etchingsとは 意味・読み方・使い方

The articles may be produced with etchings on at least a part of a surface of the article.例文帳に追加

これらの物品は、物品の表面の少なくとも一部分のエッチングを用いて製造され得る。 - 特許庁

Then, the respective etchings are conducted using separate mask patterns with the same-sized openings.例文帳に追加

この時、それぞれのエッチングは同じ大きさの開口部を有するそれぞれのマスクパターンを利用して行う。 - 特許庁

To obtain a manufacturing method of a micro structure hardly giving birth to side etchings of a conductive layer in a process of removing a sacrifice layer.例文帳に追加

犠牲層を除去する工程において導電層のサイドエッチングが生じ難いマイクロ構造体の製造方法を得る。 - 特許庁

Therefore, the substrate 10 having a ridge 10a where both sides are constituted of the {111} B faces is manufactured by those two types of etchings.例文帳に追加

これら２種類のエッチングにより、両側面が｛１１１｝Ｂ面で構成されたリッジ部１０ａを有する基板１０が作製される。 - 特許庁

Hereby, the element isolation oxide film 10 accumulated in the trench widens above the trench, and debots will not occur even by subsequent etchings.例文帳に追加

これにより、トレンチ内に堆積した素子分離酸化膜１０は、トレンチの上部で広がり、そ野後のエッチングによってもディボット２２が発生しない。 - 特許庁

To accurately repeat etchings of laminate films in a reaction chamber of an etcher, without dropping operation availability of the etcher.例文帳に追加

エッチング装置の稼働率を低下させずに、その反応室内において積層膜のエッチングを精度良く繰り返すことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Etchings to the magnetoresistive effect film and the 1st stopper layer are performed simultaneously and a pattern is formed by using at least metal of slow CMP polish rate for the first stopper layer.例文帳に追加

少なくとも第一のストッパー層をＣＭＰ研磨レートの遅い金属とすることによって、磁気抵抗効果膜と第一のストッパー層を同時にエッチングしパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing semiconductor devices wherein its sufficient characteristics can be secured for selectively etching an etched film, the upper-layer film thereof, and the lower-layer film thereof which are present on its semiconductor substrate and are object of dry etchings.例文帳に追加

ドライエッチングの対象となる半導体基板上の被エッチング膜とその上層の膜や下層の膜との選択的なエッチング特性を十分に確保し得る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁