two-fold axisとは 意味・読み方・使い方

In a front body part 12 and a back body part 18, the body having wider width is formed as two layer outer knitted fabric turned up in mountain fold by symmetric axis line and the body having narrower width is formed as two layer inner knitted fabric turned up in valley fold.例文帳に追加

前身頃１２および後身頃１８のうち、幅広の方の身頃を対称軸線で山折りに折り返した２層の外編地とし、幅狭の方の身頃を谷折りに折り返した２層の内編地とする。 - 特許庁

This method is improved by conveying cigarette stocks having a two-fold length and/or cigarette stocks having a one-fold length at a smaller space than the length of a small binding paper piece in the horizontal axis direction between adjacent cigarette stocks, before the insertion of filter plugs.例文帳に追加

この方法は、２倍の長さのたばこストック、及び／または１倍の長さのたばこストックが、フィルタープラグの挿入の前に、隣接するたばこストックに対して、結合紙小片の長さよりも小さい横軸線方向の間隔でもって搬送されることによって改良される。 - 特許庁

The target holders 107a, 107c are first group target holders arranged two-fold symmetrical with respect to the rotational axis X, and the target holders 107b, 107d are second group target holders arranged between the first group target holders and two-fold symmetrical with respect to the rotational axis X.例文帳に追加

ターゲットホルダー１０７ａ、１０７ｃは、回転軸Ｘに対して２回対称な位置に配置される第１群のターゲットホルダーであり、ターゲットホルダー１０７ｂ、１０７ｄは、第１群のターゲットホルダー同士の間に回転軸Ｘに対して２回対称に配置される第２群のターゲットホルダーである。 - 特許庁

To provide an illuminating optical device which forms a manifold four-pole secondary light source having a simple configuration and two-fold rotation symmetrical about an optical axis, and is capable of realizing conditions different from each other in two directions that cross each other at right angles on the plane to be irradiated with light.例文帳に追加

簡易な構成にしたがって光軸に関して２回回転対称の形態を有する多様な４極状の二次光源を形成し、被照射面上の直交する二方向で互いに異なる照明条件を実現することのできる照明光学装置。 - 特許庁

In other words, electron beams EB are slanted against an optical axis O in the multipole 7 which generates six-polar fields and new two-fold symmetry third aberration S3 is introduced to each electron constituting the slanted electron beams EB.例文帳に追加

すなわち、６極場を発生している多極子７内で電子線ＥＢを光軸Ｏに対して傾斜させることにより、その傾斜された電子線ＥＢを構成する各電子に対して、新たな２回対称３次収差Ｓ３を導入している。 - 特許庁

The sputtering apparatus includes a rotatable substrate holder 103, target holders 107a-107d obliquely arranged with respect to the substrate holder 103, and a first shutter 115 and a second shutter 116 that each are provided between the target holders and the substrate holder and have two holes arranged two-fold symmetrical with respect to a rotational axis X.例文帳に追加

本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置は、回転可能な基板ホルダー１０３と、基板ホルダー１３０に対して斜めに配置されたターゲットホルダー１０７ａ〜１０７ｄと、ターゲットホルダーと基板ホルダーの間に設けられ、回転軸Ｘに対して２回対称に配置された２個の孔を有する第１シャッター１１５および第２シャッター１１６とを備える。 - 特許庁