rotating plasmaとは 意味・読み方・使い方

Furthermore, the plasma housing has an air suction hole near the rotating output end, and the air suction hole extends from an external sidewall of the plasma housing to the inside of the plasma housing.例文帳に追加

更にプラズマハウジングは回転出力端の近くに空気吸引孔を有し、空気吸引孔はプラズマハウジングの外側壁からプラズマハウジングの内部に延びる。 - 特許庁

To provide a stationary plasma generation device which can generate plasma with a rotating magnetic field alone with high precision, and is compact.例文帳に追加

回転磁場単独でプラズマを高効率で生成でき、且つ、小型である定常プラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD apparatus which can improve a temperature of a base material near a rotating electrode.例文帳に追加

回転電極近傍での基材温度の向上を図れるプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

Peripheral velocity of the output position of the plasma discharge is fixed by adjusting the rotating speed of the target surface 13a with a rotating speed adjusting means in response to the radial directional movement of the target surface 13a of the plasma discharge.例文帳に追加

プラズマ放電のターゲット面13a の径方向への移動に対応してターゲット面13a の回転速度を回転速度調整手段で調整することにより、プラズマ放電の出力位置の周速度を一定にする。 - 特許庁

Plasma 10 is generated between the cylindrical rotating electrode 2 and the substrate stage 4 by supplying high-frequency power to the cylindrical rotating electrode 2.例文帳に追加

上記円筒型回転電極２に高周波電力を供給することにより円筒型回転電極２と基板ステージ４との間でプラズマ１０を生成する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a processing chamber in which plasma is formed, a rotating body which is rotated around a shaft facing the plasma, and a space which is arranged on the side facing the plasma of a bearing part of the shaft, and has a step larger than a space between a bearing surface of the bearing part and the shaft.例文帳に追加

内部にプラズマが形成される処理室と、前記プラズマに面して軸周りに回転する回転体と、前記軸の軸受部の前記プラズマに面する側に配置され、前記軸受部の軸受面と軸との間の隙間より大きくされた段差を有する空間とを備えたプラズマ処理装置。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 1 is also provided with rotating rollers 7 arranged in the extending parts 9 to carry the glass substrate 12.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、延長部９に設けられ、ガラス基板１２の搬送を行なうための回転ローラー７をさらに備える。 - 特許庁

The welding is executed by a rotating plasma arc flame A with pilot gas flowing rate L (liter/min) at 0.7-(0.045F+0.7).例文帳に追加

パイロットガス流量Ｌ（リットル／分）を、０．７以上かつ〔０．０４５Ｆ＋０．７〕以下とした回転プラズマアーク炎Ａにて溶接する。 - 特許庁