vacuum devicesとは 意味・読み方・使い方

An ECR plasma is formed within the vacuum chamber 11, while gas supply devices 15, 16 introduce a sputter gas and a CVD gas into the vacuum chamber 11.例文帳に追加

真空チャンバ１１内にＥＣＲプラズマを形成し、スパッタ用ガスとＣＶＤ用ガスとをガス供給装置１５、１６によって導入する。 - 特許庁

The housing contains devices for generating vacuum 182 and 190, and regulates a vacuum intake 36.例文帳に追加

ハウジングが真空を生成する装置（１８２、１９０）を収容し、かつ真空インテーク（３６）を規定している。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus capable of removing deposits from a deposition mask in a vacuum tank in a deposition chamber more efficiently compared to conventional devices.例文帳に追加

成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

(ii) The technology (excluding programs) pertaining to the design or manufacture of vacuum microelectronics devices発音を聞く 例文帳に追加

二　真空マイクロエレクトロニクス装置の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） - 日本法令外国語訳データベースシステム

VACUUM CARTRIDGE ESPECIALLY FOR ELECTRIC PROTECTIVE DEVICES SUCH AS SWITCH AND CIRCUIT BREAKER OR THE LIKE例文帳に追加

特にスイッチや回路遮断器等の電気的保護装置用の真空カートリッジ - 特許庁

This vacuum chamber device is allowed to be mounted to a plurality of types of vacuum chamber devices by providing one common vacuum stage mounting part 54 accepting the plurality of types of vacuum chamber devices, by providing a stage moving means on one-side surface of the common vacuum stage mounting part 54 and by bringing a vacuum device mounting intermediate member 52 into contact with the opposite-side surface thereof.例文帳に追加

複数種類の真空チャンバ装置に対応する、一個の共通真空ステージ取り付け部５４を設け、共通真空ステージ取り付け部５４の一方面にステージ移動手段を設け、反対面に真空装置取り付け中間部材５２を当接させ、複数種類の真空チャンバ装置に取り付け可能とした。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner which can correspond to various cleaning forms by freely changing the combination of respective devices of the vacuum cleaner composed of a plurality of devices.例文帳に追加

複数の装置で構成される電気掃除機の各装置の組み合わせを変更可能とすることで、多様な掃除形態に対応できる電気掃除機を提供する。 - 特許庁

A multi-chamber system, having a plurality of vacuum devices (film forming apparatus, etching apparatus, heat-treatment apparatus, spare chamber, etc.), used for manufacturing a semiconductor element is characterized in that at least one of the vacuum devices is a laser beam irradiation apparatus.例文帳に追加

半導体素子の作製に供する複数の真空装置（成膜装置、エッチング装置、熱処理装置、予備室等）を有するマルチチャンバー・システムにおいて、少なくとも１つはレーザー照射装置であることを特徴とする。 - 特許庁