le Sとは 意味・読み方・使い方
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「le S」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
To be concrete, the sample S is irradiated with exciting light Le and simultaneously with measuring light L2 for measuring photothermal effects generated in the sample S by the irradiation of the exciting light Le.例文帳に追加
具体的には、試料Sに対して励起光Leを照射するとともに、この励起光Leの照射により試料S内に生ずる光熱効果を測定するための測定光L2を照射する。 - 特許庁
To put it concretely, excitation light Le is applied to the sample S including aptamer capable of interaction with small biomolecules, and measuring light L2 for measuring a photothermal effect generated in the sample S by application of the excitation light Le is applied.例文帳に追加
具体的には、生体小分子との相互作用が可能なアプタマーを含む試料Sに対して励起光Leを照射するとともに、この励起光Leの照射により試料S内に生ずる光熱効果を測定するための測定光L2を照射する。 - 特許庁
Therefore, the optical path distance Lc of illumination light from the middle part of the lamp 4 to a position S to be read on the original is longer than an optical path length Le of illumination light from both terminal parts of the lamp 4 to the position S to be read on the original.例文帳に追加
このため、ランプ4の中央部から原稿の被読取位置Sまでの照明光の光路距離Lcは、ランプ4の両端部から原稿の被読取位置Sまでの照明光の光路距離Leよりも長い。 - 特許庁
Outer end pins 15E and a center pin 15C keep the horizontal posture of the substrate S by respectively supporting the substrate S and the distance between the center of the substrate S and the heating face 13a (center gap distance LC) is made shorter than the distance between the outer end of the substrate S and the heating face 13a (outer end distance LE).例文帳に追加
そして、外縁ピン15Eおよび中央ピン15Cが、それぞれ基板Sを支持して基板Sに水平姿勢を維持させ、基板Sの中央と加熱面13aとの間の距離(中央離間距離LC)を、基板Sの外縁と加熱面13aとの間の距離(外縁距離LE)よりも短くさせる。 - 特許庁
An address register value (A) 20, an addition/sub-traction offset (C) 18, a buffer area lower limit value(LB) 14, a buffer area upper limit value (LE) 12, and an addition/subtraction control signal (A/S) 16 are set up.例文帳に追加
アドレスレジスタ値A、加減算オフセットC、バッファ領域下限値LB、バッファ領域上限値LE、加減算コントロール信号A/Sを設定する。 - 特許庁
The photothermal effects of the sample S by the irradiation light Le are measured on the basis of phase changes of the measuring light L2, and the presence or absence of the occurrence of interactions between the nucleic acids and the proteins is determined on the basis of temporal changes of their measurement signals.例文帳に追加
この測定光L2の位相変化から、励起光Leによる試料Sの光熱効果を測定し、その測定信号の時間変化に基づいて核酸と蛋白質相互作用の発生の有無を判断する。 - 特許庁
The photothermal effect of the sample S caused by the excitation light Le is measured from a phase change of the measuring light L2, and generation of the interaction between the small biomolecules and the aptamer is determined based on a change with time of a measuring signal.例文帳に追加
この測定光L2の位相変化から、励起光Leによる試料Sの光熱効果を測定し、その測定信号の時間変化に基づいて生体小分子とそのアプタマーとの相互作用の発生の有無を判断する。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「le S」の意味 |
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Les
fly | 遺伝子名 | Les |
同義語(エイリアス) | Lesbian | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | --- | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0005275 |
human | 遺伝子名 | Les |
同義語(エイリアス) | FT3B; Blood group Lewis alpha-4-fucosyltransferase; CD174; MGC131739; Fucosyltransferase 3; Galactoside 3(4)-L-fucosyltransferase; FUCT-III; LE; FUT3; Lewis FT | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P21217 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:2525 | |
その他のDBのID | HGNC:4014 |
本文中に表示されているデータベースの説明
Wiktionary英語版での「le S」の意味 |
-les-
出典:『Wiktionary』 (2014/06/04 19:54 UTC 版)
語源
From lesion
派生語
関連する語
参照
- USP Dictionary of USAN and International Drug Names, U.S. Pharmacopeia, 2000
Weblio例文辞書での「le S」に類似した例文 |
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les
rudds
メカネヤマネ
lerots
テグー
tejus
つや
the blade
heathers
むら
a village
the instep
こと
a thing
the bow
wrasses
おおわれる
enveloped
terns
「le S」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
A winding portion 3 between a winding start position S of the winding portion 3 in the direction of a winding range W and an end Le of the winding portion 3 in its winding range W is formed to be bottomed up by an amount T equivalent to the outer-diameter size of the object 2 to be wound from other portions.例文帳に追加
巻き付け部3の巻き幅W方向における巻き付け開始位置Sと、前記巻き付け部3の前記巻き幅Wの端部Leと、の間の前記巻き付け部3を、その他の部分より巻き付け対象物2の外径寸法相当量Tだけ底上げ状に形成した。 - 特許庁
The resist (r) is removed from the wafer W, the unevenness of the wafer W is measured along a crossing line Lm crossing the test line Le at right angles by using a probe type shape measuring instrument S, and the etching profile of a lot is derived by calculation.例文帳に追加
ウェハWからレジストrを除去し、触針式形状測定器Sを使用して、テストラインLeと直交する横断ラインLmに沿ってウェハWの凹凸を測定し、計算によりロットのエッチングプロファイルを導き出す。 - 特許庁
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