DE1514781C3

DE1514781C3 - Electron beam generating system

Info

Publication number: DE1514781C3
Application number: DE19651514781
Authority: DE
Inventors: Karl-Heinz Dipl.-Phys. 8000 München Steigerwald
Original assignee: Steigerwald Strahltecknik GmbH
Current assignee: Steigerwald Strahltecknik GmbH
Priority date: 1965-12-13
Filing date: 1965-12-13
Publication date: 1976-04-22

Description

Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem für hohe Strahlspannungen, bei dem die nochspannungsführenden Teile eines Elektrodensystems von einem Gefäß umgeben sind, dessen Innenwände als Isolierkörper ausgebildet sind und die hochspannungsführenden Teile zumindest teilweise mit Ab The invention relates to an electron beam generating system for high beam voltages, in which the Still live parts of an electrode system are surrounded by a vessel, the inner walls of which are designed as an insulating body and the high-voltage parts at least partially with Ab

stand umgeben.stood surrounded.

Bei bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen für hohe Strahlspannungen sind die hochspannungsführenden Teile des Elektronenstrahlsystems durch Vakuumstrecken oder Isolator-Kriechstrecken von den auf Erdpotential liegenden oder von außen zugänglichen Teilen isoliert. Insbesondere ist der Abstand zwischen den hochspannungsführenden Teilen und dem normalerweise metallischen Vakuumgehäuse an allen Stellen so groß, daß ein elektrischer Überschlag zum Gehäuse mit Sicherheit nicht auftreten kann. Halterungen für die hochspannungsführenden Teile sitzen in Isolatoren, die eine große Oberflächen-Kriechstrecke zwischen diesen Halterungen und den geerdeten Teilen, auf denen die Isolatoren aufgebaut sind, aufweisen. Bei den bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen ergeben sich bei der Verwendung hoher Strahlspannungen, etwa in der Größenordnung 100 kV, erhebliche Abmessungen, die beim praktischen Einsatz sehr hinderlich sein können. Besonders störend sind die großen Gehäusedurchmesser, die sich aus den notwenigen Abständen zwischen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem und Gehäuse-Innenwand ergeben. > Ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem der ein- I gangs genannten Art ist aus der DT-PS 8 92 348 bekannt. Bei diesem Strahlerzeugungssystem ist die Kathode des Elektrodensystems auswechselbar, wobei der Kathodenhalter als Stecker ausgebildet ist. Ein Kathodenwechsel ist jedoch bei dem bekannten Gerät insofern recht umständlich und zeitraubend, als jedes Mal der Wehnelt-Zylinder ausgebaut werden muß, um an die Kathodenhalterung heranzukommen. Insbesondere muß im Fall eines Kathodenwechsels der gesamte Strahlerzeugerkopf vom zugehörigen Korpuskularstrahlapparat getrennt werden.In known electron beam generating systems for high beam voltages, the high voltage Parts of the electron beam system through vacuum sections or insulator creepage distances isolated from the parts that are at ground potential or those that are accessible from the outside. In particular, the distance is between the high voltage parts and the normally metallic vacuum housing on all Set so large that an electrical flashover to the housing can certainly not occur. Brackets for the high-voltage parts sit in insulators that have a large surface creepage distance between these brackets and the earthed parts on which the isolators are built. In the known electron beam generation systems, when using high beam voltages, roughly in the order of 100 kV, considerable dimensions, which in practical use can be very obstructive. Particularly annoying are the large case diameters, which result from the necessary Clearances between the electron beam generation system and the inner wall of the housing. > An electron beam generating system of the type mentioned at the beginning is known from DT-PS 8 92 348. In this beam generation system, the cathode of the electrode system is exchangeable, with the Cathode holder is designed as a plug. In the known device, however, the cathode has to be changed to this extent quite cumbersome and time-consuming, as the Wehnelt cylinder has to be removed each time in order to switch on to approach the cathode holder. In particular, in the case of a cathode change, the entire Beam generator head can be separated from the associated corpuscular beam apparatus.

Ausgehend von dem bekannten Strahlerzeugungssystem liegt nun der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein System mit verhältnismäßig kleinen Abmessungen anzugeben, bei dem die Kathode in einfaeher Weise ausgewechselt werden kann, ohne daß die Halterung des Wehnelt-Systems gelöst werden müßte. Nach der Erfindung wird die gestellte Aufgabe dadurch gelöst, daß der Isolierkörper im wesentlichen hohlzylindrisch ausgebildet ist, daß ein die Außenfläche des Isolierkörpers bedeckender, geerdeter elektrischer Leiter vorgesehen ist, daß das Kathodensystem im Innern des Isolierkörpers so angeordnet ist, daß eine in Strahlrichtung hinter dem Kathodensystem liegende hintere Kammer und eine zwischen dem Kathodensystern und der Anode liegende vordere Kammer gebildet werden, und daß die hintere Kammer mit einem aus Isoliermaterial bestehenden lösbaren Deckel versehen ist, der eine metallische Abdeckung aufweist.On the basis of the known beam generation system, the present invention now has the task based on specifying a system with relatively small dimensions, in which the cathode in einfaeher Way can be replaced without having to loosen the bracket of the Wehnelt system. According to the invention, the object is achieved in that the insulating body essentially Is formed as a hollow cylinder that a grounded electrical covering the outer surface of the insulating body Head is provided that the cathode system is arranged inside the insulating body so that one in Beam direction behind the cathode system and one between the cathode system and the anode lying front chamber are formed, and that the rear chamber with one out Insulating material existing detachable cover is provided, which has a metallic cover.

Die erfindungsgemäße Ausbildung besitzt den wesentlichen Vorteil, daß das Auswechseln der Kathode nach dem öffnen der hinteren Kammer sehr einfach vorgenommen werden kann, wobei eine einmal durchgeführte genaue Ausrichtung des im Isolierkörper befestigten Wehnelt-Systems erhalten bleibt.The training according to the invention has the essential The advantage is that changing the cathode is very easy after opening the rear chamber can be made, with a once carried out precise alignment of the fixed in the insulating body Wehnelt system is retained.

Bei dem nach der Erfindung ausgebildeten Elektronenstrahl-Erzeugungssystem wird im übrigen die verhältnismäßig große Durchschlagfestigkeit des Isolierkörpers ausgenutzt, so daß zwischen den hochspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen eine erhebliche Verkleinerung des Isolationsweges möglich ist. Insbesondere werden bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem die für den Isolierkörper verwende-In the electron beam generating system designed according to the invention is also the relatively high dielectric strength of the insulating body exploited, so that between the high-voltage parts and the essentially on Parts lying at ground potential a considerable reduction of the isolation path is possible. In particular in the electron beam generating system according to the invention, the ones used for the insulating body are

ten Isolierstoffe nicht nur nach dem Gesichtspunkt ausgebildet, daß ein möglichst großer Kriechweg auf der Oberfläche der Isolierstoffteile vorhanden ist, sondern bewußt auch senkrecht zu ihrer Oberfläche mit einer elektrischen Feldstärke belastet, die einen erheblichen Bruchteil der Durchschlagfeldstärke betragen kann.th insulating materials not only designed from the point of view that the greatest possible creepage distance on the Surface of the insulating material is present, but also deliberately perpendicular to their surface with a charged electric field strength, which can be a significant fraction of the breakdown field strength.

Gemäß einer Weiterbildung des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems nach der Erfindung wird das Kathodensystem von dem Isolierkörper getragen.According to a further development of the electron beam generation system According to the invention, the cathode system is carried by the insulating body.

Vorzugsweise werden dem Kathodensystem die auf hohem Potential gegen Erde befindlichen Betriebsspannungen über Leitungen zugeführt, die den Isolierkörper durchsetzen.The operating voltages which are at high potential to earth are preferably applied to the cathode system Supplied via lines that penetrate the insulating body.

Nach einer Weiterbildung des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems nach der Erfindung kann dieses so ausgebildet sein, daß die elektrische Mitte des Kriechweges auf der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des Isolierkörpers der elektrischen Mitte des Beschleunigungssystems etwa gegenüber liegt. Durch diese Gestaltung des Aufbaues des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems wird erreicht, daß die elektrische Belastung des Isolierkörpers zumindest in der Nähe der elektrischen Mitte der Beschleunigungsstrecke etwa nur die Hälfte der gesamten Potentialdifferenz zwischen den hochspannungsführenden und geerdeten Teilen beträgt.According to a further development of the electron beam generation system According to the invention, this can be designed so that the electrical center of the creepage path on the surface of the insulating body facing the electrode system of the electrical center of the Accelerator system is about opposite. Through this design of the structure of the electron beam generating system it is achieved that the electrical load on the insulating body at least in the vicinity of the electrical center of the acceleration distance about only half of the total potential difference between the high-voltage and earthed parts.

Gemäß weiterer Ausgestaltung des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems nach der Erfindung kann der Isolierkörper derart geformt sein, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend übereinstimmen. Durch diese Gestaltung des Isolierkörpers werden die Einflüsse, die bei etwaigen Veränderungen der Oberflächenbeschaffenheit des Isolierkörpers von der dabei entstehenden Veränderung der Ladungsverteilung auf die Strahlgeometrie ausgeübt werden, weitgehend herabgesetzt.According to a further embodiment of the electron beam generation system According to the invention, the insulating body can be shaped in such a way that the creepage path certain surface potentials of the surface of the insulating body facing the electrode system with the potentials determined on this surface by the geometry of the metal parts as much as possible to match. This design of the insulating body reduces the effects of any changes the surface properties of the insulator from the resulting change in Charge distribution are exerted on the beam geometry, largely reduced.

Gemäß weiterer Ausgestaltung des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems nach der Erfindung kann vorgesehen sein, daß die sich im Betrieb erwärmenden Metallteile eine so große Berührungsfläche mit dem sie tragenden Isolierkörper haben, daß der Isolierkörper die ihm aus den Metallteilen zufließenden Wärmeströme abführen kann, ohne daß die Berührungsstellen zwischen den Metallteilen und dem Isolierkörper sich auf eine Temperatur erwärmen, die dem Material des Isolierkörpers schädlich ist.According to a further embodiment of the electron beam generation system According to the invention it can be provided that the metal parts which are heated during operation have such a large contact surface with which they supporting insulating body have that the insulating body absorbs the heat flows flowing to it from the metal parts can dissipate without the points of contact between the metal parts and the insulating body heat a temperature that is harmful to the material of the insulating body.

Zur näheren Erläuterung des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems nach der Erfindung und seiner Vorteile dient die folgende Beschreibung in Verbindung mit den Zeichnungen.For a more detailed explanation of the electron beam generation system According to the invention and its advantages, the following description is used in conjunction with the drawings.

F i g. 1 zeigt schematisch einen Axialschnitt durch den oberen Teil eines Elektronenstrahl-Erzeugungssystems, undF i g. 1 shows schematically an axial section through the upper part of an electron beam generation system, and

F i g. 2 erläutert schematisch in vergrößerter Darstellung eine Gestaltung des Isolierkörpers, ebenfalls in einem Axialschnitt.F i g. 2 schematically explains, in an enlarged representation, a design of the insulating body, also in FIG an axial section.

Das in F i g. 1 schematisch dargestellte Elektronenstrahl-Erzeugungssystem enthält ein Gefäß 1, das einen Teil des Vakuumgehäuses darstellt und im wesentlichen aus einem hohlzylindrischen Isolierkörper 5 besteht, auf dessen Außenseite 2 ein geerdeter elektrischer Leiter 3 in Form einer Blech-Ummantelung vorgesehen ist. Die Ummantelung 3 kann beispielsweise mit Hilfe von Spannbändern 30 auf den Isolierkörper 5 aufgezogen sein.The in Fig. 1 electron beam generation system shown schematically contains a vessel 1, which is part of the vacuum housing and essentially consists of a hollow cylindrical insulating body 5, on the outside 2 of which there is a grounded electrical conductor 3 is provided in the form of a sheet metal jacket. the Sheathing 3 can be pulled onto insulating body 5 with the aid of tensioning straps 30, for example being.

Im Inneren des wesentlich hohlzylindrischen Gefäßes 1 ist das Kathodensystem angeordnet, das sämtliche hochspannungsführenden Teile umfaßt; die Innenwand 4 des Gefäßes liegt verhältnismäßig dicht an dem Kathodensystem 7, 8, so daß die elektrische Isolierung zwischen dem Kathodensystem und der metallischen Umhüllung 3 im wesentlichen von der Durchschlagfestigkeit des Isolierkörpers 5 bestimmt wird. Das Kathodensystem 7, 8 ist mit Hilfe eines Tragringes 6 am Isolierkörper 5 befestigt. Der Tragring 6 kann beispielsweise, wie dargestellt, in den Isolierkörper eingegossen sein. Zu diesem Zweck kann der Isolierkörper an den Befestigungsstellen des Tragringes 6 Verstärkungen 35 aufweisen, in welchen die zweckmäßigerweise als Verankerungen ausgebildeten und aus elektrischen Gründen abgerundeten Randteile 34 des Tragringes 6 eingegossen sind. Die Berührungsfläche zwischen den Randteilen 34 und dem Isolierkörper 5 wird so groß gewählt, daß der vom Kathodensystem im Betrieb über den Tragring 6 abfließende Wärmestrom die Berührungsstellen mit dem Isolierkörper 5 nicht so hoch erwärmen kann, daß das Material, aus dem der Isolierkörper 5 besteht, in seinen Eigenschaften beeinträchtigt wird. Das Kathodensystem besteht bei der dargestellten Ausführungsform aus einer Wehneltelektrode 7, in deren Steueröffnung die V-förmige Kathode 8 liegt. Die Kathode 8 ist in einer Kathodenhalterung 32 befestigt, die mit seitlichen Isolieransätzen 36 in (nicht dargestellten) Führungsbahnen der Wehneltelektrode 7 in vorbestimmter Lage relativ zur Wehneltelektrode einsitzt. Am oberen Ende ist die Kathodenhalterung 32 mit Verankerungsmitteln versehen, die mit einem (nicht dargestellten) Schlüssel für das Herausnehmen und Einsetzen der Kathodenhalterung in Eingriff treten können. Bei der Ausführungsform nach F i g. 1 sind als Verankerungsmittel einfache Bajonettschlitze 33 angedeutet; selbstverständlich können auch andere Vorrichtungen zum Herstellen eines Eingriffs zwischen der Kathodenhalterung und einem Schlüssel verwendet werden.In the interior of the essentially hollow cylindrical vessel 1, the cathode system is arranged, which all includes high voltage parts; the inner wall 4 of the vessel is relatively close to the Cathode system 7, 8, so that the electrical insulation between the cathode system and the metallic Sheath 3 is essentially determined by the dielectric strength of the insulating body 5. The cathode system 7, 8 is fastened to the insulating body 5 with the aid of a support ring 6. The support ring 6 can, for example, as shown, be cast into the insulating body. For this purpose, the insulating body can be attached to the Fastening points of the support ring 6 have reinforcements 35, in which the expediently as anchors formed and for electrical reasons rounded edge parts 34 of the support ring 6 cast are. The contact area between the edge parts 34 and the insulating body 5 is chosen to be so large that that the heat flow flowing away from the cathode system via the support ring 6 during operation does not heat the points of contact with the insulating body 5 so much can that the material of which the insulating body 5 is impaired in its properties. In the embodiment shown, the cathode system consists of a Wehnelt electrode 7 in which Control opening the V-shaped cathode 8 is located. The cathode 8 is fastened in a cathode holder 32, those with lateral insulating lugs 36 in (not shown) guide tracks of the Wehnelt electrode 7 in a predetermined Position relative to the Wehnelt electrode. At the upper end is the cathode holder 32 with anchoring means provided with a key (not shown) for removal and insertion the cathode holder can engage. In the embodiment according to FIG. 1 are used as anchoring means simple bayonet slots 33 indicated; of course, other devices can also be used can be used to establish engagement between the cathode holder and a key.

In dem Tragring 6 sind Pumpöffnungen 9 vorgesehen, damit in den oberhalb und unterhalb des Kathodensystems liegenden Kammern 14 und 15 im wesentlichen gleiche Drücke herrschen.Pump openings 9 are provided in the support ring 6, thus in the above and below the cathode system lying chambers 14 and 15 prevail essentially the same pressures.

Wie sich aus der F i g. 1 ergibt, wird bei der dort dargestellten Ausführungsform das Kathodensystem 7, 8 von dem als Vakuumgehäuse dienenden Isolierkörper 5 getragen. Das obere Ende des Gefäßes 1 ist mit einem lösbaren Deckel 12 versehen, der ebenfalls aus Isoliermaterial besteht und einen zur Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 passenden Randabsatz 16 sowie eine metallische Abdeckung 13 aufweist. Die Abdeckung 13 kann mittels Schrauben 29 an dem Deckel 12 angeschraubt sein. Die Abdichtung zwischen dem Isolierkörper 5 und dem Deckel 12 erfolgt durch eine Ringdichtung 17.As can be seen from FIG. 1 results, in the embodiment shown there, the cathode system 7, 8 carried by the insulating body 5 serving as a vacuum housing. The upper end of the vessel 1 is with a detachable cover 12 is provided, which is also made of insulating material and one to the inner surface 4 of the insulating body 5 has matching edge shoulder 16 and a metallic cover 13. The cover 13 can be screwed to the cover 12 by means of screws 29. The seal between the insulating body 5 and the cover 12 is carried out by an annular seal 17.

Das untere Ende des Isolierkörpers 5 ist mit einem Flansch 25 versehen und mit diesem Flansch 25 an einer Anodenplatte 11 um einen Flansch 26 eines nach unten anschließenden weiteren Gehäuseteiles 20 mittels Schrauben 27 verschraubt. Um eine genaue Ausrichtung des Gefäßes 1, des Anodenringes 11 und des unteren Gehäuseteiles 20 sicherzustellen, können Paßstifte 24 vorgesehen sein. Die Abdichtung zwischen den genannten Teilen erfolgt wiederum durch Ringdichtungen 22 und 23. Die an den unteren Gehäuseteil 20 anschließenden und in diesem Gehäuseteil untergebrachten Teile sind in der F i g. 1 nicht dargestellt. Es kann sich dabei beispielsweise um elektronenoptische Syste-The lower end of the insulating body 5 is provided with a flange 25 and with this flange 25 on an anode plate 11 around a flange 26 of a further housing part 20 adjoining downwards by means of Screws 27 screwed together. To ensure precise alignment of the vessel 1, the anode ring 11 and the To ensure lower housing part 20, dowel pins 24 can be provided. The seal between the The parts mentioned are in turn carried out by means of ring seals 22 and 23 and parts accommodated in this housing part are shown in FIG. 1 not shown. It can for example, electron-optical systems

me und Vorrichtungen zur Strahlablenkung sowie Bearbeitungsräume handeln.me and devices for beam deflection as well as processing rooms.

Die Anodenplatte 11 besitzt Pumpöffnungen 18 und einen mittleren Anodenwulst 10. Unmittelbar unterhalb der Anodenplatte 11 kann an dem vom Gehäuseteil 20 umschlossenen Raum 19 ein (nicht dargestelltes) Blendensystem angebracht sein, das einen Durchtritt von verdampftem Material aus den Bearbeitungsräumen in die Innenräume 14 und 15 des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems verhindert. Die Evakuierung des Gefäßes 1 erfolgt vom Raum 19 bzw. den daran anschließenden Räumen her durch die Anodenöffnung und die Pumpöffnungen 9 und 18.The anode plate 11 has pump openings 18 and a central anode bead 10. Immediately below the anode plate 11 can have a diaphragm system (not shown) on the space 19 enclosed by the housing part 20 be appropriate that a passage of vaporized material from the processing rooms in prevents the interiors 14 and 15 of the electron gun. The evacuation of the vessel 1 takes place from space 19 or the adjoining spaces through the anode opening and the pump openings 9 and 18.

Wie aus der F i g. 1 ersichtlich, gliedert das Kathodensystem 7, 8 das Innere des Isolierkörpers 5 in eine hintere Kammer 14 und eine vordere Kammer 15; die hintere Kammer 14 kann durch Abnehmen des Deckels 12 geöffnet werden. Durch die entstandene öffnung können dann Werkzeuge, Kathoden u. dgl. in das Innere des Isolierkörpers 5 und in das Innere der nach oben offenen becherförmigen Wehneltelektrode 7 eingeführt werden.As shown in FIG. 1, the cathode system 7, 8 divides the interior of the insulating body 5 into one rear chamber 14 and a front chamber 15; the rear chamber 14 can be opened by removing the lid 12 can be opened. Tools, cathodes and the like can then enter the interior through the opening that has been created of the insulating body 5 and inserted into the interior of the cup-shaped Wehnelt electrode 7, which is open at the top will.

In den F i g. 1 und 2 ist die elektrische Mitte des Beschleunigungsweges zwischen der Kathode 8 und der Anode 10 durch die gestrichelte Linie 28 angedeutet. Man erkennt, daß bei der in den Figuren gewählten Anordnung diese Linie 28 die Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 etwa auf halbem Weg zwischen dem Tragring 6 und dem Anodenring 11 schneidet, so daß die elektrische Mitte des Beschleunigungsweges etwa der elektrischen Mitte des Kriechweges zwischen dem auf Hochspannung liegenden Anodenring 11 radial gegenüberliegt. Die sich auf der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 im Betrieb ausbildenden Oberflächenpotentiale beeinflussen die Lage des erzeugten Elektronenstrahls. Bei der in F i g. 1 und 2 dargestellten Ausführungsform ist die Ladurtgsverteilung auf der Fläche 4 im wesentlichen zeitlich konstant, da Kriechpotential und geometrisches Potential übereinstimmen.In the F i g. 1 and 2 is the electrical center of the acceleration path between the cathode 8 and the anode 10 indicated by the dashed line 28. It can be seen that in the arrangement selected in the figures, this line 28 is the inner surface 4 of the insulating body 5 cuts about halfway between the support ring 6 and the anode ring 11, so that the electrical center of the acceleration path approximately the electrical center of the creepage distance between the High voltage lying anode ring 11 is radially opposite. Which are located on the inner surface 4 of the insulating body The surface potentials that develop during operation influence the position of the electron beam generated. In the case of the in FIG. 1 and 2, the load belt distribution on the surface 4 is essentially constant over time, since creep potential and geometric potential match.

Die Zuführung der auf hohem Potential gegen Erde liegenden Betriebsspannungen zum Kathodensystem erfolgt über (nicht dargestellte) Leitungen, die vorzugsweise den Isolierkörper etwa radial durchsetzen und beispielsweise mittels einer Hochspannungs-Steck-The supply of the operating voltages with a high potential to earth to the cathode system takes place via lines (not shown) which preferably penetrate the insulating body approximately radially and for example by means of a high-voltage plug

,₅ kupplung, die am Außenmantel 3 befestigt sein kann, an Versorgungsleitungen angeschlossen sind., ₅ coupling, which can be attached to the outer jacket 3, are connected to supply lines.

In F i g. 2 ist schematisch erläutert, daß der Kriechweg auf der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 in vorbestimmter Weise verändert, beispielsweise durch die Einfügung von Wellen 91 und 92 in der Nähe des Tragringes 6 verlängert sein kann. Durch derartige oder ähnliche Maßnahmen läßt sich erreichen, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend übereinstimmen. Durch diese Maßnahme wird sichergestellt, daß gegenseitige Beeinflussungen des Elektronenstrahls und der Ladungsverteilung auf der Fläche 4 auf ein Minimum herabgesetzt werden.In Fig. 2 is explained schematically that the creepage distance changed on the inner surface 4 of the insulating body 5 in a predetermined manner, for example by the Insertion of shafts 91 and 92 in the vicinity of the support ring 6 can be extended. By such or Similar measures can be achieved that the surface potentials determined by the creepage distance of the dem Electrode system facing surface of the insulating body with the on this surface by the geometry of the Metal parts match certain potentials as much as possible. This measure will ensures that mutual influences of the electron beam and the charge distribution on the Area 4 can be reduced to a minimum.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

Claims

Patent claims:

1. Electron beam generating system for high beam voltages, in which the high voltage Parts of an electrode system are surrounded by a vessel, the inner walls of which act as an insulating body are formed and the high-voltage parts at least partially at a distance surrounded, characterized in that the insulating body (5) is essentially hollow-cylindrical is designed that the outer surface (2) of the insulating body (5) covering, grounded electrical Head (3) is provided that the cathode system (7, 8) is arranged in the interior of the insulating body (5) is that a rear chamber located behind the cathode system (7, 8) in the direction of the beam (14) and a front chamber (15) located between the cathode system (7, 8) and the anode (10) are formed, and that the rear chamber (14) with a detachable made of insulating material Lid (12) is provided which has a metallic cover (13).

2. Electron beam generating system according to claim 1, characterized in that the cathode system (7,8) is carried by the insulating body (5).

3. Electron beam generating system according to claim 2, characterized in that the cathode system (7, 8) the operating voltages that are at high potential to earth via lines are supplied, which enforce the insulating body (5).

4. Electron beam generating system according to one of claims 1 to 3, characterized in that that the electrical center of the leakage path on the surface of the electrode system facing Insulating body (5) of the electrical center (28) of the lighting path is approximately opposite.

5. Electron beam generating system according to claim 4, characterized in that the insulating body (5) is shaped such that the surface potentials determined by the creepage distance of the dem Electrode system facing surface (4) of the insulating body (5) with the on this surface through the Geometry of the metal parts (3, 7, 10, 11) match certain potentials as much as possible.

6. Electron beam generating system according to one of claims 2 to 5, characterized in that that the metal parts (6) which heat up during operation have such a large contact area with which they load-bearing insulating body (5) have that the insulating body (5) flowing to it from the metal parts (6) Can dissipate heat flows without the points of contact between the metal parts (6) and the insulating body (5) heat up to a temperature that corresponds to the material of the insulating body (5) is harmful.