11, respectively. Further, a substrate B without an intermediate layer of a polymer compound
-4 was created.
【0106】このように処理された基板上に、下記組成
の光重合性組成物1を乾燥塗布重量が1.4g/m2となる
ように塗布し、80℃で2分間乾燥させ、光重合性感光
層を形成した。On the substrate thus treated, a photopolymerizable composition 1 having the following composition was applied so as to have a dry coating weight of 1.4 g / m 2, and dried at 80 ° C. for 2 minutes. A photosensitive layer was formed.
【0107】 [光重合性組成物1] トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル 1.5g アリルメタアクリレート/メタクリル酸(80/20重量比)の線状有機高分 子重合体Mw=4万(B1) 2.0g 下記増感剤(C1)(λmax THF(テトラヒドロフラン)472nm,ε=7.4 ×104) 0.13g 下記光開始剤(D1) 0.09g 下記チオ化合物(E1) 0.08g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g メチルエチルケトン 20.0g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20.0g [Photopolymerizable Composition 1] Trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether 1.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20 weight ratio) linear organic polymer polymer Mw = 40,000 (B 1 ) 2.0 g The following sensitizer (C 1 ) (λmax THF (tetrahydrofuran) 472 nm, ε = 7.4 × 10 4 ) 0.13 g The following photoinitiator (D 1 ) 0.09 g The following thio compound ( E 1 ) 0.08 g Fluorinated nonionic surfactant 0.03 g Methyl ethyl ketone 20.0 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20.0 g
【0108】[0108]
【化12】 Embedded image
【0109】[0109]
【化13】 Embedded image
【0110】[0110]
【化14】 Embedded image
【0111】この感光層上にポリビニルアルコール(ケ
ン化度86.5〜89モル%、重合度1000)の3重
量%の水溶液を乾燥塗布重量が2g/m2となるように塗布
し、100℃で2分間乾燥させ、光重合性平版印刷版を
得た。その印刷版を60℃の場所に3日間保存した。A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of saponification: 86.5 to 89 mol%, degree of polymerization: 1000) was coated on the photosensitive layer so that the dry coating weight was 2 g / m 2, and 100 ° C. For 2 minutes to obtain a photopolymerizable lithographic printing plate. The printing plate was stored at 60 ° C. for 3 days.
【0112】これらの版をオプトロニクス社製XLP4
000高精細レーザープロッター(空冷Arレーザー2
00mW、488nm)を用い種々のエネルギーで、400
0dpi、175線/インチの条件で網点およびベタ部
を露光した。更に膜硬化度を高める目的でその後110
℃に12秒間の後加熱処理を施した。現像は、富士写真
フイルム(株)LP−D現像液を水で10倍に希釈した
液をその液1リットルに対しあらかじめ上記の印刷版を
10m2現像処理した現像液を用いて、同社製850NX
自動現像機により30℃で、15秒間浸漬して行った。[0112] These plates were used with XLP4 manufactured by Optronics.
000 high-definition laser plotter (air-cooled Ar laser 2
00mW, 488nm) at various energies and 400
Halftone dots and solid portions were exposed under the conditions of 0 dpi and 175 lines / inch. Then 110 to further increase the degree of film hardening
A post-heating treatment was performed at 12 ° C. for 12 seconds. The development was carried out using 850NX manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. using a developer obtained by diluting a 10-fold diluted LP-D developer with water and subjecting the above printing plate to 10 m 2 development processing per liter of the solution in advance.
The immersion was performed at 30 ° C. for 15 seconds using an automatic developing machine.
【0113】耐刷性評価には印刷機としてハイデルベル
グ社製SOR−KZを使用し、湿し水はアンカー社エメ
ラルドプレミアムMXE2%希釈液を用い、インキとし
ては大日本インキ社製GEOS−G(N)を使用した。
5000枚毎に印刷物を抜き取り、175線/インチの
2%の網点を評価し、実用上許容レベルにあるとされる
枚数を調べた結果を表1に示す。For evaluation of printing durability, SOR-KZ manufactured by Heidelberg Co. was used as a printing machine, emerald premium MXE 2% diluted solution of Anchor Co., Ltd. was used as dampening solution, and GEOS-G (N )It was used.
Printed materials were sampled every 5,000 sheets, 2% of 175 lines / inch were evaluated, and the number of sheets considered to be at an acceptable level for practical use was evaluated.
【0114】また、非画像部の汚れ性を目視で10段階
評価した。10点が最も汚れず、1点が最も汚れやすい
ものである。6点が実用上許容レベルとされる。結果を
表1に示す。The stainability of the non-image area was visually evaluated on a 10-point scale. Ten points are the least stained, and one point is the most easily stained. Six points are regarded as practically acceptable levels. Table 1 shows the results.
【0115】[0115]
【表1】 [Table 1]
【0116】本発明の化合物を用いるとハイライト耐刷
および汚れ性も良好なネガ型重合性平版印刷版が得られ
た。By using the compound of the present invention, a negative-working polymerizable lithographic printing plate having excellent highlight printing durability and stain resistance was obtained.
【0117】[0117]
【発明の効果】本発明によれば、耐刷性に優れ、かつ非
画像部の汚れが少ない光重合性平版印刷版が得られる。According to the present invention, it is possible to obtain a photopolymerizable lithographic printing plate which is excellent in printing durability and has less stain on a non-image area.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今泉 充弘 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC31 CA00 CB00 DA18 DA21 DA35 FA10 2H096 AA06 BA05 BA16 CA01 CA02 CA05 EA04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Mitsuhiro Imaizumi 4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture F-term in Fujisha Shin Film Co., Ltd. BA05 BA16 CA01 CA02 CA05 EA04
Claims (1)
を施したアルミニウムまたはアルミニウム合金で形成さ
れた基板上に、酸基を有する構成成分およびオニウム基
を有する構成成分を用いて得られた高分子化合物を含む
中間層を有し、この中間層上に、活性光線により重合可
能な少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する化
合物と、線状有機高分子重合体と、光重合開始剤とを含
有する光重合性感光層を有する光重合性平版印刷版。Claims 1. An anodic oxide film is provided, and then obtained on a substrate made of silicate-treated aluminum or an aluminum alloy by using a component having an acid group and a component having an onium group. A polymer having at least one ethylenically unsaturated bond polymerizable by actinic light, a linear organic polymer, and a photopolymerization initiator. And a photopolymerizable lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29915398A JP2000112132A (en) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | Photopolymerizable planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29915398A JP2000112132A (en) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | Photopolymerizable planographic printing plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000112132A true JP2000112132A (en) | 2000-04-21 |
Family
ID=17868820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29915398A Pending JP2000112132A (en) | 1998-10-06 | 1998-10-06 | Photopolymerizable planographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000112132A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003043703A (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for processing planographic printing plate |
-
1998
- 1998-10-06 JP JP29915398A patent/JP2000112132A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003043703A (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for processing planographic printing plate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10282679A (en) | Negative type photosensitive planographic printing plate | |
JP2001125255A (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JPH10161317A (en) | Negative photosensitive lithographic printing plate | |
JP2000235254A (en) | Master plate for planographic printing plate and production of planographic printing plate using same | |
JP3756664B2 (en) | Method for producing support for lithographic printing plate | |
JP2001075279A (en) | Original plate for planographic printing plate | |
JP2001312068A (en) | Original plate of planographic printing plate | |
JP2000035673A (en) | Production of planographic printing plate | |
JP3893818B2 (en) | Master for lithographic printing plate | |
JP2003177527A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH1165096A (en) | Photosensitive planographic plate and its manufacture | |
JP4428851B2 (en) | Photopolymerizable planographic printing plate | |
JP2001264991A (en) | Original plate of planographic printing plate | |
JP2000112132A (en) | Photopolymerizable planographic printing plate | |
JP2002351071A (en) | Photosensitive composition | |
JP2000147780A (en) | Photosensitive material | |
JP5170953B2 (en) | Image forming element and image forming method | |
JP2003140357A (en) | Developer composition and method for forming image | |
JP3893446B2 (en) | Photosensitive planographic printing plate | |
JP2000081711A (en) | Manufacture of planographic printing plate | |
JP3676517B2 (en) | Negative photosensitive material | |
JP2001092117A (en) | Original plate for planographic printing plate | |
JP2004294510A (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JP3936474B2 (en) | Negative photosensitive material | |
JP2003098673A (en) | Photosensitive planographic printing plate and method for making planographic printing plate |