g=eの英語

In the relation (1), ΔE_1=|E(G)-E(S)|, wherein E(G) is the color value of the ground coating film and E(S) is the color value of the island-like patterned coating film, is defined.例文帳に追加

１０≦ΔＥ≦４０・・・・・・・・・(1)式ここで、ΔＥ_１＝｜Ｅ（Ｇ）—Ｅ（Ｓ）｜ Ｅ（Ｇ）：グランド塗膜の色値 Ｅ（Ｓ）：島状模様塗膜の色値 - 特許庁

Out of end face gaps G_E lying between the ends of the effective layers 3a and the first and second end faces 11 and 12 of the ceramic sintered material 10, at least the area of the end face gaps G_E adjacent to the first and second internal electrodes 1 and 2 is formed as the Mg-rich area.例文帳に追加

また、有効層部の端部とセラミック焼結体の第１または第２の端面１１，１２との間に存在する端面側ギャップ部Ｇ_Eのうち、少なくとも第１、第２の内部電極と隣接する領域をＭｇリッチ領域とする。 - 特許庁

A dose rate calculation part 20 calculates the dose rate by multiplying the count value of each channel of the energy spectrum obtained at a multi-channel analyzer (MCA) 18 by the selected G(E) function, and by totalizing them.例文帳に追加

線量率演算部２０は、マルチチャネルアナライザ（ＭＣＡ）１８で求めたエネルギースペクトルの各チャネルの計数値に、選択されたＧ（Ｅ）関数を乗じて総和することにより、線量率を計算する。 - 特許庁

The temperature estimating means estimates the temperature of the heat medium based on a temperature T1 and a flow rate G_E of the heat medium before the heat energy is recovered by the external combustion engine.例文帳に追加

前記温度推定手段は、前記外燃機関により前記熱エネルギーが回収される前の前記熱媒体の温度Ｔ１及び流量Ｇ_Eに基づいて、前記熱媒体の温度を推定する。 - 特許庁

When the distances from the current position 20 to attendant information c-g are compared and the attendant information c-g is arranged in the ascending order of the distance to the current position 20, the attendant information c-g is arranged in the order of c, d, g, e and f.例文帳に追加

現在位置２０からこれらの付帯情報ｃ〜ｇまでの各距離を比較して、現在位置２０に近い順に並べると、ｃ，ｄ，ｇ，ｅ，ｆの順となる。 - 特許庁

Transparent electrode layers 11, 12, 13 are formed on the underside of the transparent substrate 10, on which, organic EL layers 14, 15, 16 and a metal electrode layer 17 are laminated to form plane light-emitting element regions E_R, E_G, E_B.例文帳に追加

透明基板１０の下面に透明電極層１１，１２，１３を形成し、その上に有機ＥＬ層１４，１５，１６、金属電極層１７を積層して、面状の発光素子領域Ｅ_Ｒ，Ｅ_Ｇ，Ｅ_Ｂを形成する。 - 特許庁

Etching gas G_E including hydrocarbon is supplied, and a high-frequency power P1 and a high-frequency power P2 are supplied to a bias-side electrode 13 and an inductively coupled coil 14 of the etching device 10, respectively, to generate plasma.例文帳に追加

炭化水素を含むエッチングガスＧ_Ｅを供給して、エッチング装置１０のバイアス側電極１３及び誘導結合コイル１４にそれぞれ高周波電力Ｐ１、Ｐ２を供給してプラズマを生成する。 - 特許庁

At a G, E interpolation processor 262, adjacent G's in the right and left are used for interpolating G at a pixel position at which G in a line does not exist, in the line in which G exists, and adjacent E's in the right and left are interpolated at a pixel position with no E in a line, in the line in which E exists.例文帳に追加

Ｇ，Ｅ補間処理部２６２は、Ｇが存在するラインでは、ライン内のＧが存在しない画素位置に、左右に隣接するＧを用いてＧを補間し、Ｅが存在するラインでは、ライン内のＥが存在しない画素位置に、左右に隣接するＥを補間する。 - 特許庁