DY2025001-北京大学原位化学气相沉积外延生长系统单一来源公示

****实验室主要从事III族氮化物半导体的外延生长动力学方面的研究，目前承担了InGaN基宽禁带半导体的外延生长动力学研究及器件研制、同步辐射X 射线原位表征氮化物半导体外延生长动力学等的研究任务；研究需要实现对III族氮化物外延生长过程的X射线实时原位在线监测。因此，在研究的过程中，就需要利用原位化学气相沉积外延生长系统在高温（1200℃）、特定气氛（氨气+氢气+氮气）和低真空（200 Torr）条件下，在沉积生长薄膜材料的同时，进行X射线表征测试。而要实现这些目的，就需要原位化学气相沉积外延生长系统具备：

1）沉积腔体侧壁能够实现X射线的完全透过；

2）灵活的腔体安装与拆卸设计：反应腔体能够方便地安装于X射线衍射仪上并灵活拆卸，以便于线站上多用户共同分享一台衍射仪而做的特殊设计。

3）在平衡态条件下可以停留任意时间以完成原位表征测试，同时能够监测从一个平衡态到另一个平衡态的变化过程。这需要系统具备精确的流量控制与实时调控能力，即能够灵活操控所有流量计和阀门，实现对外延生长过程中各项参数的随时干预和实时调节。

4）特殊设计的尾气系统：满足小型腔体的使用需求。

5）双波段激光原位控温与监测功能：配备900 nm和405 nm双波段激光，其中900 nm激光用于原位测温与温度控制，405 nm激光用于实时监测薄膜生长的厚度与曲率变化。

6）定制化气柜：

主气柜：尺寸为2000（长）x1935（高）x500（宽）mm。

副气柜：尺寸为380（长）x205（宽）x915（高），距离反应腔尽可能的近，以实现III-V族气体的快速切换，从而形成非常陡峭的异质结界面。

由于该系统计划在未来1至2年内搬迁至****中心线站，因此上述第1、2、3、4、6点的设计均旨在满足****中心线站的特殊需求。系统的初期搭建工作将在****实验室完成，以确保安装与功能的优化调试。

经过调研，目前只有楚赟精工****公司的提供的定制化“原位MOCVD外延生长系统”能够满足研究的需要；因此，特申请以单一来源的方式进行采购。

单一来源公示2025年2月7日到2025年2月14日。