vapor densityとは 意味・読み方・使い方

An SiO2 film 7 is formed so as to be filled into the trench 5 through an HDP-CVD(high density plasma- chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ＨＤＰ−ＣＶＤ法によりトレンチ５の内部に埋め込むようにＳｉＯ_2 膜７を形成する。 - 特許庁

The plurality of silicon nanocrystal embedded SiOx film layers are deposited using a high density plasma-enhanced chemical vapor deposition (HD PECVD) process.例文帳に追加

多層のシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、ＨＤＰＥＣＶＤプロセスにより堆積する。 - 特許庁

An intake oxygen density sensor 31 is installed in the intake passage, to detect fuel vapor amount in the intake.例文帳に追加

吸気通路には吸気酸素濃度センサ３１を設けて吸気中の燃料ベーパー量を検出する。 - 特許庁

In the vapor deposition system where an organic film is vapor-deposited on a substrate using a planar vapor deposition source 10 having two-dimensionally distributed crucibles 11, regarding the planar vapor deposition source 10, the arrangement density of the crucibles 11 in the peripheral region 10b is made higher than the arrangement density of the crucibles 11 in the inside region 10a.例文帳に追加

２次元的に分布する坩堝１１を有する平面蒸着源１０を用いて基板上に有機膜を蒸着する蒸着装置において、平面蒸着源１０の内部領域１０ａにおける坩堝１１の配置密度より、周辺領域１０ｂの坩堝１１の配置密度の方を高くする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method which permits sufficient cooling and permits high-density film deposition even when using a substrate, a metal foil and a metal laminate substrate having an inferior surface roughness, and a high melting point vapor deposition material.例文帳に追加

面粗度の悪い基板や、金属箔、金属積層基板、並びに高融点の蒸着材料を用いる場合においても十分な冷却を可能とし、高密度な成膜を行うことを目的とする。 - 特許庁

By changing the magnetic flux density of the surface in the vapor deposition material 21, the form of the plasma beam 17 changes.例文帳に追加

蒸着材料２１表面の磁束密度を変化させることで、プラズマビーム１７の形態が変化する。 - 特許庁

Fuel vapor quantity in intake air is detected by providing an intake air oxygen density sensor 31 in the air intake passage 10.例文帳に追加

吸気通路には吸気酸素濃度センサ３１を設けて吸気中の燃料ベーパー量を検出する。 - 特許庁

To provide a high-density plasma chemical vapor deposition system capable of minimizing the reaction of a source gas in a nozzle.例文帳に追加

ノズル内でソースガスの反応を最小化することができる高密度プラズマ化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁